公开(公告)号：CN105122425A

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201380075653.X

申请日：2013-04-18

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  斯泰拉化工公司

Inventor： 酒井健 ,  吉田达郎 ,  平塚亮辅 ,  石川俊 ,  大见忠弘 ,  长谷部类 ,  高野顺 ,  菊山裕久 ,  山本雅士

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02063 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/76898

Abstract: 提供一种孔的内壁面处理方法，即使要被处理的基体中设置的孔是窄而深的孔，仍能可靠地进行蚀刻和清洗。对设置有基体(100)且可减压的处理空间进行减压，其中该基体在其内部具有被施予处理液(106)的表面以及在该表面中具有开口(110)的微空腔(104)；然后向该被减压的处理空间导入处理液(106)，以处理微空腔(104)的内壁面。这里，该微空腔(104)的纵横比(l/r)为5或更大，或者纵横比小于5且V/S(V：微空腔的容积、S：开口的面积)为3或更大。

公开(公告)号：CN103858212A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201280047608.9

申请日：2012-07-24

Applicant: 株式会社富士金 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 大见忠弘 ,  白井泰雪 ,  永濑正明 ,  山下哲 ,  日高敦志 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一 ,  平尾圭志

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/448

CPC classification number: C23C16/4481

Abstract: 本发明提供能够使气化器内的压力的举动稳定的气化器。本发明的气化器具备：腔，其具备流入口以及流出口；加热装置，其加热该腔内；隔壁构造体(13)，其设于该腔内，并将该腔内的液体材料划分到多个区划；以及液体流通部(20)，其设于隔壁构造体(13)的下部，以容许利用隔壁构造体(13)划分的各区划之间的液体流通，所述隔壁构造体具有格子状、蜂窝状、网孔状、或管状的隔壁。

公开(公告)号：CN101421203B

公开(公告)日：2014-05-14

申请号：CN200780011742.2

申请日：2007-03-29

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  日本陶瓷科技股份有限公司

Inventor： 大见忠弘 ,  岸幸男 ,  井口真仁 ,  市川佳孝 ,  小松祐介

IPC: C04B38/00

CPC classification number: C04B38/0058 ,  C04B35/111 ,  C04B35/505 ,  C04B35/6316 ,  C04B2235/3418 ,  C04B2235/36 ,  C04B2235/5427 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/656 ,  C04B2235/72 ,  C04B2235/77 ,  Y10T428/249921 ,  C04B35/00 ,  C04B38/0054

Abstract: 本发明提供一种在要求高洁净度的领域内使用时能够抑制微波频带内的能耗，而且可均匀地分散气体的多孔质构件。多孔质构件由多孔质陶瓷形成，微波频带内的介质损耗正切是1×10-3以下。陶瓷构件由局部备有该多孔质构件的陶瓷烧结体构成。

公开(公告)号：CN103717902A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201280038084.7

申请日：2012-06-27

Applicant: 国立大学法人东北大学

Inventor： 大山健二 ,  阿久津功 ,  岩城征道 ,  大见忠弘

IPC: F04C27/00 ,  F04C18/16 ,  F04C25/02

CPC classification number: F04C18/12 ,  F04C18/16 ,  F04C25/02 ,  F04C27/009 ,  F04C29/0007 ,  F04C29/023 ,  F04C2220/30 ,  F04C2230/91

Abstract: 本发明提供一种能够抑制密封气体混入工艺气体并且也能够降低密封气体的使用量的气体排气用泵系统。本发明的气体排气用泵系统具有主体泵和副泵。主体泵包括：螺杆转子；旋转轴，其以旋转自如的方式卡合于用于使螺杆转子旋转的旋转驱动部件；夹持部件，其以使旋转轴旋转自如的方式夹持旋转轴；润滑油供给通路，其具有用于向夹持部件注入润滑油的注油口；密封壳体，其与旋转轴的外周面之间空开规定的间隙，该密封壳体覆盖旋转轴的没有被夹持部件夹持的部分的周围；密封构件，其以围绕旋转轴的整周的方式架设在旋转轴与密封壳体之间；密封气体供给通路，其具有用于向间隙供给密封气体的供给口；以及密封气体排气通路，其具有用于将密封气体自间隙向主体泵之外排出的密封气体吸口。副泵是用于对密封气体排气通路进行减压的泵。

公开(公告)号：CN102421932B

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：CN201080021115.9

申请日：2010-03-19

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  后藤哲也 ,  松冈孝明

IPC: C23C14/35

Abstract: 本发明的课题在于提供一种减少因伴随离子体激发电力增大的标的物部等的加热所致的坏的影响的旋转磁铁溅镀装置。本发明的旋转磁铁溅镀装置具有通过使冷却用介质在多个螺旋状板磁铁组之间形成的螺旋状的空间流动、或者在支承标的物部的背板上设置冷却用流路，来对标的物部进行除热的构造。

公开(公告)号：CN102037260B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN200980118443.8

申请日：2009-05-07

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  日本华尔卡工业株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  白井泰雪 ,  佐藤广嗣 ,  野口胜通 ,  吉田勉 ,  村松晃 ,  熊木聪 ,  桑村幸

IPC: F16J15/08

CPC classification number: F16J15/0887 ,  F16J15/0893 ,  F16L23/20

Abstract: 一种金属垫片，能以小的旋紧力获得高密封性，而且，在施加一定的旋紧负载的情况下的变形量大，因此，即使在以手动作业进行螺栓固定的情况下，也能进行螺栓旋紧的管理，并不会对对象侧的凸缘面造成损伤。金属垫片(10)由利用周向的开口而形成截面大致呈C字状的外环(12)和以嵌合状态配置于该外环(12)内侧的内环(14)构成，其特征是，内环(14)例如由截面呈四边形的多棱体构成，且该内环(14)的彼此相对的一对角部隔着外环(12)的开口分别配置于两侧的内周面。

公开(公告)号：CN102007578B

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN200980113209.6

申请日：2009-04-10

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  斯特拉化工公司

Inventor： 大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  长谷部类 ,  宫下雅之

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02054 ,  H01L21/0206 ,  Y10S438/906

Abstract: 在半导体基板等的清洗中，需要进行至少由5个工序构成的清洗。本发明提供一种清洗方法，其包括：利用含有臭氧的超纯水进行清洗的第一工序、利用含有表面活性剂的超纯水进行清洗的第二工序、以及利用含有超纯水和2-丙醇的清洗液除去来源于表面活性剂的有机物的第三工序。第三工序后，照射氪气等稀有气体的等离子体，将来源于表面活性剂的有机物进一步除去。

公开(公告)号：CN101981362B

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN200980111522.6

申请日：2009-03-26

Applicant: 株式会社富士金 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 大见忠弘 ,  西野功二 ,  谷川毅 ,  山路道雄 ,  池田信一 ,  土肥亮介

IPC: F16K31/06 ,  H01F7/16

CPC classification number: F16K31/0658 ,  F16K31/0675 ,  H01F7/1816 ,  H01F2007/1822

Abstract: 本发明提供一种通过实现专用驱动电源的小型化从而节省了空间的电磁阀。本发明提供的是能够瞬间开闭的电磁阀，其特征在于，采用具有低直流内部电阻和低等效串联电阻的双电层电容器作为动力电源。双电层电容器中，单个单元的电气特性是：静电电容量为1～5F、额定电压为2.1～2.7V、直流内部电阻为0.01～0.1Ω、并且1kHz条件下的等效串联电阻为0.03～0.09Ω，并具有由比表面积为1～500m2/g的玻碳构成的可极化电极。

公开(公告)号：CN101632330B

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN200880008070.4

申请日：2008-06-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 平山昌树 ,  大见忠弘

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H05H1/46 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01J37/32229 ,  H01J37/32238

Abstract: 本发明提供一种使用了同轴管的微波的传输线路。在等离子体处理装置(10)中，将从微波源(900)经由分支波导管(905)向同轴管(600)传输的微波利用分支板(610)分成多个微波，向多个同轴管的内部导体(315a)传输。沿各同轴管的内部导体(315a)传输来的微波从与各内部导体(315a)连接的各电介质板(305)释放到处理容器(100)的内部。利用所释放的微波来激发导入到处理容器(100)中的处理气体，对基板(G)实施期望的等离子体处理。通过使用多个电介质板(305)，可以应对大面积化，提高扩展性，并且通过在传输线路中使用同轴管，可以实现传输线路的设计紧凑，并兼顾供给低频的微波。

公开(公告)号：CN101490849B

公开(公告)日：2012-08-08

申请号：CN200780026588.6

申请日：2007-07-12

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  财团法人国际科学振兴财团

Inventor： 大见忠弘 ,  寺本章伸 ,  黑田理人

IPC: H01L29/786 ,  H01L21/28 ,  H01L21/8238 ,  H01L27/08 ,  H01L27/092 ,  H01L29/417

CPC classification number: H01L27/1203 ,  H01L21/28202 ,  H01L29/518 ,  H01L29/78654 ,  H01L29/78696

Abstract: 一种积累型晶体管，沟道区半导体层的杂质浓度高于2×1017cm-3，从而能够承受更大的栅极电压摆幅。