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公开(公告)号：CN101726779B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200910231737.3
申请日：2009-12-03
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101799569A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010126045.5
申请日：2010-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101382611B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810155639.1
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN101382611A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810155639.1
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN1350211A
公开(公告)日：2002-05-22
申请号：CN01134127.0
申请日：2001-10-29
Applicant: 苏州大学
Abstract: 一种光学可变图像的制作方法,由一光源经成像系统将形状光阑成像到全息光学元件上,产生一对衍射光束;将衍射光束会聚在记录材料上,产生一定形状的干涉条纹点;移动记录材料的位置;记录下一个干涉条纹点;重复上述步骤,直至完成。本发明的光学可变图像照排系统,包括由光源、衍射前成像系统、全息光学元件、衍射后成像系统组成的光路系统、工作台及控制部分,全息光学元件设置在转台上,工作台可以沿X轴和Y轴运动,记录材料位于衍射后成像系统的焦面上。本发明能有效利用入射光的能量,完成全息衍射光栅的制作,速度快,且图像具有加密和更丰富的信息表达特征。
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公开(公告)号：CN109521655B
公开(公告)日：2020-10-09
申请号：CN201811581256.0
申请日：2018-12-24
Applicant: 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明属于信息光学技术领域，涉及一种全息干涉光刻系统，为解决干涉条纹漂移全息光栅对比度下降问题，用第一高速光电探测器采集参考光栅表面莫尔条纹光强度信号，并将光强信号同时传输到单片机和PID控制器；第二高速光电探测器通过光束取样光栅监控激光器的光强信号，该光强信号传输到单片机，PID控制器的信号输出端传输到第一超声波发生器的频率调制输入端；当PID控制器判断出第一高速光电探测器实时探测的光强信号变化时，PID控制器输出反馈信号给第一超声波发生器，第一超声波发生器频率相应的改变，第一声光调制器的‑1级衍射光的相位发生变化，从而锁定莫尔条纹的相位，实现了对干涉条纹相位的锁定。
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公开(公告)号：CN108761602B
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201810494570.9
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种全息光栅光刻系统中干涉光路自准直的调节方法，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，在准直透镜的后方放置体布拉格光栅，曝光光束入射至体布拉格光栅的入射角等于所述体布拉格光栅的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅后的‑1级透射衍射光路上放置光电探测器；沿着光轴前后移动针孔滤波器，实时观察光电探测器的读数，当光电探测器的读数最大时，固定针孔滤波器并且保持第一针孔滤波器与第一准直透镜间距恒定；本发明提出了一种自准直光路的调节方法，用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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公开(公告)号：CN108761603A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810495948.7
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题，使用体布拉格光栅‑1级透射衍射效率作为平行光的判断标准，可以较为精确的确定针孔滤波器与准直透镜之间的距离，准确的将针孔滤波器的小孔放置在准直透镜的物方焦点上，从而实现干涉光路的准直；此外该系统有助于实现对曝光光束平行性的实时监控，配合PZT平移台还可以实现对平行光的锁定，从而提高了平行等间距条纹的全息光栅的拍摄质量。
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公开(公告)号：CN107870385A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201711407559.6
申请日：2017-12-22
Applicant: 苏州大学
CPC classification number: G02B5/3058 , G03F7/70408 , G03F9/7049
Abstract: 本发明公开了一种线栅偏振器的制造方法，采用层叠刻蚀的方式逐层制造线栅，采用全息光刻方法逐层制作光刻胶掩模，并采用离子束刻蚀方法实现掩模转移，并利用光学莫尔条纹方法将从第二层开始的光栅与第一层的光栅进行对准，制造高深宽比结构的线栅。本发明还公开了一种线栅偏振器的制造系统，包括镀膜机、光刻涂胶机、PECVD装置、干法刻蚀机、离子束刻蚀机、全息光刻系统、以及与所述全息光刻系统结合设置的光学对准装置，用于实施上述线栅偏振器的制造方法。
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