半导体器件
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101943667B

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201010298495.2

    申请日:2006-02-03

    CPC classification number: G01N22/00

    Abstract: 通过具有用于将电磁波转换成电信号的天线、用于检测化学反应的检测部分、和用于控制天线和检测部分的控制部分,提供了便利性增强的半导体器件。检测部分包括至少检测元件,控制部分包括至少晶体管。检测元件包括用于固化核酸、蛋白质、酶、抗原、抗体和微生物中至少任一的反应层。或者,半导体器件包括天线、检测部分、控制部分和存储部分。存储部分包括至少存储元件,存储元件包括第一导电层、第二导电层、和位于第一导电层和第二导电层之间的层。

    半导体器件
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101115990B

    公开(公告)日:2010-12-01

    申请号:CN200680004209.9

    申请日:2006-02-03

    CPC classification number: G01N22/00

    Abstract: 通过具有用于将电磁波转换成电信号的天线、用于检测化学反应的检测部分、和用于控制天线和检测部分的控制部分,提供了便利性增强的半导体器件。检测部分包括至少检测元件,控制部分包括至少晶体管。检测元件包括用于固定化核酸、蛋白质、酶、抗原、抗体和微生物中至少任一的反应层。或者,半导体器件包括天线、检测部分、控制部分和存储部分。存储部分包括至少存储元件,存储元件包括第一导电层、第二导电层、和位于第一导电层和第二导电层之间的层。

    半导体器件及其制造方法
    37.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100474621C

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200510067204.8

    申请日:2005-04-19

    Abstract: 在为TFT配备LDD区的情形中,必需单独形成将作为掩模的绝缘膜或设计栅电极层的形状,以便使注入半导体膜的杂质浓度不同;因此,构图步骤的数目必然增加,并且步骤变得复杂。按照本发明一个特征的半导体器件包括半导体层,该半导体层包括沟道区、一对杂质区和一对低浓度杂质区;以及具有膜厚度不均匀的单层结构或层叠结构的栅电极层,通过将栅绝缘膜夹在栅电极层与半导体层之间,栅电极层与半导体层发生接触。具体地说,通过采用微滴排放法,能够容易地形成膜厚度不均匀的栅电极层;因此,微滴排放法的便利性得以充分利用。

    电路
    39.
    发明授权
    电路 失效

    公开(公告)号:CN100377494C

    公开(公告)日:2008-03-26

    申请号:CN03100795.3

    申请日:2003-01-17

    Abstract: 由于制造过程或所采用的基片中的差别而引起的门极绝缘薄膜中的变化,以及沟道区域晶体状态中的变化,这两种因素的结合产生的阈值电压的变化或变动性困扰着晶体管。本发明提供了一种电路,该电路具有一种配置,使得电容元件的两个电极能够保持一个特定晶体管的门极-源极电压。本发明提供了一种电路,该电路能够通过使用一种恒流源来在所述电容元件的两个电极之间设定一个电位差。

    半导体器件及其制造方法
    40.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1697196A

    公开(公告)日:2005-11-16

    申请号:CN200510067204.8

    申请日:2005-04-19

    Abstract: 在为TFT配备LDD区的情形中,必需单独形成将作为掩模的绝缘膜或设计栅电极层的形状,以便使注入半导体膜的杂质浓度不同;因此,构图步骤的数目必然增加,并且步骤变得复杂。按照本发明一个特征的半导体器件包括半导体层,该半导体层包括沟道区、一对杂质区和一对低浓度杂质区;以及具有膜厚度不均匀的单层结构或层叠结构的栅电极层,通过将栅绝缘膜夹在栅电极层与半导体层之间,栅电极层与半导体层发生接触。具体地说,通过采用微滴排放法,能够容易地形成膜厚度不均匀的栅电极层;因此,微滴排放法的便利性得以充分利用。

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