公开(公告)号：CN101223016B

公开(公告)日：2012-02-29

申请号：CN200680025943.3

申请日：2006-07-07

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 广濑纯司 ,  福田武司

IPC: B29C39/12 ,  B24B37/27 ,  B29C67/20 ,  B32B5/20 ,  C08G18/40 ,  C08J9/30 ,  H01L21/304 ,  H01L21/683 ,  B29K75/00

CPC classification number: B29C44/06 ,  B32B5/022 ,  B32B5/20 ,  B32B5/245 ,  B32B7/12 ,  B32B27/065 ,  B32B27/12 ,  B32B27/36 ,  B32B2262/0246 ,  B32B2266/0278 ,  B32B2266/06 ,  B32B2307/724 ,  B32B2457/00 ,  B32B2457/14 ,  B32B2551/00 ,  B32B2551/08 ,  C08G18/12 ,  C08G18/4072 ,  C08G18/4277 ,  C08G18/4854 ,  C08G18/6564 ,  C08G18/6607 ,  C08G2101/00 ,  C08G2101/0008 ,  C08J9/30 ,  C08J2375/04 ,  H01L21/6836 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2924/01012 ,  Y10T428/249975 ,  Y10T428/249978 ,  Y10T428/249979 ,  Y10T428/249991 ,  C08G18/3206

Abstract: 第1发明的目的在于提供极其容易地制造保持面的表面精度高的层叠片的方法。第2发明的目的在于提供极其容易地制造保持面的表面精度高、被研磨材料的吸附性优异的层叠片的方法。第3发明的目的在于提供保持面的表面精度高、被研磨材料的吸附性优异的层叠片及其制造方法。第4发明的目的在于提供被研磨材料的吸附性优异且耐久性优异的层叠片。本发明的层叠片包括基材片和聚氨酯发泡层。

公开(公告)号：CN101448607B

公开(公告)日：2011-09-14

申请号：CN200780017994.6

申请日：2007-05-15

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  广濑纯司 ,  中井良之 ,  木村毅

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明的目的在于提供在宽波长范围(特别是短波长侧)内光学检测精度优良的抛光垫。另外，本发明的目的在于提供包括使用该抛光垫对半导体晶片的表面进行抛光的工序的半导体器件制造方法。一种抛光垫，具有包含抛光区域和光透过区域的抛光层，其特征在于，所述光透过区域由芳环浓度为2重量％以下的聚氨酯树脂形成，并且所述光透过区域的光透过率在波长300～400nm的整个范围内为30％以上。

公开(公告)号：CN101443157B

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：CN200780017751.2

申请日：2007-05-15

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  广濑纯司 ,  中井良之 ,  木村毅

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明的目的在于提供在宽波长范围(特别是短波长侧)内光学检测精度优良、并且可以防止抛光区域和光透过区域之间浆料漏出的抛光垫。一种抛光垫，在由抛光区域和光透过区域构成的抛光层的单面上至少层压透明支撑膜，其特征在于，至少包含光透过区域和透明支撑膜的光学检测区域的光透过率在波长300～400nm的整个范围内为40％以上。

公开(公告)号：CN101443157A

公开(公告)日：2009-05-27

申请号：CN200780017751.2

申请日：2007-05-15

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  广濑纯司 ,  中井良之 ,  木村毅

IPC: B24B37/04 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24B37/205

Abstract: 本发明的目的在于提供在宽波长范围(特别是短波长侧)内光学检测精度优良、并且可以防止抛光区域和光透过区域之间浆料漏出的抛光垫。一种抛光垫，在由抛光区域和光透过区域构成的抛光层的单面上至少层压透明支撑膜，其特征在于，至少包含光透过区域和透明支撑膜的光学检测区域的光透过率在波长300～400nm的整个范围内为40％以上。

公开(公告)号：CN101426618A

公开(公告)日：2009-05-06

申请号：CN200780014189.8

申请日：2007-04-19

Applicant: 东洋橡胶工业株式会社

Inventor： 福田武司 ,  渡边二夫 ,  广濑纯司 ,  中村贤治 ,  堂浦真人

IPC: B24B37/00 ,  C08J5/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: B24D11/003 ,  B24B37/205 ,  B24B37/22 ,  B24B37/24 ,  B24B37/26 ,  B24D3/32 ,  B24D18/00 ,  B29C44/24 ,  B29C44/308 ,  B29C44/32 ,  B29C44/322 ,  B29C44/326 ,  B29C44/5654 ,  C08J9/30 ,  C08J2375/08 ,  Y10T156/1052 ,  Y10T156/1059

Abstract: 本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良的抛光垫制造方法。另外，本发明的目的在于提供制造工序少、生产率优良、抛光层和缓冲层之间不产生剥离的层压抛光垫制造方法。本发明的抛光垫制造方法，包括：通过机械发泡法制备气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在送出面材的同时向其上连续地排出气泡分散的氨基甲酸酯组合物的工序；在该气泡分散的氨基甲酸酯组合物上层压另一面材的工序；通过在将厚度调节均匀的同时使气泡分散的氨基甲酸酯组合物固化而形成由聚氨酯发泡体构成的抛光层的工序；通过与面平行地将该抛光层一切为二而同时制造两片由抛光层和面材构成的长抛光层的工序；和切割长抛光层的工序。