公开(公告)号：CN1956064A

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：CN200610137583.8

申请日：2006-10-26

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 白鸟聪志 ,  镰田芳幸 ,  樱井正敏 ,  喜喜津哲

IPC: G11B5/84 ,  G03F7/00

CPC classification number: C23F4/00 ,  B82Y10/00 ,  C23C2/02 ,  C23C2/26 ,  C23C4/02 ,  C23C4/18 ,  G03F7/0046 ,  G11B5/74 ,  G11B5/743 ,  G11B5/82 ,  G11B5/855 ,  H01F41/34

Abstract: 根据一个实施例，一种形成图形的方法，包括在衬层材料(2)上形成抗蚀剂(3)，在抗蚀剂(3)上按压具有突起和凹口的图形的压模(4)，其突起的侧壁逐渐变细，以形成具有突起和凹口的图形的图形化的抗蚀剂(3)，其突起的侧壁逐渐变细，在图形化的抗蚀剂(3)上形成保护膜(5)，进行各向异性蚀刻以将保护膜(5)留在图形化的抗蚀剂(3)的锥形侧壁上，利用保护膜(5)作掩模蚀刻残留在图形化的抗蚀剂(3)的凹口中的抗蚀剂残留物，以及利用保护膜(5)和图形化的抗蚀剂(3)作为掩模，蚀刻衬层材料(2)。