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公开(公告)号：CN117549685A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311739639.7
申请日：2023-12-18
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41M5/00
Abstract: 本发明属于柔性电子微纳制造相关技术领域，其公开了一种采用等离子体辅助的绝缘表面电流体喷印方法及应用，该方法包括以下步骤：采用等离子体对绝缘基板的表面进行改性处理，以向所述绝缘基板的表面注入活性基团来提升绝缘基板的表面电导率和体电导率，进而进行电流体喷印；其中，经等离子体处理后的绝缘基板表面形成有珊瑚状结构。等离子体改性处理改变了绝缘基板表面的微纳结构，向绝缘基板表面注入活性基团，改变了绝缘基板表面的电荷陷阱能级分布，提升了绝缘基板的表面电导率和体电导率，这些改变抑制了绝缘表面的电荷积累并加速了电荷耗散，消除了电场畸变从而优化了绝缘基板表面的电流体喷印效果。
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公开(公告)号：CN117320321A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311275174.4
申请日：2023-09-28
Applicant: 中国航空工业集团公司济南特种结构研究所 , 华中科技大学
Abstract: 本发明属于航空先进制造相关技术领域，其公开了一种叠层复合材料多层电路及垂直互联微孔的快速金属化方法，该方法包括以下步骤：(1)对叠层复合材料多层电路进行微孔加工；(2)将固态的焊锡丝插入微孔中，焊锡丝凸出于所述微孔；(3)挤压微孔中的焊锡丝，使焊锡丝与微孔的壁面充分接触；(4)向焊锡丝受挤压变形而形成的凹陷内填充焊锡丝并进行挤压；(5)加热微孔内的焊锡丝以使得焊锡丝融化并与多层电路中的多层金属导电层共融，完成多层电路内外层与中间金属导电层的垂直互联微孔的快速金属化。本发明实现了叠层复合材料多层电路垂直互联高密度微孔的快速金属化，从而能够快速高效、低成本、高质量的制备多层导电层垂直互联电路。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115179655A
公开(公告)日：2022-10-14
申请号：CN202210749159.8
申请日：2022-06-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷印制造相关技术领域，其公开了一种多环分瓣可调内径同轴式电喷印喷头及共形喷印方法，电喷印喷头包括墨液输送针管、喷头外壳及与墨液输送针管相连接的环电极组，墨液输送针管的一端穿过喷头外壳，环电极组螺纹连接于喷头外壳；墨液输送针管的一端用于连接注射泵，环电极组通过继电器控制模块连接于高压电源，高压电源还连接于待喷印的非平面基板；环电极组包括多个同轴设置的电极环，每个电极环被等分为多瓣；继电器控制模块用于分压控制每瓣电极环，以适应墨液输送针管的底端与非平面基板时间的距离变化及非平面基板的曲率变化。本发明解决了现有电喷印喷头在非平面基底上打印不连续、打印效果不佳等技术问题。
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公开(公告)号：CN114975778A
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202210593244.X
申请日：2022-05-27
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于柔性微电子器件制备相关技术领域，其公开了一种互补式柔性人工突触阵列及其电流体喷印制备方法，包括以下步骤：(1)在亲水处理后的透明基底上制备聚酰亚胺层；(2)在聚酰亚胺层上制备氧化铟锡调节层；(3)氧化铟锡调节层上沉积金属纳米线；(4)采用热辅助电流体喷印纺丝方式在在金属纳米线的相应位置沉积底层有机聚合物电极；(5)在底层有机聚合物电极上自下而上依次沉积下层有机阻变层、中间层有机聚合物电极、上层有机阻变层；(6)采用热辅助电流体喷印纺丝方式在每排上层有机阻变层上制备顶层有机聚合物电极，继而得到互补式柔性人工突触阵列。本发明实现了柔性人工突触结构的大规模快速制备，并克服了漏电流问题。
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公开(公告)号：CN114904674A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202210604681.7
申请日：2022-05-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于镀膜相关技术领域，其公开了一种磁场辅助机器人协同的多喷头电喷雾曲面镀膜装置。所述装置包括机械臂、通电螺线管、墨盒以及喷头，其中：通电螺线管连接于机械臂的端部，墨盒连接于所述通电螺线管的端部，喷头连接于墨盒的端部，墨盒为所述喷头供墨；所述墨盒包括多个同轴容腔，每一同轴容腔对应一进墨口以及至少一个出墨口，同一同轴容腔的出墨口对应多个喷头，进而同一同轴容腔对应多个喷头；同一同轴容腔对应的多个喷头出墨端设置导电基板，以对喷头中的墨水进行加电。本申请可以实现纳米尺寸量级液滴在大面积复杂曲面上均匀高效镀膜。
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公开(公告)号：CN109041394B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201810898129.7
申请日：2018-08-08
Applicant: 华中科技大学
IPC: H05H1/26
Abstract: 本发明属于等离子体加工领域，并具体公开了一种等离子体束径可控的静电聚焦喷头装置及喷射方法，其包括喷头组件、聚焦组件和变焦组件，喷头组件包括从上至下依次同轴设置的衔接头、辅助接头和输出接头，衔接头内开设有用于放置高压电极的通孔及进气通道，辅助接头内开设有电离腔，输出接头内开设有电极环腔，底部设有等离子束输出口；聚焦组件包括间隔设置的三个电极环，三个电极环连接不同电位且电压可调，电极环中部开设有通气孔，等离子体射流经通气孔从等离子束输出口送出；变焦组件用于调节电极环的间距，实现等离子体射流聚焦焦点的调节。本发明可实现等离子体射流焦距的调节，可用于不同高度材料的加工，并可实现曲面上的自由加工。
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公开(公告)号：CN103710759B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201310692748.8
申请日：2013-12-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: C30B31/20
Abstract: 本发明公开了一种石墨烯图形化掺杂方法，包括如下步骤：（1）将氦气与掺杂气体混合作为工作气体导入等离子体发生装置中，施加高压脉冲电压，在工作气体中放电产生室温常压等离子体，将形成的等离子体由引导管的喷嘴导出，形成微等离子体射流；（2）将喷嘴对准石墨烯薄膜的指定位置，用微等离子体射流对石墨烯薄膜进行辐照，将工作气体的活性原子掺入到被辐照的区域，在二维平面内移动微等离子体射流或石墨烯薄膜，实现对石墨烯的图形化掺杂。该方法可有效地将杂质原子掺入到石墨烯的骨架位置上，且不会对石墨烯的原本结构产生破坏，掺杂过程简单易行，设备成本低廉，可实现大规模生产。
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