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公开(公告)号:CN1606137A
公开(公告)日:2005-04-13
申请号:CN200410054208.8
申请日:2004-09-02
Applicant: 上海交通大学
IPC: H01L21/308 , H01L21/32 , H01L21/467 , H01L21/475 , C23F1/02
Abstract: 一种基于纳米材料排布的纳米刻蚀方法,用于电子器件制造领域。本发明包括如下步骤:a.将单分散的无机纳米材料均匀排布在基底表面,形成纳米点、纳米线、纳米网状图形排列;b.以上述纳米阵列和图形作为掩膜,采用反应离子刻蚀和离子束刻蚀工艺,进行纳米图形和阵列的刻蚀,在基底表面形成纳米阵列图案;c.去除表面的纳米材料,获得纳米图形和阵列。本发明所采用的刻蚀工艺与传统工艺兼容,同时在刻蚀过程中以制备好的纳米材料作为掩膜,扩大了所能刻蚀的基底材料种类,而且使刻蚀工艺简化、图形方便可调,易于控制,本发明方法具有简单易行,效率高,表面的图形可控等特点,所制得的图形缺陷少,该方法适用范围广,便于推广和应用。
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公开(公告)号:CN210154720U
公开(公告)日:2020-03-17
申请号:CN201920933853.9
申请日:2019-06-20
Applicant: 上海交通大学
IPC: G01L1/00 , G01L1/18 , B32B27/08 , B32B27/06 , B32B27/28 , B32B3/08 , B32B33/00 , B32B37/00 , A61B5/0205
Abstract: 本实用新型涉及一种高灵敏度电子皮肤,包括:第一柔性衬底:外表面包裹第一封装层、内表面为具有规则形状或不规则形状的第一基底,该第一基底的表面涂有第一导电层,第二柔性衬底:外表面包裹第二封装层、内表面为具有不规则形状的第二基底,该第二基底的表面涂有第二导电层,第二基底与第一基底相对设置,第一柔性衬底及第二柔性衬底的内表面均设有电极。与现有技术相比,本实用新型灵敏度高、线性度宽,具有批量生产的前景。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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