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公开(公告)号:CN104342704A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201410557069.4
申请日:2014-10-20
Applicant: 苏州大学
IPC: C23F3/02
Abstract: 一种无氧化剂的碱性铝合金抛光液,按照质量百分比,包括1~5%络合剂、0.5~3%缓蚀剂、0.5~1%表面润滑活性剂、3~20%研磨剂、余量为水以及将抛光液pH调节至8~10的pH调节剂,研磨剂为微米级三氧化二铝和纳米级三氧化二铝的混合物;在液态水中加入表面润滑活性剂和研磨剂,搅拌均匀,加入缓蚀剂和络合剂,搅拌均匀,采用pH调节剂将溶液pH值调节到8-10即得。该抛光液可以大大增强磨料的悬浮性和抛光液的流动性,降低了表面划痕损伤,配合高效络合剂和缓蚀剂,无氧化剂的条件下,获得了材料高速去除速率和平坦化表面质量;抛光效率高,使用寿命长,对抛光机没有严重腐蚀效应;制备方法简单、易于生产,方便操作。
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公开(公告)号:CN203796552U
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN201420068934.4
申请日:2014-02-18
Applicant: 苏州大学
Inventor: 王永光
Abstract: 一种具有减摩特性的斜盘式柱塞泵,包括缸体和配油盘,所述配油盘设置于所述缸体底部,所述缸体和配油盘形成摩擦副,所述缸体底部与所述配油盘相接触处设置有减摩层。本实用新型所揭示的具有减摩特性的斜盘式柱塞泵,通过在所述缸体底部与所述配油盘相接触处设置有减摩层,可有效避免缸体底部与配油盘直接接触相互摩擦引起的严重磨损,从而提高缸体与配油盘的使用寿命,进而提高整个柱塞泵的使用寿命。
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公开(公告)号:CN210281867U
公开(公告)日:2020-04-10
申请号:CN201921151577.7
申请日:2019-07-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本实用新型公开了一种电诱导辅助化学机械抛光测试装置,包括:抛光液池、抛光垫、抛光盘、抛光头、驱动器、负电极以及外接电源;所述抛光液池用于盛装抛光电解液,其通过所述抛光盘带动而旋转;所述抛光垫贴合于抛光液池的底壁上;所述抛光头用于固定待抛光的晶片,并通过所述驱动器驱动而与所述抛光垫相对反向旋转,以对晶片进行机械抛光;所述外接电源的正极与所述晶片接通,负极与所述负电极接通。本实用新型的电诱导辅助化学机械抛光测试装置,通过电诱导作用的方式,增强晶片的氧化腐蚀,提高材料去除率,降低晶片抛光的生产成本,改善晶片的表面质量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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