LED安装基板的制造方法、清洗液及清洗方法

    公开(公告)号:CN119422465A

    公开(公告)日:2025-02-11

    申请号:CN202380051639.X

    申请日:2023-07-03

    Abstract: 本发明为一种LED安装基板的制造方法,具有利用碱性清洗液对通过激光剥离而自蓝宝石基板上移载至受体基板上的LED芯片进行清洗的工序。由此,提供一种能够选择性地将通过激光剥离而自蓝宝石基板上移载至受体基板上的LED芯片上所附着的金属Ga在不会使其他金属溶解、改性的情况下去除来制造LED安装基板的LED安装基板的制造方法;能够用于其的清洗液;以及选择性地将LED芯片上所附着的镓在不会使其他金属溶解、改性的情况下去除的清洗方法;及自表面具有镓与镓以外的金属的零件中在不会使镓以外的金属溶解、改性的情况下选择性地将镓去除的清洗方法。

    半导体器件、制备方法和层合体

    公开(公告)号:CN108666224B

    公开(公告)日:2023-09-05

    申请号:CN201810254959.6

    申请日:2018-03-27

    Abstract: 提供了半导体器件,其包括支撑体、粘合树脂层、绝缘层、重布线层、芯片层和模塑树脂层。粘合树脂层树脂层(A)和树脂层(B)组成,所述树脂层(A)包含在其主链中含有稠环的光分解性树脂,所述树脂层(B)包含非有机硅系热塑性树脂并且具有在25℃为1‑500MPa的储能弹性模量E’和5至50MPa的拉伸断裂强度。所述半导体器件易于制造并且具有耐热加工性,容易分离所述支撑体并且有效地生产半导体封装。

    化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法

    公开(公告)号:CN108107676B

    公开(公告)日:2023-02-21

    申请号:CN201711186205.3

    申请日:2017-11-24

    Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂膜层叠体和图案形成方法。提供层叠体,其包括热塑性膜和其上的化学增幅正型抗蚀剂膜,该抗蚀剂膜包含:(A)具有羟基苯基和保护基团的基础聚合物,该聚合物由于在酸的作用下保护基团被除去而变为碱可溶,(B)光致产酸剂,(C)有机溶剂,和(D)在其主链中具有酯键的聚合物。该抗蚀剂膜可被转印至台阶形支承体而不形成空隙。

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