双光束干涉光刻方法和系统

    公开(公告)号:CN102722091A

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN201210229675.4

    申请日:2012-07-04

    Applicant: 苏州大学

    Inventor: 胡进 浦东林

    Abstract: 本发明公开了一种双光束干涉光刻方法和系统,其方法包括:两路光束在加工工件表面实现N次干涉曝光,相邻两次曝光位置之间的错位值为dI/N,其中,N≥2,dI为曝光后的光强分布的周期,所述两路光束干涉后的光场复振幅分布为余弦函数。通过本发明的双光束干涉光刻方法,可以在光刻胶上直接制备大幅面的精密多台阶结构,加工效率高,而且所采用的元器件容易获得,成本低。

    并行光刻直写系统
    43.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101846890A

    公开(公告)日:2010-09-29

    申请号:CN201010170978.4

    申请日:2010-05-13

    Abstract: 本发明公开了一种并行光刻直写系统,包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台,其特征在于:还设有聚焦伺服系统,所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置,所述光学系统由微缩系统和检测光路构成,其中的微缩系统采用双远心光学系统,检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件,检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上,反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收,控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作,实现伺服聚焦。本发明通过结合聚焦成像伺服系统,可以实现亚微米尺度微结构的精确光刻。

    激光精密熔覆光粉同轴装置

    公开(公告)号:CN1814391A

    公开(公告)日:2006-08-09

    申请号:CN200510112041.0

    申请日:2005-12-27

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种激光精密熔覆光粉同轴装置,由筒体、聚焦镜、光束吸收体、固定于桶体上的送粉管,以及冷却水套、保护气管等,特征是:沿入射光方向设在筒体内腔的反射镜,镜面中心开有一通孔、与镜片外沿连通的通槽;在该反射镜背面的入射光延伸方向的筒体内还设置着一带冷却水道的内锥面光束吸收体;在型状桶体的下部腔体内安置着一片聚焦镜,在聚焦镜以下的筒腔内设一根自筒外伸进的弯折形送粉管,弯折后的管体延伸部、与设于上部腔体内的聚焦镜、以及反射镜上的通孔的中心在同一轴线位置。本发明从聚焦光束中心送粉,真正实现光、粉同轴,结构简单,调节容易,送粉准确稳定,适于激光熔覆、激光合金化、激光焊接、激光快速原型制造等。

    一种反射式分光光栅及干涉光刻系统

    公开(公告)号:CN103424795B

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201310395380.9

    申请日:2013-09-03

    Applicant: 苏州大学

    CPC classification number: G02B5/1861 G03F7/70408

    Abstract: 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统,该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区,所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构,该光栅结构具有槽形反射面和非反射区,所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制,使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率,通过该反射式分光光栅的获得的干涉图形,具有良好的边界质量,能够完成进行精密的拼接图形,使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。

    一种并行激光直写系统及光刻方法

    公开(公告)号:CN103777474A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201410076822.8

    申请日:2014-03-04

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种并行激光直写系统及光刻方法,通过设置两个或多个图形发生器,将不同的图形发生器按不同的角度放置,使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示,从而消除了原有的斜线上的锯齿现象,并保证了直线和斜线之间的线宽相等,提高了图形的线宽均匀性,使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

    光学加工系统和方法
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102591159B

    公开(公告)日:2013-10-09

    申请号:CN201210076397.3

    申请日:2012-03-21

    Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统,包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中,位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器、位置信号处理模块和偏差筛选模块。本发明的光学加工系统中,加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动,光学模板实现第三运动轴的扫描运动,通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿,实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步,从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工,其加工效率和加工精度大幅提升。

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