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公开(公告)号:CN1140886C
公开(公告)日:2004-03-03
申请号:CN99800716.1
申请日:1999-02-19
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 汤田坂一夫
CPC classification number: H01L27/3246 , H05B33/12
Abstract: 一种有源矩阵发光装置,它在象素间部分的边界区(71)中象素电极(41)和发光层(43)的层间部分中具有阶梯形切割的绝缘薄膜(80),每一个阶梯形切割的绝缘薄膜(80)的上部以突出部分(8 1)的形式突出。因此,在每一个象素(7)中,甚至以覆盖多个象素的方式形成的发光层(43)也由于在突出部分(81)处产生阶梯形切口而被绝缘。因此,避免了这些象素间部分中的串扰,从而改善了显示质量。
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公开(公告)号:CN1138457C
公开(公告)日:2004-02-11
申请号:CN98801584.6
申请日:1998-08-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 汤田坂一夫
CPC classification number: H05B33/26 , H01L27/1255 , H01L27/3246 , H01L51/5253 , H01L51/5284 , H05B33/04 , H05B33/12 , H05B33/22
Abstract: 本发明的有源矩阵型显示装置1具备薄膜发光元件40,该薄膜发光元件40在每个象素7中具备象素电极41、在该象素电极41的上层侧层叠的有机半导体膜43和在该有机半导体膜43的上层侧形成的对置电极op。在对置电极op的上层形成了覆盖基板的大致整个面的保护膜60,利用该保护膜60防止水分及氧的侵入,防止薄膜发光元件40的性能变坏。
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公开(公告)号:CN1292152A
公开(公告)日:2001-04-18
申请号:CN99803261.1
申请日:1999-02-05
Applicant: 剑桥显示技术有限公司 , 精工爱普生株式会社
Inventor: 理查德·亨利·弗兰德 , 卡尔·皮什勒 , 汤田坂一夫
IPC: H01L27/15
CPC classification number: H01L27/3272 , H01L51/5284
Abstract: 一种有机发光器件,包括:一个透明盖片(22);一个位于该盖片后的有机发光材料区(24);一个位于该盖片后的用于调整流向该有机发光材料的电流的电路区域(14);和一个位于该盖片和该电路之间的不透光层(10)。
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公开(公告)号:CN100530758C
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200610144628.4
申请日:1999-03-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H05B33/22 , G02B5/201 , H01L27/322 , H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L51/0014 , H01L51/5284 , H01L2251/558 , H05B33/10 , Y10T428/24802
Abstract: 公开了诸如EL器件之类的其像素间薄膜厚度几乎没有变化的显示器件,以及一种滤色器。在衬底上设置的是由喷墨方法在要被涂敷的并由堤所分隔的区域中形成的像素,其满足公式a>d/4,d/2<b<5d,c>t0和c>d/(2b)的关系。其中a为堤的宽度,c为堤的高度,b为要被涂敷的区域的宽度,而d为或形成薄膜层的液体材料的液滴直径,t0是薄膜层的膜厚度。还公开了一种修改表面的方法,包括在形成表面的无机物堤上形成有机材料的堤,并在过量氟的条件下进行等离子体处理。还有一种方法,包括对具有由有机材料形成的堤的衬底进行氧气等离子体处理,并进行含氟气体的等离子体处理。
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公开(公告)号:CN100440437C
公开(公告)日:2008-12-03
申请号:CN200510076107.5
申请日:2005-06-08
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/208 , H01L21/336
Abstract: 本发明的目的是提供一种通过简易且廉价的工序以亚微数量级的精度形成薄膜晶体管用的栅电极和半导体膜的技术。本发明提供的薄膜晶体管的制造方法,包括半导体膜薄膜的形成方法和/或栅电极的形成方法,其中半导体膜薄膜的形成方法包括:在基板上配置包含半导体材料的液滴(14)的工序;使液滴干燥,通过在该液滴的至少周边部析出半导体材料来形成半导体膜(16)的工序,而栅电极的形成方法包括:配置含导电性材料的液滴的工序;使液滴干燥,通过在该液滴的至少周边部析出导电性材料来形成栅电极的工序。
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公开(公告)号:CN100435271C
公开(公告)日:2008-11-19
申请号:CN200510004240.X
申请日:2005-01-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/336 , H01L21/208 , H01L21/31
CPC classification number: H01L29/66757 , H01L23/544 , H01L27/1292 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
Abstract: 本发明提供一种在使用液相工艺制造器件时适用的调准方法。在包含使用液相法以在基板上形成功能膜的工序的器件的制造过程中,在形成所述功能膜(12)的基板(10)上,形成相对于在所述功能膜(12)之后形成的膜(13)显示形状的调准标记(AM1),并使用该调准标记(AM1)对所述功能膜(12)之后的膜(13)进行调准。
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公开(公告)号:CN100373657C
公开(公告)日:2008-03-05
申请号:CN99103116.4
申请日:1999-02-23
Applicant: 剑桥显示技术有限公司 , 精工爱普生株式会社
Inventor: 里查德·汉里·弗莱德 , 卡尔·罗伯特·塔恩斯 , 朱里安·卡靳斯·卡特 , 斯蒂芬·卡尔·黑斯 , 赫曼·福里克斯·威特曼 , 卡尔·皮克勒 , 汤田坂一夫
CPC classification number: H01L27/3248 , H01L51/0022 , H01L51/5206 , H01L51/5212 , H01L51/5215
Abstract: 一种形成显示装置的方法,包括:在衬底上沉积薄膜晶体管开关电路;通过喷墨印刷沉积与薄膜晶体管电路的输出电接触的透光导电有机材料的电极层;和在电极层上沉积该装置的有源区域。
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公开(公告)号:CN101068025A
公开(公告)日:2007-11-07
申请号:CN200610093443.5
申请日:1998-08-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor: 汤田坂一夫
IPC: H01L27/32 , H01L23/522
CPC classification number: H01L27/3246 , H01L27/3211 , H01L27/3276 , H01L51/0005 , H01L51/5203 , H01L51/5284
Abstract: 本发明以实现不会损伤薄膜发光元件并能在该薄膜发光元件的有机半导体膜的周围适当地形成厚的绝缘膜的显示装置为目的,显示装置包括:一个对置电极;以及多个象素,多个象素中各象素包括:象素电极;以及设置在所述象素电极和所述对置电极间的有机半导体膜,其中,除了在形成端子的区域外,所述对置电极的形成作为所述多个象素的共同之用。
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公开(公告)号:CN101005125A
公开(公告)日:2007-07-25
申请号:CN200610144630.1
申请日:1999-03-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H05B33/22 , G02B5/201 , H01L27/322 , H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L51/0014 , H01L51/5284 , H01L2251/558 , H05B33/10 , Y10T428/24802
Abstract: 公开了诸如EL器件之类的其像素间薄膜厚度几乎没有变化的显示器件,以及一种滤色器。在衬底上设置的是由喷墨方法在要被涂敷的并由堤所分隔的区域中形成的像素,其满足公式a>d/4,d/2<b<5d,c>t0和c>d/(2b)的关系。其中a为堤的宽度,c为堤的高度,b为要被涂敷的区域的宽度,而d为或形成薄膜层的液体材料的液滴直径,t0是薄膜层的膜厚度。还公开了一种修改表面的方法,包括在形成表面的无机物堤上形成有机材料的堤,并在过量氟的条件下进行等离子体处理。还有一种方法,包括对具有由有机材料形成的堤的衬底进行氧气等离子体处理,并进行含氟气体的等离子体处理。
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公开(公告)号:CN1293784C
公开(公告)日:2007-01-03
申请号:CN99800314.X
申请日:1999-03-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
CPC classification number: H05B33/22 , G02B5/201 , H01L27/322 , H01L27/3246 , H01L51/0005 , H01L51/0014 , H01L51/5284 , H01L2251/558 , H05B33/10 , Y10T428/24802
Abstract: 公开了诸如EL器件之类的其像素间薄膜厚度几乎没有变化的显示器件,以及一种滤色器。在衬底上设置的是由喷墨方法在要被涂敷的并由堤所分隔的区域中形成的像素,其满足公式a>d/4,d/2<b<5d,c>t0和c>d/(2b)的关系。其中a为堤的宽度,c为堤的高度,b为要被涂敷的区域的宽度,而d为形成薄膜层的液体材料的液滴直径,t0是薄膜层的膜厚度。还公开了一种修改表面的方法,包括在形成表面的无机物堤上形成有机材料的堤,并在过量氟的条件下进行等离子体处理。还有一种方法,包括对具有由有机材料形成的堤的衬底进行氧气等离子体处理,并进行含氟气体的等离子体处理。
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