-
公开(公告)号：CN118377075B
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410811024.9
申请日：2024-06-21
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及直边衍射抑制技术领域，公开一种抑制拼接光栅拼缝的直边衍射效应的方法和光栅，包括：根据不同占空比下栅齿的衍射效率和槽深的对应关系，在拼接光栅的拼缝两侧对称设置不同槽深的栅齿；栅齿沿光栅设置的方向上，顺序排列的栅齿对应的衍射效率呈截断式非规整振幅的超高斯函数、截断式的线性函数或截断式非规整振幅的正弦函数分布。本发明可以抑制拼缝的直边衍射在衍射光场中产生的光场调制、避免调制光强分布中的极大光强对后续光学元件的物理损伤。
-
公开(公告)号：CN111065968B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201880004942.3
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的‑1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
-
-
公开(公告)号：CN108802881A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201810491052.1
申请日：2018-05-21
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
CPC classification number: G02B5/1847 , G02B5/1866
Abstract: 本发明公开了一种高衍射效率光栅结构，在一维光栅的栅齿和栅谷上分别进行微纳结构图形调控，获得多维层叠光栅结构。本发明提出在现有的光栅栅齿和栅谷制作微纳结构，形成多维层叠结构光栅，能够对入射到光栅上的光场振幅和相位进一步的调控，增加了光栅的衍射效率控制参数，利用电磁场理论优化设计微纳结构参数，可以进一步提高光栅的衍射效率。
-
公开(公告)号：CN104155709B
公开(公告)日：2017-11-28
申请号：CN201410414212.4
申请日：2014-08-21
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种透射式脉冲压缩光栅器件及其制备方法，所述器件包括熔融石英基板，设置在所述熔融石英基板的一个光学表面上的透射式脉冲压缩光栅，其特征在于：在所述熔融石英基板的另一个相对的光学表面上设有高频增透光栅微结构。采用全息光刻结合离子刻蚀转移的方法实现器件的制备。本发明通过一个器件可以同时实现光束色散和增透，提高了透射式脉冲压缩光栅激光损伤阈值和光能利用率，在超强超快激光领域具有重要应用价值。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103955128B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201410176749.1
申请日：2014-04-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅三维主动稳定控制记录方法，具体为：（1）制备两个参考光栅；（2）获得两个参考光栅的莫尔条纹；（3）在全息记录光路中放置主光栅干板，打开干涉记录光，记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像，获得参考图像；（4）实时记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像；（5）与参考图像比较，获得莫尔条纹图像移动信息，实时调节控制补偿装置，实现实时莫尔条纹图像与参考图像一致；（6）达到设定曝光时间，经显影获得主光栅。本发明通过三维主动稳定控制干涉光场，使得当记录光场相对光栅基板发生变化时，能在长时间曝光过程中实现实时动态补偿，提高大口径光栅全息记录的稳定性。
-
公开(公告)号：CN101840193B
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201010142320.2
申请日：2010-03-25
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/32 , G02B5/1857 , G02B26/0825 , G03H1/04 , G03H2001/0439
Abstract: 本发明公开了一种在有像差光栅基底上制作低衍射波像差光栅的方法。由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场，在全息记录基板上进行全息曝光，经显影后，获得所需光栅。其特征在于：在其中一束记录光束的发散光路中放入一个变形镜，通过控制变形镜，获得用于补偿全息光栅基底像差的全息记录干涉光场。在此过程中，由变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统；利用经过上述对变形镜调整后获得的全息干涉记录光场对涂有感光材料的全息记录基板曝光，记录全息光栅，经显影，完成所需低衍射像差光栅的制作。
-
公开(公告)号：CN101799569B
公开(公告)日：2011-10-26
申请号：CN201010126045.5
申请日：2010-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
-
公开(公告)号：CN101382612B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810155640.4
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅单次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
-
公开(公告)号：CN101840193A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010142320.2
申请日：2010-03-25
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/32 , G02B5/1857 , G02B26/0825 , G03H1/04 , G03H2001/0439
Abstract: 本发明公开了一种在有像差光栅基底上制作低衍射波像差光栅的方法。由一平行光记录光束和另一波面可调的平行光记录光束组成全息干涉记录光场，在全息记录基板上进行全息曝光，经显影后，获得所需光栅。其特征在于：在其中一束记录光束的发散光路中放入一个变形镜，通过控制变形镜，获得用于补偿全息光栅基底像差的全息记录干涉光场。在此过程中，由变形镜、变形镜控制器与干涉仪三者构成全息记录干涉光场的闭环控制和检测系统；利用经过上述对变形镜调整后获得的全息干涉记录光场对涂有感光材料的全息记录基板曝光，记录全息光栅，经显影，完成所需低衍射像差光栅的制作。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
57
records
(took 0.022 seconds)
