一种制备NiV合金靶材的方法

    公开(公告)号:CN104014767B

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201410246797.3

    申请日:2014-06-05

    Abstract: 本发明公开了一种制备NiV合金靶材的方法,涉及使用特殊的熔铸方法制备高纯度、晶粒细小的NiV合金靶材产品。通过采用氧化硼作为覆盖剂对合金熔体实施净化以提高合金靶材的纯度,采用循环液态金属冷却的铜模进行浇铸实现合金熔体的快速凝固,从而获得纯度高、晶粒细小、无偏析、相结构单一的NiV合金靶材产品,提高了效率和成品率。

    制备Pt/C催化剂的调变多元醇法

    公开(公告)号:CN102029151B

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201010520668.0

    申请日:2010-10-27

    Abstract: 本发明涉及制备铂/碳催化剂的调变多元醇法,步骤为:①在通N2气保护下,Pt(acac)2在二苯醚溶剂中加热到80~120℃溶解;②加入表面活性剂油酸、油酸酰胺作为稳定剂;③将经过处理的碳黑加入溶液中,不断搅拌1~3h,使乙酰丙酮铂先负载到该碳黑上;④在连续搅拌条件下加入还原剂多元醇,加热回流0.5~1h,使乙酰丙酮铂充分还原成铂;⑤溶液过滤,用无水乙醇多次洗涤后真空干燥。所制备的Pt/C催化剂具有粒径小、分散性好且粒度分布均匀的特点。本发明的催化剂用于氢氧燃料电池中具有很高的电催化活性。所制备的Pt/C催化剂具有粒径小、分散性好且粒度分布均匀的特点。按照本发明制备的Pt/C催化剂的透射电子显微效果图,平均粒径为2.3nm。

    一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111286703A

    公开(公告)日:2020-06-16

    申请号:CN202010245239.0

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明公开了一种镍铂合金溅射靶材及其制备方法,所述镍铂合金溅射靶材中铂的含量为21~31%原子百分比,镍铂溅射靶材溅射面的(111)面的取向率大于30%,(200)面的取向率小于(111)面且大于20%。所述制备方法包括以下步骤:以4N5镍和铂为原料,配制成铂的含量为21~31%的合金,将合金放入熔炼炉中进行熔炼,待原料熔化后置于浇铸模具中进行浇铸获得铸锭;再将铸锭采用温轧轧制形成坯料后再结晶退火,最后加工成型获得靶材。本发明制备获得了成品率高,稳定性好的含铂为21~31原子%的NiPt合金溅射靶材,通过控制晶粒取向改善了靶材的成膜速率和薄膜性能稳定性,获得了沉积速率和膜厚均匀性较好的NiPt薄膜,大大提高了生产效率,极大节约了成本。

    一种晶粒高定向取向的钌溅射靶材及其制备方法

    公开(公告)号:CN111270210A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN202010186065.5

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 本发明公开了一种晶粒高定向取向的钌溅射靶材及其制备方法,钌溅射靶材呈现(002)晶面高定向取向,致密度不低于99.5%,晶粒尺寸1-10 μm,氧含量100 ppm以内;所述(002)晶面与(101)晶面积分强度比不低于3。所述制备方法包括以下步骤:选择4N及以上纯度,粒度为1-10 μm的钌粉;随后将粉末进行冷压成型;再将冷压成型的锭坯进行低温微波烧结;再将锭坯进行低温真空热压烧结进一步提高致密度;最后机加工获得靶材。本发明采用较低的烧结温度、低温真空热压技术及充氢气形成还原气氛,使得钌溅射靶材性能优异,高致密度和(002)晶面高定向取向有助于获得高溅射速率、厚度均匀的钌薄膜,制备工艺简便,条件温和易于操控,而且可大大提高生产效率,极大地节约制备成本。

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