治疗计划装置及粒子射线治疗装置

    公开(公告)号:CN107427689A

    公开(公告)日:2017-12-01

    申请号:CN201580078513.7

    申请日:2015-04-09

    Abstract: 本发明的治疗计划装置包括:保存要照射至照射对象的目标照射剂量分布的数据统辖管理部;计算广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的广域照射参数运算部;以及计算扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数的扫描照射参数运算部,广域照射参数运算部与扫描照射参数运算部协同地计算并求出广域照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数、以及扫描照射时的加速器和照射嘴各设备的动作参数,以根据广域照射和扫描照射这两者的照射剂量的总和来形成目标照射剂量分布。

    多叶准直器、粒子射线治疗装置以及治疗计划装置

    公开(公告)号:CN104941077A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201510387164.9

    申请日:2010-08-17

    Inventor: 岩田高明

    Abstract: 本发明的目的在于得到一种不受半影的影响、且能够形成对比度较高的照射野的多叶准直器以及粒子射线治疗装置。该多叶准直器包括:叶片列(5C),该叶片列(5C)将多个叶片板(5L)的一个端面(EL)对齐并使其排列在厚度方向上;以及叶片板驱动机构(5D),该叶片板驱动机构(5D)以使一个端面(EL)相对于射束轴(XB)靠近或远离的方式驱动各个叶片板(5L),对于各个叶片板(5L),叶片板和与该叶片板在厚度方向上相邻的叶片板的相对面(PL)形成于包括射束轴(XB)上的第1轴(Asa)在内的平面(PSa)内,叶片板驱动机构(5D)沿着以射束轴(XB)上的第2轴(Asb)为中心的圆周轨道(OL)来驱动叶片板(5L),该第2轴(Asb)与射束轴(XB)及第1轴(Asa)垂直。

    粒子射线照射装置
    46.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102421481B

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN200980159292.0

    申请日:2009-06-03

    CPC classification number: A61N5/10 A61N5/1043 A61N2005/1087

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种既能抑制带电粒子束的最大可利用射程的减少、又能扩大束点的剂量分布的粒子射线照射装置。本发明的粒子射线照射装置包括:粒子射线加速单元;粒子射线输送单元;扫描装置,该扫描装置包括第一扫描单元和第二扫描单元,将所述带电粒子束进行二维扫描;以及照射控制单元,该照射控制装置控制所述扫描装置,使得将所述带电粒子束照射到包含多个伪扩大束点的目标区域,所述照射控制单元控制所述第一扫描单元,使得所述带电粒子束对所述多个伪扩大束点中的成为照射对象的伪扩大束点进行扫描,并控制所述第二扫描单元,使得将成为所述照射对象的伪扩大束点改变为所述多个伪扩大束点中的其他伪扩大束点。

    粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

    公开(公告)号:CN102917755B

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201180026450.2

    申请日:2011-04-13

    CPC classification number: G21K1/093 A61N5/1043 A61N2005/1087

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种使用多组扫描电磁铁的、精度较高的、能进行从低速到高速的高自由度的带电粒子束扫描的粒子射线照射装置。粒子射线照射装置使所射入的带电粒子束沿与带电粒子束的前进方向相垂直的X方向及Y方向这两个方向的目标轨道进行扫描,以对照射对象进行照射,上述粒子射线照射装置包括多组使带电粒子束在两个方向上进行扫描的扫描电磁铁组,目标轨道由取决于与时间相对应的目标照射位置的时间序列目标轨道数据所给出,基于对时间序列目标轨道数据进行分频而得的多个数据,来生成发送给多组扫描电磁铁的各扫描电磁铁的指令值。

    多叶准直器、粒子射线治疗装置以及治疗计划装置

    公开(公告)号:CN103068441B

    公开(公告)日:2015-07-15

    申请号:CN201080068421.8

    申请日:2010-08-17

    Inventor: 岩田高明

    Abstract: 本发明的目的在于得到一种不受半影的影响、且能够形成对比度较高的照射野的多叶准直器以及粒子射线治疗装置。该多叶准直器包括:叶片列(5C),该叶片列(5C)将多个叶片板(5L)的一个端面(EL)对齐并使其排列在厚度方向上;以及叶片板驱动机构(5D),该叶片板驱动机构(5D)以使一个端面(EL)相对于射束轴(XB)靠近或远离的方式驱动各个叶片板(5L),对于各个叶片板(5L),叶片板和与该叶片板在厚度方向上相邻的叶片板的相对面(PL)形成于包括射束轴(XB)上的第1轴(Asa)在内的平面(PSa)内,叶片板驱动机构(5D)沿着以射束轴(XB)上的第2轴(Asb)为中心的圆周轨道(OL)来驱动叶片板(5L),该第2轴(Asb)与射束轴(XB)及第1轴(Asa)垂直。

    粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置

    公开(公告)号:CN104324449A

    公开(公告)日:2015-02-04

    申请号:CN201410648274.1

    申请日:2009-08-27

    Inventor: 岩田高明

    Abstract: 本发明的目的在于获得可消除扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线照射装置。包括:磁场传感器(20),该磁场传感器(20)对扫描电磁铁(3)的磁场进行测定;以及照射控制装置(5),该照射控制装置(5)对通过扫描电磁铁(3)的带电粒子束(1b)的射出量进行控制。照射控制装置(5)对于多个矩形区域(Si,j)的每一个求出通过多个矩形区域(Si,j)的带电粒子束(1b)的剂量的累计值,并基于每个矩形区域(Si,j)的累计值对带电粒子束(1b)的射出量进行控制。

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