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公开(公告)号：CN106292200A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610829203.0
申请日：2016-09-19
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G03F7/2022 , G01N21/658 , G03F7/70408
Abstract: 本发明公开了一种制作表面拉曼增强基底的方法与光刻系统，利用两束相干光产生干涉，在光刻胶表面记录相干光的干涉条纹，通过控制两束光的角度，精密控制光栅的周期；再通过实时显影在光刻胶表面形成浮雕型的光栅；最后在光栅表面用镀膜设备镀一层表面增强拉曼散射金属活性层。解决了用简单的方法与设备来得到大面积周期性表面拉曼增强基底的技术难题。
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公开(公告)号：CN105700320A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610228247.8
申请日：2016-04-13
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G03H1/08 , G02B27/2214 , G03H1/2294
Abstract: 本发明公开了一种基于空间光调制器的全息三维显示方法及装置，显示装置由激光光源、偏振调制器件、分光棱镜、空间光调制器、计算机、透镜、基于像素型纳米光栅的定向衍射屏构成。获取目标物体的多视角二维图像，经预处理变换过程后生成一组用于位相型全息图计算的图像阵列。应用迭代傅里叶变换算法计算相应的位相型全息图，并将全息图加载到空间光调制器中，利用激光光源照射全息图得到全息再现像。设计并制作基于像素型纳米光栅的定向衍射屏，将相应的再现像像素定向衍射到固定的位置，形成不同的视点。结合空间光调制器对全息图的快速刷新加载，实现目标物的多视角全视差动态全息三维再现，为裸眼三维显示技术的应用提供切实可行的方案。
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公开(公告)号：CN102323634B
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201110318455.4
申请日：2011-10-19
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/1857 , G02B5/18 , G02B5/1842 , G02B5/1847 , G02B5/1861 , G02B5/203 , G02B5/32 , G03F7/0005 , G03H1/0244 , G03H1/0402 , G03H1/0476 , G03H1/181 , G03H1/182 , G03H2001/0439 , G03H2224/04 , G03H2260/14 , G03H2260/63
Abstract: 本发明是一种全息双闪耀光栅的制作方法，所述全息双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角，通过A、B两个光栅区上分别使用光刻胶光栅和同质光栅为掩模进行斜向离子束刻蚀，实现两个闪耀角的不同控制，避免了二次光刻胶光刻工艺。由于在制作同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成，两者的刻蚀速率始终保持一致，因此可以实现闪耀角的精确控制。
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公开(公告)号：CN103955128A
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201410176749.1
申请日：2014-04-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息光栅三维主动稳定控制记录方法，具体为：（1）制备两个参考光栅；（2）获得两个参考光栅的莫尔条纹；（3）在全息记录光路中放置主光栅干板，打开干涉记录光，记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像，获得参考图像；（4）实时记录记录光场与两参考光栅形成的莫尔条纹图像；（5）与参考图像比较，获得莫尔条纹图像移动信息，实时调节控制补偿装置，实现实时莫尔条纹图像与参考图像一致；（6）达到设定曝光时间，经显影获得主光栅。本发明通过三维主动稳定控制干涉光场，使得当记录光场相对光栅基板发生变化时，能在长时间曝光过程中实现实时动态补偿，提高大口径光栅全息记录的稳定性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102565905A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201210035301.9
申请日：2012-02-16
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明是一种凸面双闪耀光栅的制备方法，该制备方法是在一球冠状凸面基底上制备两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角的凸面双闪耀光栅，通过A、B两个光栅区上分别使用光刻胶光栅和同质光栅为掩模进行球面转动斜向Ar离子束扫描刻蚀，实现两个闪耀角的不同控制，避免了二次光刻胶光刻工艺。由于在制备同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成，两者的刻蚀速率始终保持一致，因此可以实现闪耀角的精确控制。
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公开(公告)号：CN102540301A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201210035307.6
申请日：2012-02-16
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明是一种凸面双闪耀光栅的制作方法，所述凸面双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角，通过先在基片上制作A、B两种同质光栅，以该两种同质光栅为掩模，进行球面转动斜向Ar离子束扫描刻蚀得到所需的A、B闪耀光栅。由于在制作同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成，两者的刻蚀速率始终保持一致，因此可以实现闪耀角的精确控制。
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公开(公告)号：CN102540300A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201210035270.7
申请日：2012-02-16
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/1857 , G03F7/001 , G03H2260/14 , G03H2260/63
Abstract: 本发明是一种凸面双闪耀光栅的制备方法，所述凸面双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角，通过先在基片上制备A、B两种同质光栅，以该两种同质光栅为掩模，进行斜向离子束刻蚀得到所需的A、B闪耀光栅。由于在制备同质光栅时，可以通过控制正向离子束刻蚀的时间以及增加灰化工艺，使同质光栅的占宽比、槽深和槽型得到精确控制，另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成，两者的刻蚀速率始终保持一致，因此可以实现闪耀角的精确控制。
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公开(公告)号：CN102323634A
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：CN201110318455.4
申请日：2011-10-19
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/1857 , G02B5/18 , G02B5/1842 , G02B5/1847 , G02B5/1861 , G02B5/203 , G02B5/32 , G03F7/0005 , G03H1/0244 , G03H1/0402 , G03H1/0476 , G03H1/181 , G03H1/182 , G03H2001/0439 , G03H2224/04 , G03H2260/14 , G03H2260/63
Abstract: 本发明是一种全息双闪耀光栅的制作方法，所述全息双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角，通过A、B两个光栅区上分别使用光刻胶光栅和同质光栅为掩模进行斜向离子束刻蚀，实现两个闪耀角的不同控制，避免了二次光刻胶光刻工艺。由于在制作同质光栅时，可以控制正向离子束刻蚀的时间，使同质光栅的槽深得到精确控制，另外由于同质光栅掩模和基片是同一种材质形成，两者的刻蚀速率始终保持一致，因此可以实现闪耀角的精确控制。
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公开(公告)号：CN101546001A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200910031556.6
申请日：2009-04-23
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种无缝拼接大面积全息光栅的制备方法，利用第一参考光栅在干涉记录光场中的光学特性实时检测干涉记录光场与已记录主光栅部分之间位相和倾斜，利用第二参考光栅实时检测主光栅的位置，以实现光栅准确的无缝拼接。本发明创造性地提出了设置两个参考光栅的技术方案，通过第一参考光栅实现左、右两侧的调整，通过第二参考光栅解决移除第一参考光栅时造成的影响，从而实现了大面积全息光栅的无缝拼接，保证了衍射光栅线条的等距和平直性精度要求。
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