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公开(公告)号：CN119457068A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411460687.7
申请日：2024-10-18
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提出了一种圆形蜂窝芯结构及其制作方法，涉及蜂窝芯技术领域，所述制作方法包括如下操作步骤：S1、提供多个圆形金属管，并对每个金属管的外周壁同一位置均开设凹槽；S2、将多个金属管阵列排布成蜂窝状；S3、使用金属纤维缠绕在凹槽中将多个金属管彼此连接在一起，形成预成型品；S4、对所述预成型品进行烧结，使金属管连接处通过烧结固定在一起得到圆形蜂窝芯结构。本发明通过金属纤维缠绕和烧结的方式，摆脱了刚玉坩埚的限制，可以制作不同尺寸的圆形蜂窝芯，提升了生产的灵活性，减少了材料浪费和资源消耗，降低了制造成本。
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公开(公告)号：CN115959929B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202211020618.5
申请日：2022-08-24
Applicant: 武汉理工大学 , 武汉拓材科技有限公司
IPC: C04B41/87
Abstract: 本发明涉及一种涂覆于石墨坩埚表面对金属液的润湿性可控的碳化硅涂层，在所述石墨坩埚底部的碳化硅涂层表面分为多个区域，相邻区域具有不同的表面形貌，且相邻区域对熔融金属液体的润湿角之差为10～110°。本发明通过化学气相沉积在石墨坩埚内表面镀上致密的碳化硅涂层，有效地保护了坩埚内表面，避免了熔融金属液体对石墨坩埚的侵蚀，延长了坩埚的使用寿命，同时也能防止石墨坩埚中的碳对金属液体造成污染，此外，石墨坩埚底部不同的区域沉积不同形貌的碳化硅涂层，使得表面的润湿性呈梯度变化，熔融金属液在石墨坩埚内能够自发地进行流动。
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公开(公告)号：CN116904916B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202310750838.1
申请日：2023-06-21
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供了一种高温液相渗硅制备高硅硅钢片的方法，包括：S1.原料准备：以高硅铁硅合金为硅源，以低硅硅钢片为基片，以Ag为介质；S2.将Ag置于硅源和基片之间形成硅源/Ag/基片扩散偶，将扩散偶于1100～1200℃、惰性气氛下烧结使Ag完全熔化，在硅源与基片之间形成液态Ag介质，渗硅一定时间，得到高硅硅钢片。本发明以低硅硅钢片作为基片，在硅源和基片中间引入熔融Ag作为液相介质，通过高温扩散渗硅的过程，在液相介质中硅源处与基片处建立合适的Si浓度梯度，可以提高基片表面Si含量，还能控制液相介质中的渗硅速率。
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公开(公告)号：CN114773863B
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202210385837.7
申请日：2022-04-13
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明公开了一种填充增强相的硼酯复合材料，其制备方法包括以下步骤：(1)将硼酸、三乙二醇按一定比例混合，加热搅拌得到硼酸‑三乙二醇的混合溶液A；(2)将混合溶液A与增强填料按照一定比例混合，在一定温度下加热并搅拌，得到粘度适宜的混合悬浊液B；(3)将混合悬浊液B转移到模具中，加热固化成型，得到含水的填充增强相的硼酯复合材料；(4)将含水的填充增强相的硼酯复合材料置于真空干燥箱中，加热除水，获得抗冲击性能好的填充增强相的硼酯复合材料。本发明合成的填充增强相的硼酯复合材料具有类玻璃高分子的特性，其高速拉伸下的能量吸收能力比低速下提高约4倍，能量吸收能力是硼酯高分子的约24倍，并且能够实现自修复、再加工和回收。
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公开(公告)号：CN115959929A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211020618.5
申请日：2022-08-24
Applicant: 武汉理工大学 , 武汉拓材科技有限公司
IPC: C04B41/87
Abstract: 本发明涉及一种涂覆于石墨坩埚表面对金属液的润湿性可控的碳化硅涂层，在所述石墨坩埚底部的碳化硅涂层表面分为多个区域，相邻区域具有不同的表面形貌，且相邻区域对熔融金属液体的润湿角之差为10～110°。本发明通过化学气相沉积在石墨坩埚内表面镀上致密的碳化硅涂层，有效地保护了坩埚内表面，避免了熔融金属液体对石墨坩埚的侵蚀，延长了坩埚的使用寿命，同时也能防止石墨坩埚中的碳对金属液体造成污染，此外，石墨坩埚底部不同的区域沉积不同形貌的碳化硅涂层，使得表面的润湿性呈梯度变化，熔融金属液在石墨坩埚内能够自发地进行流动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114686803B
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202210279445.2
申请日：2022-03-22
Applicant: 武汉理工大学
IPC: C23C12/00
Abstract: 本发明提供一种微波等离子体化学气相沉积制备的三元氮化物涂层及方法，属于涂层制备技术领域。一种微波等离子体化学气相沉积的三元氮化物涂层，所述三元氮化物涂层的分子形式为M1‑xDxNy。一种微波等离子体化学气相沉积制备三元氮化物涂层的方法，包括以下步骤；（1）基体清洗、预处理；（2）进行第一次微波等离子体化学气相沉积，金属基体表面形成固溶体和或金属间化合物；（3）进行第二次微波等离子体化学气相沉积，开始沉积三元氮化物涂层。本发明中的三元氮化物涂层中均匀分布微量固溶体或金属间化合物，起到弥散强化、增强涂层性能的作用，涂层表现出更优的高温服役特性；本发明中的方法具有更高的沉积效率，能获得较厚的三元氮化物涂层。
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公开(公告)号：CN114563322A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210105747.8
申请日：2022-01-28
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明公开了一种铝合金/聚合物叠层材料中铝合金表面腐蚀微结构的表征和调控方法，通过测量对铝合金样品进行表面处理前后的质量和尺寸信息，计算经表面处理后所得铝合金的质减率Rm或表面孔隙率R，将其作为评价与聚合物连接的铝合金表面微结构的定量表征参数，并进一步用于指导和调控表面处理工艺参数，进而优化所得铝合金/聚合物叠层界面的结合性能。本发明涉及的表征和调控方法简单、操作方便，测量工具易得，准确度较高；测试过程对样品无污染无损伤，样品在测试后依然可以保持原有的与聚合物粘接的性能；便于推广和应用。
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公开(公告)号：CN113683471A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202110940421.2
申请日：2021-08-17
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供了一种聚偏氟乙烯包覆微米铝复合粉体及其制备方法，制备方法包括步骤：将微米铝粉加入非溶剂，分散均匀得到微米铝粉/非溶剂分散液；将聚偏氟乙烯溶解于有机良溶剂中，制备PVDF/溶剂溶液；将PVDF/溶剂溶液滴加至微米铝粉/非溶剂分散液内，其中，PVDF/溶剂溶液与微米铝粉/非溶剂分散液具有预设温差，反应完成后进行抽滤、洗涤、干燥，即得到聚偏氟乙烯包覆微米铝复合粉体。本发明采用聚偏氟乙烯包覆微米铝，PVDF在高温下不仅可以与氧化层反应，也能与铝核反应，反应过程中产生的气体能阻止铝粉在应用过程中的团聚，从而有效激活铝粉的燃烧反应，提高其整体放热量。
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公开(公告)号：CN112853139A
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN202110063393.0
申请日：2021-01-18
Applicant: 武汉理工大学
Abstract: 本发明提供一种铁铝系金属间化合物多孔材料的制备方法，利用粉末烧结及由此引起的原位多重去合金效应制备。该方法以铁粉、铝镁合金粉和镁粉为原料，通过对压坯进行多段升温和保温，协同利用以下两种方法在高真空环境中制备：1）铝镁合金粉在烧结过程中形成的低温瞬时液相与元素铁粉反应，实现铁铝系金属间化合物的低温形成，同时产生原位液相脱合金造孔效应；2）镁组元升华或挥发引发的气相脱合金造孔。铝镁合金粉末在低温形成的瞬时液相与铁产生的脱合金效应加速了铁铝金属间化合物的形成，缩短了烧结周期，且可避免传统造孔剂对铁铝金属间化合物成分的污染。制得的多孔材料孔径在10~100μm之间，开孔隙率和总孔隙率分别可达50%和60%以上。
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公开(公告)号：CN112458438A
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN202011417101.0
申请日：2020-12-07
Applicant: 武汉理工大学
IPC: C23C16/511 , C23C16/34 , C23C16/02 , C23C28/00
Abstract: 本发明提供一种铬基氮化物梯度复合涂层结构及其原位制备方法。其结构包括镀在基体表面的铬缓冲层和沉积在铬缓冲层表面的铬基氮化物梯度层。将镀有铬缓冲层的基体置于微波等离子体化学气相沉积设备，通过调节含氮气体量以及微波功率，利用N等离子体团与铬离子的反应快速生成铬基氮化物层。在微波对金属微区表面的趋肤效应、氮化物陶瓷层透射损耗以及金属基体的反射效应的协同作用下，产生热量‑温度梯度，使反应活性由陶瓷‑铬缓冲层的界面前沿向残余铬缓冲层纵深不断衰减，实现化学反应和速率的梯度变化，从而获得结构和成分呈连续梯度分布的铬基氮化物涂层。所得的连续梯度结构能够显著降低层间应力，提高涂层的力学性能，降低涂层摩擦系数。
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