陀螺光学元件石英衬底材料CMP抛光表面粗糙度的控制方法

    公开(公告)号:CN104526539B

    公开(公告)日:2017-07-28

    申请号:CN201410776195.9

    申请日:2014-12-16

    Abstract: 本发明涉及一种陀螺光学元件石英衬底材料CMP抛光表面粗糙度的控制方法,选择两步抛光法进行化学机械抛光,第一步选用抛光液,第二步选用去离子水的水抛液,两步抛光在同一台抛光机上完成;所述第二步的抛光工艺条件为流量300g‑500g/min、温度20‑30℃、抛光压力0‑2psi;抛光液组分,包括磨料粒径15‑60nm、浓度≥40%、硬度≤7Mohs的SiO2 2‑50%,活性剂0.5‑1.0%,螯合剂0.5‑1.0%,pH调节剂0.5‑2%。有益效果:选用两步抛光法,在同一台抛光机上第一步抛光可实现高去除,第二步水抛可实现低粗糙的表面控制要求。减小了材料损伤层,有效提高其表面的光洁度。

    一种适用于钴阻挡层的碱性化学机械抛光液

    公开(公告)号:CN104449398B

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201410682284.7

    申请日:2014-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种适用于钴阻挡层的碱性化学机械抛光液。本发明抛光液包括研磨颗粒、络合剂、氧化剂、表面活性剂、腐蚀抑制剂、抑菌剂和水;络合剂含量为重量百分比0.01~10%;研磨颗粒含量为重量百分比1~40%;所述的氧化剂为过氧化氢,含量为重量百分比0.1~10%;表面活性剂含量为重量百分比0.01~5%;腐蚀抑制剂含量为重量百分比0.1~5%;抑菌剂含量为重量百分比0.001~1%,用水补充含量至100%。此抛光液适用于钴阻挡层的抛光,抛光液呈碱性,解决了钴在含有氧化剂的酸性抛光液中易于溶解的问题,同时提高了钴的抛光速率,降低了表面粗糙度。

    用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法

    公开(公告)号:CN106118495A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201610545107.3

    申请日:2016-07-12

    CPC classification number: C09G1/18 C23F3/04

    Abstract: 本发明涉及一种用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法,所述抛光液中各组分按重量百分比计:H2O2 0.3%,β‑羟已基乙二胺0.5‑5%,乙二胺四乙酸‑四‑四羟乙基乙二胺0.1‑0.3%,FA/0型表面活性剂0.1‑5%,pH无机酸调节剂0.8‑1.5%,余量为去离子水;所述碱性抛光液的pH值为9‑10;通过混合方式获得,不需要加入抑制剂,易清洗,有效克服了Ru与Cu之间的电位差,减小了电偶腐蚀电流密度,解决了它们之间严重电偶腐蚀问题,Ru与Cu之间的电偶腐蚀得到了很好的抑制。

    一种防雾霾管道吸附口罩
    44.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205161971U

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201520978427.9

    申请日:2015-11-25

    Abstract: 本实用新型涉及一种防雾霾管道吸附口罩,主要包括送风装置,管道和呼吸面罩,送风装置为风扇送风,空气通过管道进入呼吸面罩;管道两端为软管连接送风装置和呼吸面罩,管道中间为吸附管道部分,吸附管道的内壁植绒或涂覆高粘性材质,吸附管道部分弯曲排列,排列层数为10层以上。其中植绒长度为吸附管道半径的1/10至4/5之间,涂覆高粘性材质为粘性树脂,吸附管道部分可拆换。可以解决佩戴口罩将口鼻罩住造成的憋闷感,并能吸附雾霾天气空气中的颗粒。

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