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公开(公告)号:CN1977368A
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN200580021535.6
申请日:2005-05-26
Applicant: 千住金属工业株式会社
Inventor: 上岛稔
CPC classification number: B23K35/262 , B23K35/0244 , H01L24/27 , H01L24/29 , H01L24/83 , H01L2224/29 , H01L2224/29101 , H01L2224/29109 , H01L2224/29111 , H01L2224/29298 , H01L2224/83801 , H01L2924/00013 , H01L2924/01004 , H01L2924/01006 , H01L2924/01015 , H01L2924/01024 , H01L2924/01029 , H01L2924/01032 , H01L2924/01033 , H01L2924/01042 , H01L2924/01047 , H01L2924/01049 , H01L2924/0105 , H01L2924/01051 , H01L2924/01078 , H01L2924/01082 , H01L2924/0132 , H01L2924/0133 , H01L2924/014 , H01L2924/15747 , H01L2924/00 , H01L2924/01028 , H01L2924/01083 , H01L2924/3512 , H01L2924/00015 , H01L2924/00014 , H01L2224/29099 , H01L2224/29199 , H01L2224/29299 , H01L2224/2929
Abstract: 为了得到在芯片焊接接合电子零件的半导体元件和基板时,尽管是无铅软钎料的颗粒,但产生的空隙仍然少的颗粒,在软钎焊过热时,在Sn为主成分的无铅软钎料合金的表面形成:无色透明的由30~50原子%的O、5~15原子%的P以及余量实质Sn构成的保护膜;以及由10~30原子%的In、40~60原子%的O、5~15原子%的P以及余量实质Sn构成的保护膜,从而得到该颗粒,其厚度为0.05~1mm,形状与基板大致相同。
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公开(公告)号:CN1400081A
公开(公告)日:2003-03-05
申请号:CN02142912.X
申请日:2002-06-28
Applicant: 千住金属工业株式会社
IPC: B23K35/22
CPC classification number: C22C13/00 , B23K1/0016 , B23K1/085 , B23K1/203 , B23K35/262 , B23K2101/42 , H05K3/3463
Abstract: 一种适用于印刷线路板上电子元件进行浇注钎焊的无铅焊料合金,包括0.1-3wt%的Cu,0.001-0.1wt%的P,任选的0.001-0.1wt%的Ge,和剩余的Sn。焊料合金可以进一步含有总量至多为4wt%的Ag和Sb中的至少一种元素,和/或为加强合金而含有Ni、Co、Fe、Mn、Cr、和Mo中的至少一种元素,和/或为降低合金熔点而含有总量至多为5wt%的Bi、In和Zn中的至少一种元素。
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