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公开(公告)号:CN102958964A
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:CN201180030285.8
申请日:2011-06-28
IPC: C08F297/02 , B01F17/16 , B01F17/18 , B01F17/52
CPC classification number: C08F265/06 , C08F297/026 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/326
Abstract: 本发明的目的在于提供一种作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物。新型共聚物含有嵌段链(A)和嵌段链(B),上述嵌段链(A)含有选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元,上述嵌段链(B)含有具有酸性基团的重复单元和下式(I)(式中,R1表示氢原子或C1~C3烷基,R2表示脂肪族烃基或脂环式烃基)表示的重复单元,式(I)表示的重复单元的共聚比例在嵌段链(B)中为90质量%以上。
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公开(公告)号:CN102858826A
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201180017897.3
申请日:2011-04-08
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F293/00
CPC classification number: C08F293/00 , C09D153/00 , G02F1/13
Abstract: 本发明的目的在于提供作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物的制造方法。本发明的制造方法如下。通过对含有嵌段链(A)和嵌段链(B)的共聚物前体进行加热,制造含有嵌段链(A)和嵌段链(B1)的嵌段共聚物,所述嵌段链(A)由以下聚合物形成:该聚合物包含选自含有叔氨基的重复单元和含有季铵盐基团的重复单元中的至少1种重复单元,所述嵌段链(B)由以下共聚物形成:该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和下述式(I)表示的含有已保护的酸性基团的重复单元,所述嵌段链(B1)由以下共聚物形成:该共聚物包含含有聚氧化烯链的重复单元和下述式(II)表示的含有酸性基团的重复单元。
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公开(公告)号:CN101484488B
公开(公告)日:2012-02-01
申请号:CN200780025447.2
申请日:2007-07-11
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor: 新谷武士
IPC: C08F293/00 , C08G85/00
CPC classification number: C08F295/00 , C08F293/005
Abstract: 本发明提供分子结构受控的窄分散的星形聚合物以及能够简易地制造该星形聚合物的星形聚合物的制造方法。本发明涉及星形聚合物的制造方法,其具有:(A)使具有阴离子末端的聚合物的阴离子末端与核结合,形成臂(I)的工序;和(B)采用活性自由基聚合从核上延伸臂(II)的工序。此外,作为该星形聚合物的例子,可以例示以下星形聚合物,其特征在于:含有式(I-1)或(I-2)所示的结构。(式(I-1)或(I-2)中,B、C1和C2各自独立地表示由聚合物形成的基团,m1和m2各自独立地表示1或2的整数,m1、m2为2时,C1之间和C2之间表示相同或不同的基团。)。
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公开(公告)号:CN102206313A
公开(公告)日:2011-10-05
申请号:CN201110052841.3
申请日:2006-09-07
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor: 新谷武士
IPC: C08F289/00 , C08F4/00 , C08F8/00 , C08G83/00 , C08G64/00
CPC classification number: C08F289/00 , C08F4/00 , C08F265/04 , C08F285/00 , C08F291/00 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F297/00 , C08F297/02 , C08G81/00 , C08G83/003 , C08L53/00 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供星形聚合物及其制造方法,即,提供分子结构得到控制的新型窄分散的树枝形大分子状星形聚合物以及能够简便地制造所述星形聚合物的制造方法。提供一种由核部和臂部构成的星形聚合物,其特征为,所述臂部是由具有聚合性双键的单体衍生且在末端具有两个以上官能团的聚合物链,所述星形聚合物的重均分子量Mw与数均分子量Mn之比,即Mw/Mn在1.001~2.50的范围。该星形聚合物的制造方法是:使成为臂部的聚合物链与成为核部的化合物反应,所述聚合物链具有两个以上的官能团且具有阴离子末端,所述成为核部的化合物具有能够与阴离子反应的官能团。
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公开(公告)号:CN101107282B
公开(公告)日:2011-03-30
申请号:CN200680002562.3
申请日:2006-01-18
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F293/00 , C08F290/06 , C08L53/00 , C09J153/00 , H01B1/06 , H01M10/40
CPC classification number: C08F290/06 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F2438/01 , C08J5/2268 , C08J2353/00 , C08L53/00 , C08L2666/02 , C09J153/00 , H01M10/052 , H01M10/0565 , H01M2300/0082
Abstract: 本发明提供以B、A、B的配置顺序具有由含有下述重复单元(I)、(II)的无规共聚物构成的嵌段链A、和具有重复单元(III)的嵌段链B的高分子,由该高分子与交联剂的反应而得到的交联高分子,含有这些高分子和电解质盐的高分子固体电解质用组合物,高分子固体电解质和粘接性组合物。R1~R3、R6、R8、R10~R12表示氢原子或碳原子数1~10的烃基,R4a、R4b表示氢原子或甲基,R5表示氢原子、烃基等,m表示1~100的任一整数,R7表示氢原子、碳原子数1~10的烃基、羟基等,R9表示羟基、羧基、环氧基等,R13表示芳基或杂芳基。
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公开(公告)号:CN1849674A
公开(公告)日:2006-10-18
申请号:CN200480025920.3
申请日:2004-01-23
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08J5/2231 , C08F290/062 , C08J2325/08 , H01B1/122 , H01M6/181 , H01M10/052 , H01M10/0565 , H01M2300/0082
Abstract: 一种在热性能、物理性能和离子导电性方面十分出色并且接近实际应用水平的聚合物固体电解质;尤其是完全固体电解质和生产该固体电解质的组合物。具体而言,聚合物固体电解质用组合物的特征在于所述组合物含有共聚物和电解质盐,所述共聚物具有式(I)的重复单元(其中,R1-R3各自独立代表氢原子或C1-C10的烃基;R4a和R4b各自独立代表氢原子或甲基;R5代表氢原子、烃基、酰基或甲硅烷基;m是1-100的整数)和式(II)的重复单元(其中,R6和R8各自独立代表氢原子或C1-C10的烃基;R9代表具有至少一个选自羟基、羧基、环氧基、酸酐基和氨基的官能团的有机基团)。
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公开(公告)号:CN1668662A
公开(公告)日:2005-09-14
申请号:CN03817326.3
申请日:2003-07-23
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F297/00 , H01B1/06
CPC classification number: C08F290/062 , C08F293/005 , C08F2438/01 , H01B1/122 , H01M10/0525 , H01M10/0565 , H01M2300/0082
Abstract: 本发明以提供热特性、物理特性和离子传导度优良、接近实用水平的高分子固体电解质,特别是全固体电解质,以及成为用于制造该电解质的基质的共聚物组合物为目的。该高分子固体电解质含有共聚物和电解质盐,该共聚物中具有以式(I)表示的重复单元的嵌段链A、具有以式(II)(式中,R9表示芳基)表示的重复单元的嵌段链B、以及具有以式(III)(式中,R13表示芳基或者杂芳基)表示的重复单元的嵌段链C以B、A、C的顺序排列。
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