一种基于双层介质超表面的光学变焦系统

    公开(公告)号:CN110161676B

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201910470787.0

    申请日:2019-05-31

    Abstract: 本发明公开一种基于双层介质超表面的光学变焦系统,包括:第一层介质超表面和第二层介质超表面,二者平行排列;两层介质超表面均由多个基础单元拼接构成,每个基础单元包括基板和设于基板上的圆柱介质柱,每层介质超表面的圆柱介质柱的直径与其距离介质超表面中心的距离和其角度存在映射关系;入射光入射依次经过两层介质超表面;两层介质超表面依次对入射光进行两次相位调制,实现对入射光的聚焦效果;当第一层介质超表面和第二层介质超表面的相对旋转角相对初始状态发生改变时,两层介质超表面对应的聚焦焦距发生改变,两层介质超表面对所述入射光的聚焦效果发生变化。本发明提供的变焦系统根据旋转角的大小实现变焦,且均可实现大范围变焦。

    一种基于介质超表面的紧凑光学测量仪

    公开(公告)号:CN108375418B

    公开(公告)日:2019-06-28

    申请号:CN201810111548.1

    申请日:2018-02-05

    Abstract: 本发明公开了一种基于介质超表面的紧凑光学测量仪,包括介质超表面和探测器阵列,探测器阵列位于介质超表面的焦距处;介质超表面包括多个基本模块,相邻的基本模块相互接触;每个基本模块独立工作以获取入射到该基本模块表面的待测光的偏振态;每个基本模块包括第一平面聚焦镜、第二平面聚焦镜、第三平面聚焦镜和第四平面聚焦镜,四块平面聚焦镜按照从左至右、从上自下的顺序构成“田”字形平面结构;这四个平面聚焦镜的焦距一致。本发明提供的紧凑光学测量仪可以探测入射光的偏振态和波前,在可见光波段损耗较小,在近红外到红外波段几乎没有损耗,极大降低了光损耗,提高了探测的灵敏度。

    一种螺旋状金属线栅圆偏振器

    公开(公告)号:CN101782666A

    公开(公告)日:2010-07-21

    申请号:CN201010120798.5

    申请日:2010-03-05

    Abstract: 一种螺旋状金属线栅圆偏振器,属于光学器件,目的在于使其在可见光波段具有较宽的工作波长,且器件尺寸小、结构紧凑、易于集成。本发明的圆偏振器,在石英玻璃基板上沉积有N个均匀分布的螺旋状的铝金属线栅,金属线栅直径40-60纳米,螺旋状的螺旋周期数大于等于2周,螺旋状的金属线栅间距190-290纳米,螺旋周期间距150-400纳米,螺旋直径100纳米,N≥106。本发明能够工作在可见光光谱范围,工作波长范围可以达到580-730纳米,偏振消光比大于8.8∶1,偏振光透过率大于67%,且器件尺寸小、结构紧凑、易于集成,适用于偏振分光、彩色显示、激光技术等领域。

    脉冲激光沉积制备硅基锐钛矿相TiO2薄膜的方法

    公开(公告)号:CN101139702B

    公开(公告)日:2010-06-30

    申请号:CN200710053649.X

    申请日:2007-10-19

    Abstract: 本发明公开了一种脉冲激光沉积制备硅基锐钛矿相TiO2薄膜的方法。先将清洗后的Si基片和纯度为99.9%以上的二氧化钛靶放入真空室中,再将真空室抽真空到1×10-3-6×10-3Pa,通入氧气气氛,气体压力为0.5Pa-5Pa,并将Si基片加热到500-750℃;然后采用KrF准分子激光器,将激光通过透镜聚焦到二氧化钛靶材上,激光束的能量为340-750mJ,激光重复频率为1-10Hz,产生的二氧化钛等离子体向外发射至Si基片上,得到锐钛矿相的纳米二氧化钛薄膜。采用二氧化钛靶材,改变脉冲激光沉积过程中的参数,在硅基片上直接生长纯锐钛矿相的TiO2薄膜。本发明方法可以较好地与传统半导体工艺相衔接,将具有较好的应用前景。

    一种高透过率光学镜片及其制备方法

    公开(公告)号:CN1248017C

    公开(公告)日:2006-03-29

    申请号:CN03125468.3

    申请日:2003-09-28

    Abstract: 本发明公开了一种高透过率光学镜片及其制备方法。所述的光学镜片是在玻璃基片表面上有一层多孔隙结构的光学薄膜,光学薄膜为聚合物薄膜,其孔隙直径为10~100纳米。该光学镜片的制备方法是:将聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯按质量比50∶50~5∶95混合,然后溶于芳香烃类溶剂或者四氢呋喃中,将该溶液涂在处理好的玻璃基片上,旋涂该基片,将旋涂好的基片烘干,再浸泡到环己烷溶液或者环己酮溶液中,将浸泡好的基片烘干后,就得到高透过率光学镜片,可见光范围内的透过率可达到96%。该制备方法简单,可制备出较低折射率的光学薄膜,该制备方法也可应用在增透、增反、窄带滤波等光学薄膜器件的设计与制作中,将大大简化设计和制作的过程,降低成本。

    一种高透过率光学镜片及其制备方法

    公开(公告)号:CN1529186A

    公开(公告)日:2004-09-15

    申请号:CN03125468.3

    申请日:2003-09-28

    Abstract: 本发明公开了一种高透过率光学镜片及其制备方法。本发明所述的光学镜片是在玻璃基片表面上有一层多孔隙结构的光学薄膜,其孔隙直径为10~100纳米。该光学镜片的制备方法是:将聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯按质量比50∶50~5∶95混合,然后溶于芳香烃类溶剂或者四氢呋喃中,将该溶液涂在处理好的玻璃基片上,旋涂该基片,将旋涂好的基片烘干,再浸泡到环己烷溶液或者环己酮溶液中,将浸泡好的基片烘干后,就得到高透过率光学镜片,其可见光范围内的透过率可以达到96%。该制备方法简单,而且可以制备出较低折射率的光学薄膜,该制备方法也可以应用在增透、增反、窄带滤波等光学薄膜器件的设计与制作中,它将大大简化设计和制作的过程,降低成本。

    一种光参量振荡器的光谱展宽方法及光参量振荡器

    公开(公告)号:CN118315914A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410319480.1

    申请日:2024-03-20

    Abstract: 本发明属于光参量振荡器相关技术领域,其公开了一种光参量振荡器的光谱展宽方法及光参量振荡器,光谱展宽方法包括:调节二阶非线性晶体的状态以改变最大增益位置,使振荡光的中心波长相较当前调整后的最大增益位置处所对应的中心波长产生偏移而导致相位失配以引入频率啁啾,相位失配引入的啁啾与色散引入的啁啾方向相同,对谐振腔输出的具有线性啁啾的振荡光进行压缩,得到近变换极限脉冲。该方法不需要引入额外光学装置,便能实现光谱展宽,进行光谱压缩,便能得到更短的近变换极限脉冲,因此,该方法更加简单、成本更低且光谱更宽、输出的脉冲更短。

    一种用于空间光通信的光路对准方法

    公开(公告)号:CN111416661A

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN202010042513.4

    申请日:2020-01-15

    Inventor: 赵茗 王晶 杨振宇

    Abstract: 本发明属于无线通信领域,具体涉及一种用于空间光通信的光路对准方法,包括:分别调整待对准准直光路光斑和探测器探头端待扫描二维区域的位置,使得光斑投射在待扫描二维区域内;控制探头扫描二维区域,并在扫描过程中实时同步探测当前扫描点的光功率值以及将该光功率值与光通信功率阈值对比,当该光功率值或者包括该光功率值的连续相邻多个光功率值大于光通信功率阈值时,停止扫描,实现光路对准,否则继续扫描,直至达到扫描终止条件。本发明通过扫描方式实时获取扫描过程中各离散扫描点的光功率值,基于功率阈值实现光路对准,适用于各种不同类型光源光路,避免了现有光路对准方法需要CCD成像等带来的对准系统复杂、成本高、对准耗时等的问题。

    一种基于连续激光的三维微结构刻写系统及方法

    公开(公告)号:CN107096997B

    公开(公告)日:2019-09-24

    申请号:CN201710325564.6

    申请日:2017-05-10

    Inventor: 梁科 杨振宇 赵茗

    Abstract: 本发明公开了一种基于连续激光的三维微结构刻写系统及方法,系统包括:连续激光器,用于发出激光;声光调制器,用于调节激光的功率;物镜,用于对声光调制器调节功率后的激光进行会聚,得到聚焦光束,聚焦光束的功率密度大于双光子吸收的阈值功率密度;光敏材料,用于在聚焦光束的作用下发生双光子聚合而固化,实现双光子聚合直写;三维纳米位移平台,用于承载光敏材料,并控制光敏材料在三维方向移动,以通过对光敏材料的逐层双光子聚合直写实现对光敏材料的三维微结构刻写。本发明实施例采用低成本的连续激光器作为刻写光源,并通过声光调制器调节刻写光源的功率,实现了基于连续激光器的三维微结构刻写,节省了成本。

    一种超表面消色差线偏光透镜

    公开(公告)号:CN109085667A

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201810727096.X

    申请日:2018-07-05

    Abstract: 本发明公开一种超表面消色差线偏光透镜,包括:n环硅单元结构,第i环硅单元结构包括mi个等间距分布排列的硅单元,每个硅单元包括一个基底和一个椭圆硅柱,mi个等间距分布排列的硅单元排列形成圆环,n、i均为整数,1≤i≤n;第i环硅单元结构中mi个硅单元的结构相同,第i环硅单元结构中mi个椭圆硅柱的结构与第j环硅单元结构中mj个椭圆硅柱的结构可以不同,j为整数,j≠i,1≤j≤n;第i环硅单元结构中每个硅单元的透射光相位与入射光角频率满足线性关系。本发明聚焦效率最大可达56%,工作波长范围可以达到1.31μm-1.55μm,聚焦光斑最大半高全宽2.34μm,接近衍射极限,适用于集成光学、光纤通信等领域。

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