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公开(公告)号：CN114527630B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210417731.0
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法，将异丙醇锆与有机酸反应得到光刻胶单体，将光刻胶单体与光引发剂按比例溶解，旋涂在基板上之后，可在飞秒激光的诱导下在选定的位置发生聚合，显影后形成光刻图案，将所得的图案在空气气氛中高温退火，得到二氧化锆微纳图案，该方法无需掩模版，可以快速简便地制造任意的二氧化锆微纳图案，可用于电路电容和半导体微器件等产品的制造加工。
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公开(公告)号：CN114185246A
公开(公告)日：2022-03-15
申请号：CN202210143737.3
申请日：2022-02-17
Abstract: 本发明属于光刻胶及激光直写技术领域，并公开了一种适用于飞秒激光直写的高精度光刻胶组合物，所述光刻胶组合物由单体和光引发剂。技术特征在于，所述光刻胶组合物具有双色光敏性，可以被特定波长的飞秒激光引发聚合，同时又可以被另一束连续激光抑制聚合，抑制光束减小了飞秒激光的直写区域，从而提高了飞秒激光直写精度；进一步的，所述光刻胶组合物折射率和光学系统的物镜折射率差异小于0.01，减小了激光在光刻胶中的相差或球差，从而进一步提高飞秒激光直写精度，本发明所提供的光刻胶组合物通过特定结构的单体，不仅具有较高的直写精度，还有较低的直写阈值和体积收缩率。
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公开(公告)号：CN111983892A
公开(公告)日：2020-11-24
申请号：CN202010909777.5
申请日：2020-09-02
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种光诱导抗氧阻聚飞秒激光光刻胶及制备方法，该光刻胶包括改性富勒烯C60、活性单体、飞秒激光引发剂及溶剂。本发明在飞秒激光光刻胶体系中引入表面具有巯基的改性富勒烯C60，改性富勒烯C60可以在飞秒激光的诱导下，将飞秒激光曝光区光刻胶内的三线态氧分子转化为单线态氧分子，从而抑制三线态氧分子对活性自由基的淬灭作用，达到抗氧阻聚的作用。本发明解决飞秒激光光刻胶中三线态氧气分子对活性自由基的阻聚问题，降低飞秒激光光刻胶的聚合阈值，提高飞秒激光光刻胶的灵敏度和分辨率。
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公开(公告)号：CN118426258A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202310100102.X
申请日：2023-02-02
Abstract: 本发明公开了一种高精度激光直写金属掺杂氧化锌微纳结构的制造方法及用于该方法的锌基光刻胶。所述锌基光刻胶由锌基光刻胶单体、双光子引发剂、自由基捕捉剂、金属配合物和溶剂制成。本发明提供了一种激光直写金属掺杂氧化锌微纳结构的制造方法，包括：S1：将所述的锌基光刻胶旋涂在基板上形成光刻胶薄膜；S2：依据设计的图案，通过振镜系统控制激光焦点的位置，用飞秒激光诱导光刻胶薄膜在选定的位置发生聚合，经过显影后获得所设计的图案；S3：将获得的光刻图案在空气气氛中，经热解得到金属掺杂氧化锌微纳图案。本发明通过飞秒激光直写的方式实现金属掺杂氧化锌的高精度图案化，刻写精度最高达到亚百纳米，掺杂均匀。
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公开(公告)号：CN113253572B
公开(公告)日：2024-01-19
申请号：CN202110529681.0
申请日：2021-05-14
IPC: G03F7/027
Abstract: 本发明公开了一种智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶及光刻加工方法，其特征在于智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶组份中包含一种可逆光敏引发剂，其具有可逆光敏性，在350‑550nm波长光源的刺激下，可逆光敏引发剂可以发生结构构象转变，失去对700‑1000nm飞秒激光的非线性吸收能力，变成失活状态，从而控制光刻胶的光化学反应，以获得更高的光刻精度，智能可逆光敏性飞秒激光光刻胶，按质量百分比计，包括0.1‑6wt%可逆光敏引发剂A和94‑99.9wt%树脂B。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115755527B
公开(公告)日：2023-12-01
申请号：CN202211447300.5
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种无光引发剂的光刻胶及其制备方法、图案化方法，该光刻胶按质量百分比计，由4‑84wt％的含硅氢键化合物A、1‑86wt％含羟基化合物B和0‑91wt％溶剂C组成。本发明的光刻胶无需额外添加光引发剂，通过激光诱导硅氢键和羟基进行反应，形成交联网络，从而显影后得到图案，操作简单，环境友好；同时，含硅氧烷结构的光刻胶体系具有耐腐蚀、耐氧化稳定性、电绝缘和耐高温等特性。
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公开(公告)号：CN115793395B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202211599240.9
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于双抑制效应的高精度飞秒激光直写光刻胶组合物及其应用。所述飞秒激光直写光刻胶组合物包括单体、双光子引发剂和阻聚剂；所述单体选自丙烯酸酯类化合物和甲基丙烯酸酯类化合物中的一种或多种按任意配比的组合；以单体质量为100％计，双光子引发剂和阻聚剂的质量百分比为0.5‑5wt％和0.1‑5wt％。本发明公开的光刻胶组合物中加入了阻聚剂，利用化学抑制效应可以提高飞秒激光直写的刻写精度。本发明提供了所述光刻胶组合物在飞秒激光直写制备微结构中的应用，其结合了PPI的物理抑制和阻聚剂的化学抑制两种抑制效应，可以显著提高飞秒激光直写的刻写精度，获得极高精度的高质量刻写线条。
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公开(公告)号：CN115869465B
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202211589198.2
申请日：2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种天然蛋白光刻胶和活性氧清除细胞支架的制备方法，属于医疗的技术领域，天然蛋白光刻胶是利用天然蛋白的活性基团进行不饱和修饰，并用其做促溶剂助溶功能蛋白，将改性后蛋白溶液与丙烯酸酯化的天然生物大分子共混，最后加入水溶性光敏剂并搅拌均匀而得到天然蛋白基光刻胶。该光刻胶及细胞支架具有以下优势：优秀的生物相容性；长期保持生物活性；活性氧清除细胞支架可以治疗植入部位的炎症反应；模拟细胞外基质环境以促进细胞粘附；可以快速制备并控制支架结构的精细度，以此调控细胞的粘附、生长和迁移。
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公开(公告)号：CN115826354B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202211447277.X
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种基于硅氢加成反应的飞秒激光光刻胶及制备、图案化方法，该光刻胶包括含硅氢键化合物和含不饱和双键化合物，通过非线性双光子吸收，发生硅氢加成反应交联形成三维网状结构，显影后得到图案。本发明的光刻胶体系中无光引发剂，通过飞秒激光诱导共价键生成，无需催化剂即可进行硅氢加成反应，操作简单；同时，光刻胶体系中含硅氧烷结构，具有耐候性、耐氧化稳定性、耐腐蚀等特性，有助于增加与基材的附着力。
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公开(公告)号：CN115755527A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211447300.5
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种无光引发剂的光刻胶及其制备方法、图案化方法，该光刻胶按质量百分比计，由4‑84wt％的含硅氢键化合物A、1‑86wt％含羟基化合物B和0‑91wt％溶剂C组成。本发明的光刻胶无需额外添加光引发剂，通过激光诱导硅氢键和羟基进行反应，形成交联网络，从而显影后得到图案，操作简单，环境友好；同时，含硅氧烷结构的光刻胶体系具有耐腐蚀、耐氧化稳定性、电绝缘和耐高温等特性。
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