公开(公告)号：CN1770389A

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN200510054813.X

申请日：2005-03-18

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 城户秀作

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 本发明提供可以使通过第2次显影处理可以将有机膜图案加工成新的图案形状的处理顺利进行的衬底处理方法。依次进行：用于将衬底加热的加热处理、用于将有机膜图案表面上形成的破坏层除去的前处理、用于将有机膜图案的至少一部分缩小或者将所述有机膜图案的一部分除去的显影处理(第2次)。通过在由前处理除去破坏层后进行显影处理，可以顺利地、均一性良好地进行第2次的显影处理。因此，可以均一性良好地进行在显影处理后进行的底膜的图案加工。

公开(公告)号：CN1251012C

公开(公告)日：2006-04-12

申请号：CN02132129.9

申请日：2002-08-30

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 桥本宜明 ,  田中宏明 ,  木村茂 ,  城户秀作

IPC: G02F1/136 ,  G02F1/1343 ,  H01L29/786

Abstract: 一种用来制造液晶显示器的方法，该方法提供宽视角、缩短制造过程和提供高可靠性。该方法包括形成栅极金属层、栅极绝缘层和a-硅层并且通过光刻制图形成岛的过程、形成层间绝缘膜和漏极金属层并且通过光刻制图形成漏极线的过程、形成有机的绝缘膜并且借助光刻在规定的位置形成用来提供与源极和漏极连接的有机绝缘触点的过程、以及形成透明的导电膜并且通过光刻制图形成像素电极和公共电极的过程。

公开(公告)号：CN1249523C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN02123216.4

申请日：2002-06-12

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 城户秀作

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/16 ,  G03F7/26 ,  G02F1/1333

Abstract: 利用发射到将被蚀刻的薄膜上的感光薄膜上的光量的不同，制成仅通过一个照相平版印刷步骤形成并且具有不同薄膜厚度的感光薄膜图案，利用感光薄膜图案薄膜厚度的不同对将被蚀刻的薄膜进行两次蚀刻，以便在其中形成多个图案，由此减少制造工序步骤的数量。在这种情况下，在蚀刻并除去感光薄膜图案之外的薄感光薄膜时，感光薄膜图案之外的厚感光薄膜的上层已经被改造成为几乎不受干蚀刻影响的二氧化硅薄膜，因此厚感光薄膜能保持其平面形状，并几乎与蚀刻薄感光薄膜之前厚感光薄膜的平面形状相同。因此，使用二氧化硅薄膜作为掩膜，将被蚀刻的薄膜被蚀刻为具有与设计图案几乎相同的图案。

公开(公告)号：CN1479138A

公开(公告)日：2004-03-03

申请号：CN02132130.2

申请日：2002-08-30

Applicant: NEC液晶技术株式会社

Inventor： 前田明寿 ,  安田亨宁 ,  田中宏明 ,  城户秀作

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1343

Abstract: 本发明提供了一种用于制造反射型液晶显示器的方法，它能够减少反射型液晶显示器中所使用的薄膜晶体管的制造工序的数目。在这种液晶显示器中，待与薄膜晶体管的源极连接的反射电极以及待与终端部分下层金属膜连接的终端部分连接电极被同时形成在含有多个凸起和凹入部分的有机绝缘膜上。作为反射电极和终端部分下层金属膜的材料，本发明采用了含有0.9％原子或更多Nd的Al－Nd(铝－钕)合金，它具有优良的抗腐蚀特性。