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公开(公告)号：CN106084103A
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：CN201610435094.4
申请日：2016-06-17
Applicant: 同济大学
IPC: C08F112/08 , C08F120/14 , G01T1/00 , G01T3/06
CPC classification number: C08F112/08 , C08F120/14 , G01T1/003 , G01T3/06
Abstract: 本发明涉及一种利用模板制备光子晶体塑料闪烁体的方法，将基质单体与发光剂、移波剂和引发剂混合搅拌均匀并加热，然后倒入底部放置光子晶体模板的容器中，利用旋涂机使液体充分浸入模板空隙中，再置于烘箱进一步聚合，最后置于‑10℃的环境中，利用塑料闪烁体和模板膨胀系数的不同，使模板自动脱落，从而获得表面具有光子晶体结构的塑料闪烁体。与现有技术相比，本发明在聚合的过程中直接产生光子晶体结构，不必让塑料闪烁体再次加热软化，损害材料的性能。
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公开(公告)号：CN105350077A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201510683737.2
申请日：2015-10-20
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种利用聚合物模板制备光子晶体闪烁体的方法，包括闪烁体表面聚合物微球阵列的制备、反应离子束刻蚀、镀制覆盖层、去除微球等四个步骤，制备得到相应介质材料的反蛋白石结构光子晶体，即在闪烁体表面获得了具有六角周期孔洞结构的高折率透明介质。与现有技术相比，本发明制备出的光子晶体具有大面积，无聚合物成分，折射率衬度大等优点，即可保证足够的光提取效率，又能够保证在核辐射环境下保持足够的抗辐照性能。
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公开(公告)号：CN105137472A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510566346.2
申请日：2015-09-08
Applicant: 同济大学
IPC: G01T1/20
Abstract: 本发明涉及基于表面共振腔结构的定向发射闪烁体器件，包括闪烁体，布置在闪烁体出光面的平面共振腔，布置在闪烁体其余表面的反射涂层，平面共振腔包括自下而上依次设置的底部布拉格反射镜、中间层和顶部布拉格反射镜，其中底部布拉格反射镜的反射率高于顶部布拉格反射镜的反射率，平面共振腔的共振透射波长与闪烁体发射波长峰值匹配。该种发光方向性高度集中的闪烁体器件将大大提高光电探测器的收集效率，从而大幅提升闪烁探测系统的探测效率、灵敏度和信噪比，在辐射探测、射线成像、核医学和空间探测等领域具有非常重要的应用价值。
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公开(公告)号：CN103060752B
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201310025713.9
申请日：2013-01-22
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的预镀层辅助制备方法及其应用。该方法采用热蒸镀技术制备预镀层，通过预镀层厚度和退火工艺等的调节，实现使预镀层具有均匀分布的岛状晶粒结构及对其晶粒间距的有效控制，再以CsI(Tl)粉末为原料，采用热蒸镀，在镀有预镀层的衬底上制备后续闪烁薄膜，实现对转换屏微柱形貌、均匀性、线宽、晶面择优取向等的有效控制，近乎垂直于屏面、结晶性能好的闪烁微柱可引导闪烁光沿微柱方向传播，使X射线成像器件的空间分辨率得到提高，满足高空间分辨率和高探测效率要求。本发明得到具有微柱结构CsI(Tl)X射线闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产，推广应用价值高。
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公开(公告)号：CN104035121A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201410286086.9
申请日：2014-06-25
Applicant: 同济大学
IPC: G01T1/20
Abstract: 本发明属于辐射探测领域，涉及一种高度定向发射的平面微腔闪烁体器件。所述器件结构包含：衬底、底部反射镜、闪烁体层和顶部反射镜，底部反射镜和顶部反射镜平行布置构成平面微腔。本发明利用一对镜子形成的平面微腔调控处于镜子之间的闪烁体层，通过平面微腔的作用，可以使得闪烁体层的发光在以法线为中心的±10°立体角内的强度超过50%，这种高度集中的发光方向性对于提高探测系统的灵敏度和信噪比具有非常重要的作用。本发明设计原理清晰明了，器件制备涉及的工艺成熟，易于工业化生产和推广。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103614694A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201310586385.X
申请日：2013-11-21
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种模板辅助矩阵式微柱结构CsI(Tl)闪烁转换屏的制备方法及其应用。该方法使用的模板衬底为刻有矩阵式矩形微孔阵列的硅片，以CsI(Tl)粉末为原料，采用热蒸镀技术，在模板衬底上制备闪烁薄膜，通过对模板衬底上微孔周期等的调控，实现对转换屏微柱形貌、均匀性、线宽、排列情况等的有效控制，获得了具有矩阵式微柱结构的CsI(Tl)闪烁转换屏，近乎垂直于屏面、结晶性能好、排列规则的闪烁微柱可更好地与后续探测器件耦合，从而使X射线成像器件的空间分辨率得到提高，可同时满足高空间分辨率和高探测效率的要求。此方法制备得到的具有矩阵式微柱结构的CsI(Tl)闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产，推广应用价值高。
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公开(公告)号：CN102496400A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110442455.5
申请日：2011-12-27
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种微柱结构碘化铯（掺铊）[化学式：CsI(Tl)]X射线闪烁转换屏的制备方法及其应用。它提供了一种制备具有微柱结构的CsI(Tl)X射线闪烁转换屏的方法，该方法以CsI(Tl)为原料，以石英、光纤面板和光纤锥等为衬底，采用热蒸镀技术，通过蒸镀温度、衬底温度和制备气氛等的调节，实现对转换屏微柱形貌、线宽、晶面择优取向等的有效控制，近乎垂直于屏面、结晶性能好的闪烁微柱可引导闪烁光沿微柱方向传播，从而使X射线成像器件的空间分辨率得到提高，可同时满足高空间分辨率和高探测效率的要求。此方法制备得到的具有微柱结构的CsI(Tl)X射线闪烁转换屏与光电探测器件耦合后可应用于高分辨率数字X射线成像。本发明适合于工业化生产，推广应用价值高。
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公开(公告)号：CN100445347C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200510030098.6
申请日：2005-09-28
Applicant: 同济大学
IPC: C09K11/78
Abstract: 本发明公开了一种高亮度钽酸钆透明发光薄膜及其制备方法，这种发光薄膜的化学表达式为：(Gd1-xMx)TaO4:Eu0.1，其中0＜x＜0.15，M为K、Zn。本发明的原料采用无机盐比有机醇盐更容易获得、更便宜且无毒。本发明采用溶胶-凝胶技术，具有合成温度低、掺杂均匀、结构可控、设备便宜等优点，因此薄膜制备所需的成本低，工艺简单、方便，所制备的薄膜发光强度高、均匀透明、致密无开裂、与基底的附着性好。本发明薄膜主要可用于高空间分辨率X射线显微成像屏上，同时也可以应用于高分辨率阴极射线、场致发射和等离子体显示的显示屏上。
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公开(公告)号：CN1318537C
公开(公告)日：2007-05-30
申请号：CN200410066543.X
申请日：2004-09-21
Applicant: 同济大学
IPC: C09K11/00
Abstract: 本发明公开了一种稀土掺杂钽酸盐透明发光薄膜及其制备方法，这种发光薄膜的化学表达式为：(Ln1-xREx)TaO4，其中0＜x＜0.1；Ln＝Gd、Lu；RE＝Eu、Tb。本发明所采用的溶胶—凝胶技术具有合成温度低、掺杂均匀、结构可控、设备便宜等优点，因此薄膜制备所需的成本低，工艺简单、方便，所制备的薄膜均匀透明、致密无开裂、与基底的附着性好，薄膜制备中通过热分解预处理以及紫外光强化处理，避免薄膜制备过程中所需的保护气氛，从而简化了实验条件，加快厚膜的制备周期，主要用于高空间分辨率X射线显微成像屏上，同时也可以应用于高分辨率阴极射线、场致发射和等离子体显示的显示屏上。
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公开(公告)号：CN112945385A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110103270.5
申请日：2021-01-26
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明提供了一种多反射干涉自动测量系统，属于光谱技术领域，具有这样的特征，包括：光源部，发射入射光；多反射干涉仪，接收入射光并输出出射光；光传感器，接收出射光并将光信号转化电信号；模数转化部，将电信号转化为数字信号；以及控制部，控制光源部、多反射干涉仪、光传感器以及模数转化部的运行，并将数字信号转化为干涉图进行输出，其中，多反射干涉仪包括：第一反射单元以及第二反射单元，第二反射单元包括第二长反射镜、第二短反射镜、第二终端反射镜以及移动组件，第二长反射镜设置在移动组件上。
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