一种新型“三明治”结构柔性传感器复合膜的制备方法

    公开(公告)号:CN113483796B

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202110659442.7

    申请日:2021-06-15

    Abstract: 本发明公开了一种新型“三明治”结构柔性传感器复合膜的制备方法。采用剑麻纤维、桃胶多糖、聚酰亚胺石墨烯炭化膜为原料,利用自组装方法制备羧基/桃胶多糖柔性膜,并与聚酰亚胺石墨烯炭化膜复合,通过模压成型方法制备具有“三明治”结构柔性传感器复合膜。本发明方法具有制备工艺简单,附着力强,传感性能显著等特点,电阻式弯曲传感器在(0°~90°~0°)800次重复快速弯曲循环后,仍然能提供稳定的电子信号。

    一种以2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸为单体的自愈合形状记忆材料的制作方法

    公开(公告)号:CN114874462A

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210309379.9

    申请日:2022-03-26

    Abstract: 在本发明中公开了一种以2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸(AMPSA)为单体的自愈合形状记忆材料的制作方法,首先将AMPSA和过硫酸铵(APS)溶解在去离子水中,将溶液倒入小烧杯中,随后加入0.48~0.96g的聚乙二醇而丙烯酸酯(PEGDA)和0.005~0.02g的氧化石墨烯粉末(GO),在冰浴条件下磁力搅拌30min后超声分散1h。最后将混合溶液倒入玻璃培养皿中,覆盖保鲜膜后于氮气保护下在高温烘箱中80℃交联固化5h,得到水凝胶。最后在80℃条件下干燥24h水凝胶得到具有自愈合性能的形状记忆材料。本发明制备方法简单,易于大规模推广应用。所述形状记忆材料拥有优异的热响应形状记忆性能、近红外光响应形状记忆性能和湿度响应形状记忆性能,并且拥有自愈合性能,可以应用在众多使用场景中。

    一种TPU基磁响应4D打印耗材的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN108384219B

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:CN201810249105.9

    申请日:2018-03-25

    Abstract: 本发明公开了一种TPU基磁响应4D打印耗材的制备方法及其应用。首先对Fe3O4进行表面活性反应制得Fe3O4活性功能颗粒,然后通过熔融共混法将Fe3O4活性功能颗粒引入形状记忆性能优异的半结晶状TPU树脂中,再通过双螺杆挤出挤出制得TPU基磁响应4D打印耗材。该TPU基磁响应4D打印耗材应用于FDM技术打印磁响应智能结构件。本发明通过简单的方法制得TPU基磁响应4D打印耗材,且所制得的TPU基磁响应4D打印耗材具有灵敏的磁响应性,以及优异的热学、力学和形状记忆性能。4D打印出的智能结构件磁响应灵敏且机械性能优异。

    一种苝酰亚胺功能化石墨烯/剑麻纤维素纳米微晶复合导热薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN110204791A

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201910596461.2

    申请日:2019-07-03

    Abstract: 本发明提供了一种苝酰亚胺功能化石墨烯/剑麻纤维素纳米微晶复合导热薄膜及其制备方法。该薄膜是利用石墨烯与苝酰亚胺的π-π堆叠作用,有效解决石墨烯在纤维素纳米微晶基体中的分散性,进而提高石墨烯在纤维素纳米微晶复合导热薄膜的导热通路。其制备方法包括:(1)取质量比为(10~90):(90~10)的苝酰亚胺功能化石墨烯水分散液和剑麻纤维素纳米微晶,混合,超声波分散均匀,搅拌,抽滤成膜;(2)将步骤(1)得到的薄膜在机械压力为10~15MPa,压制时间为5~20min下压制,即可得到苝酰亚胺功能化石墨烯/剑麻纤维素纳米微晶复合导热薄膜。本发明具有制备工艺简单、导热系数高、环保及生产成本低等特点,有望在热界面材料及其它电子产品领域有潜在的应用前景。

    一种苝酐非共价修饰石墨烯的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN106977880B

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201710219362.3

    申请日:2017-04-06

    Abstract: 本发明公开了一种苝酐非共价修饰石墨烯的制备方法及其应用。将0.02克石墨烯加入到80毫升N‑甲基吡咯烷酮中,超声分散0.5~1h,再加入0.0037克醋酸锌、0.0392克3,4,9,10‑苝四甲酸二酐和0.0242克三羟甲基氨基甲烷,继续超声分散0.5~1h,然后在氮气氛下于180℃反应10~14h,待反应结束后,将反应液倒入无水乙醇中沉析出料,过滤,所得滤出物经真空干燥,得到紫黑色产物,即为苝酐非共价修饰石墨烯。该苝酐非共价修饰石墨烯能够应用于环氧树脂基复合材料制备或高性能形状记忆聚合物制备技术领域。本发明中的制备过程非常简单,易于推广,且所制得的苝酐非共价修饰石墨烯能够用于制备环氧树脂基复合材料和高性能形状记忆聚合物,充分利用了苝酐和石墨烯性能上的协同增强效应。

    一种TPU基微波响应4D打印耗材的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN108424630A

    公开(公告)日:2018-08-21

    申请号:CN201810249115.2

    申请日:2018-03-25

    Abstract: 本发明公开了一种TPU基微波响应4D打印耗材的制备方法及其应用。首先对填料(碳纳米管、纳米碳化硅或纳米氧化锌)进行表面活性反应制得活性功能填料,然后通过熔融共混法将活性功能填料引入形状记忆性能优异的半结晶状TPU树脂中,再通过双螺杆挤出挤出制得TPU基微波响应4D打印耗材。该TPU基微波响应4D打印耗材应用于FDM技术打印微波响应智能结构件。本发明通过简单的方法制得TPU基微波响应4D打印耗材,且所制得的TPU基微波响应4D打印耗材具有灵敏的微波响应性,以及优异的热学、力学和形状记忆性能。4D打印出的智能结构件微波响应灵敏且机械性能优异。

Patent Agency Ranking