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公开(公告)号：CN206926105U
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201720714632.3
申请日：2017-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本实用新型涉及激光修复领域。本实用新型提供了一种用于制备熔石英光学元件表面损伤的装置，用于人为制备出熔石英光学元件的表面损伤，以供研究其修复过程，其技术方案可概括为：用于制备熔石英光学元件表面损伤的装置，其特征在于，包括光学平台、二维平移台、金刚石压针、配重装置、显微镜及支撑装置。本实用新型的有益效果是：简单方便，适用于人为制备出熔石英光学元件的表面损伤。
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公开(公告)号：CN210347435U
公开(公告)日：2020-04-17
申请号：CN201920893363.0
申请日：2019-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本实用新型公开了一种用于原位检测密集排布大口径光学元件的安装夹持框，包括夹持框本体，所述夹持框本体的内壁上凹陷形成有一圈沿夹持框本体周向延伸的线光源安装槽，在该线光源安装槽的槽底安装有一圈沿线光源安装槽延伸的线光源，在所述线光源安装槽的槽口安装有一圈沿线光源安装槽延伸的狭缝光阑，该狭缝光阑的狭缝，在所述夹持框本体的内侧设置有两圈遮光条，所述遮光条的外缘或与狭缝光阑紧密贴合，或与夹持框本体的内壁紧密贴合。采用以上技术方案，具备了排除相邻元件干扰，配合获取无伪损伤的高质量元件损伤图像的能力，以直观地原位在线监测大口径光学元件的损伤，便捷高效获得损伤的尺寸和分布位置信息。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN209784633U
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201920893330.6
申请日：2019-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B7/00
Abstract: 本实用新型公开了一种用于大口径熔石英元件损伤修复的辅助安装装置，包括固定底座、元件转运框架以及二维移动机构，所述元件转运框架包括底板、持握结构以及若干元件夹持机构；所述二维移动机构包括安装在固定底座上的升降台以及安装在升降台上的平移组件，调节升降台和平移组件，能够改变置于平移组件上元件转运框架的位置，以将该元件转运框架夹持的大口径熔石英元件送入位于二维移动机构旁的元件固定框架中。采用以上技术方案，结构简单，操作便捷，能够稳定、可靠、高效地把大口径熔石英元件安装到修复平台的元件固定框架中，或将大口径熔石英元件从元件固定框架中卸下，保证了大口径熔石英元件的安全，避免了过去影响搬运人员健康的问题。
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公开(公告)号：CN206981987U
公开(公告)日：2018-02-09
申请号：CN201720533803.2
申请日：2017-05-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本实用新型公开了一种用于光学元件的激光预处理装置，包括：用于发出激光的激光光源；依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台；其中，激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统，光束整形系统对激光进行光束整形，将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑，最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本实用新型的激光预处理装置，形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀，并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸，进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN219455966U
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202320340631.2
申请日：2023-02-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本实用新型公开了一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置，包括对大口径光学元件进行固定的装调组件，还包括设置在待测大口径光学元件侧面，以提供损伤检测光源的照明模块；其中，所述照明模块通过相配合的线缆、接插件与装调组件上的供电模块电性连接。本实用新型提供一种用于大口径光学元件损伤观测的无线侧照明装置，该装置无需单独外接有线电源，从而极大地扩展了大口径光学元件损伤观测的使用场景，观测时侧照明LED灯条可均匀辐照于整个大口径光学元件，根据观测距离和角度的不同，可分辨出表面或体内损伤。
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公开(公告)号：CN211914389U
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN202020331407.3
申请日：2020-03-17
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本实用新型公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器，储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，结构新颖，设计巧妙，不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势，而且制备流程简单，操作方便，效率高，同时，对于非平板结构的元件，可以根据涂膜对象的形状特征，对储液器的形状进行适应性地调整，使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补，从而可以在储液器匀速升降的情况下，保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的，大幅提高涂膜的均匀性，简化升降控制机构的逻辑控制。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN206925456U
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201720714073.6
申请日：2017-06-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/082 , B23K26/064 , G02B26/10
Abstract: 本实用新型涉及激光领域。本实用新型提供了一种可旋转扫描的激光输出装置，能够使输出的激光做环状运动，其技术方案可概括为：可旋转扫描的激光输出装置，包括第一全反镜、扫描振镜、平移台、旋转台及至少一个调距全反镜，能够不需要激光发生器进行旋转及移动，只需要旋转台进行旋转及平移台进行平移即可使输出的激光随旋转台的旋转进行环状运动。本实用新型的有益效果是：结构简单，适用于激光输出装置。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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