一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置

    公开(公告)号:CN208833665U

    公开(公告)日:2019-05-07

    申请号:CN201821204443.2

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 本实用新型公开了一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置,包括:照明光源,待测荧光物质,含金属层芯片基底,折射率匹配油,显微物镜,反射镜,偏振元件组,滤光片,聚束透镜,水平滑轨,成像透镜,CCD图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后,产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底,在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间,照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置,提出泄露辐射霍夫变换算法对CCD图像传感器靶面进行检测,完成常规手段不易发现的CCD靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本实用新型结构简单,适用性强。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    利用线型激光源对铸造砂型进行刻槽的加工装置

    公开(公告)号:CN207464468U

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201721223557.7

    申请日:2017-09-22

    Abstract: 本实用新型公开了一种利用线型激光源对铸造砂型进行刻槽的加工装置,可高效的对铸造砂型进行宽度和深度为毫米级的刻槽,进而在铸件表面形成向外突出的文字、符号或图案标记。本实用新型依据激光烧蚀原理,采用由激光光源与光学元件组合形成的线型光源对铸造砂型进行扫描,快速获得基于铸造砂型表面向内凹进的文字、符号或图案。通过调整光学元件之间的相对位置来控制刻槽的宽度,通过改变激光器的工作频率、输出能量以及样品移动的时间间隔来控制刻槽的深度和速率。本实用新型实现了通过线型光源对铸造砂型进行快速刻槽,加工过程无接触、无机械力加载,简单且高效。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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