高温材料发射率测量方法和系统

    公开(公告)号:CN102928343B

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201210458688.9

    申请日:2012-11-15

    Abstract: 本发明提供了一种高温材料发射率测量方法和系统,其中所述系统包括大功率辐射源、扩束整形均束装置、真空仓、样品测试平台、旋转反射镜、显微成像装置、光谱切换装置、辐射能量成像测量装置、温度测量装置。本发明通过在被测样品上加工出黑体空腔,并用成像方法对被测材料表面和黑体空腔的辐射能量同时测量,采用窄带滤光片进行光谱选择,不仅能够保证被测材料和标准参考样品测量的同时性,也能够保证样品和参考源的完全等温,能够显著减少发射率测量的误差来源,提高测量准确度和测试的便利程度,有利于本发明的工程化应用。

    一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统

    公开(公告)号:CN103176280A

    公开(公告)日:2013-06-26

    申请号:CN201310065831.2

    申请日:2013-03-04

    Abstract: 本发明涉及光学系统设计技术领域,具体的讲是一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其中当进行探测器真空紫外相对光谱响应率校准时,所述复数个准直透镜中的特定准直透镜将110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源变为平行光发送给所述探测器;当进行光源真空紫外光谱辐照度校准时,所述复数个会聚透镜中的特定会聚透镜将经过漫射器的110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源会聚输出至标准探测器,其中经过特定漫射器对特定波段的紫外光源进行均光。通过本发明实施例使用组合式设计方法,使光学系统的7片透镜材料、波段范围和性能参数得到合理匹配,降低了成本,简化了系统结构。

    一种极远紫外探测器校准装置

    公开(公告)号:CN102998089A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210478716.3

    申请日:2012-11-23

    Abstract: 本发明提供了一种极远紫外探测器校准装置,包括光源、汇聚摆镜单元、紫外单色仪单元、探测器单元和压力差分单元。其中,汇聚摆镜单元包括一汇聚摆镜,其包括摆镜和旋转位移平台,摆镜为两块非反射面贴合的凹面反射镜,其反射镜中心轴线重合,其中一块反射镜的反射面A镀30nm~200nm反射膜,另一块反射镜的反射面B镀60nm~200nm反射膜。探测器单元包括标准探测器和待测探测器。利用本发明可以实现在30nm~200nm范围内探测器相对光谱响应度校准。本发明提供的整个装置体积小巧,接口丰富,在极紫外和远紫外辐射度校准和消除高级次光谱上有独特的设计,提高了极紫外和远紫外辐射校准的精度。

    高温材料发射率测量方法和系统

    公开(公告)号:CN102928343A

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201210458688.9

    申请日:2012-11-15

    Abstract: 本发明提供了一种高温材料发射率测量方法和系统,其中所述系统包括大功率辐射源、扩束整形均束装置、真空仓、样品测试平台、旋转反射镜、显微成像装置、光谱切换装置、辐射能量成像测量装置、温度测量装置。本发明通过在被测样品上加工出黑体空腔,并用成像方法对被测材料表面和黑体空腔的辐射能量同时测量,采用窄带滤光片进行光谱选择,不仅能够保证被测材料和标准参考样品测量的同时性,也能够保证样品和参考源的完全等温,能够显著减少发射率测量的误差来源,提高测量准确度和测试的便利程度,有利于本发明的工程化应用。

    一种超大口径红外成像系统辐射定标装置

    公开(公告)号:CN220708552U

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202321496864.8

    申请日:2023-06-12

    Abstract: 本实用新型一种超大口径红外成像系统辐射定标装置,主要由后侧双层支撑结构、底部支撑框架、吊装结构、前辅助支撑架及若干块辐射源组件组成;辐射源组件由辐射板、高低温传感器、加热片、热平衡板、后侧不锈钢框架、制冷器、隔热层及框架组成;高低温传感器测量辐射板温度,加热片给辐射板加热,热平衡板安装在加热片与制冷器之间;后侧框架固定制冷器;隔热层减小辐射板与前支撑框架之间的热传导;框架固定辐射板。利用吊装结构将辐射源组件连接固定在支撑结构上。可对红外成像系统进行精确的辐射定标和性能测试。

    一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统

    公开(公告)号:CN203084312U

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201320095024.0

    申请日:2013-03-04

    Abstract: 本实用新型涉及光学系统设计技术领域,具体的讲是一种用于真空紫外光谱参数校准的光学系统,其中当进行探测器真空紫外相对光谱响应率校准时,所述复数个准直透镜中的特定准直透镜将110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源变为平行光发送给所述探测器;当进行光源真空紫外光谱辐照度校准时,所述复数个会聚透镜中的特定会聚透镜将经过漫射器的110nm-400nm波段范围内的特定波段的紫外光源会聚输出至标准探测器,其中经过特定漫射器对特定波段的紫外光源进行均光。通过本实用新型实施例使用组合式设计方法,使光学系统的7片透镜材料、波段范围和性能参数得到合理匹配,降低了成本,简化了系统结构。

    定标黑体光源
    57.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205222679U

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201521035588.0

    申请日:2015-12-14

    Abstract: 本实用新型提供一种定标黑体光源,包括薄片衬底、设于衬底上的第一绝缘层、设于第一绝缘层上背离衬底的一侧的表面上的加热源、设于所述加热源背离第一绝缘层的一侧的表面上的第二绝缘层、设于所述第二绝缘层背离加热源的一侧的表面上的黑体薄膜、设于第一绝缘层或第二绝缘层背离衬底的一侧的表面上的温度传感器;所述加热源具有可与外电路实现电性连接的引线区,所述定标黑体光源还包括使温度传感器与引线区背离衬底的一侧均向外暴露以与外电路实现电性连接的引线通道。所述定标黑体光源升温、降温速度快,温度稳定时间仅需5-10分钟,对于面积在5cm2的光源芯片,辐射温度达到500℃时,功耗仅在50W以下,并且体积小,易于集成在成像系统内部。

    一种紫外光源均光装置
    58.
    实用新型

    公开(公告)号:CN203083699U

    公开(公告)日:2013-07-24

    申请号:CN201320095025.5

    申请日:2013-03-04

    Abstract: 本实用新型涉及紫外-真空紫外辐射计量测试领域,具体的讲是一种紫外光源均光装置,包括复数个漫射器,驱动单元;每个所述的漫射器用于对特定波段的入射紫外光进行均光和聚焦;所述驱动单元用于根据测试的需要调节相应的漫射器位于光路中。通过本实用新型实施例,由于采用了工作于110nm-400nm紫外光波段范围的复数个漫射镜均光和聚焦,保证了以点光源或面光源作为紫外光源时的光谱辐照度校准既可以产生很好的余弦校正效应,又能保证系统的信噪比。

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