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公开(公告)号：CN101784575A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880104177.9
申请日：2008-08-29
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F297/02
CPC classification number: C08F297/02 , C08F220/18 , C08F297/026 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , C08F222/1006
Abstract: 本发明提供线型聚合物不残存、能够作为照相平版加工的感光性抗蚀剂用材料使用的星形聚合物。在有机溶剂中，在有机碱金属化合物、以及碱金属或碱土类金属的无机盐以下述量存在的条件下，使式(IV)所表示的多官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上进行阴离子聚合反应，由此制造聚合物而形成核部后，从核部的阴离子活性部位通过阴离子聚合使式(I)所表示的单官能性(甲基)丙烯酸酯衍生物中的1种或2种以上发生聚合而形成臂部，其中，相对于该式(IV)的化合物1摩尔，有机碱金属化合物为0.1～0.99摩尔，相对于该有机碱金属化合物1摩尔，碱金属或碱土类金属的无机盐为0.1～20摩尔。(式中，R表示氢原子等，n表示2或3，A表示用碳原子进行键合的有机基团。)(式中，R1表示氢原子等，R2表示有机基团。)。
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公开(公告)号：CN101258184A
公开(公告)日：2008-09-03
申请号：CN200680032484.1
申请日：2006-09-07
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 新谷武士
IPC: C08G81/00 , C08F4/00 , C08F8/00 , C08F289/00 , C08G64/00
CPC classification number: C08F289/00 , C08F4/00 , C08F265/04 , C08F285/00 , C08F291/00 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F297/00 , C08F297/02 , C08G81/00 , C08G83/003 , C08L53/00 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供分子结构得到控制的新型窄分散的树枝形大分子状星形聚合物以及能够简便地制造所述星形聚合物的制造方法。提供一种由核部和臂部构成的星形聚合物，其特征为，所述臂部具有由聚合物链构成的第一代以及在第一代的外周由聚合物链构成的第二代，第二代的臂数大于第一代的臂数，由聚合物链构成的第一代是由具有聚合性双键的单体衍生的聚合物链，所述星形聚合物的重均分子量(Mw)与数均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)在1.001～2.50的范围。该星形聚合物的制造方法是：使成为臂部的聚合物链与成为核部的化合物反应，所述聚合物链具有两个以上的官能团且具有阴离子末端，所述成为核部的化合物具有能够与阴离子反应的官能团。
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公开(公告)号：CN101107282A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：CN200680002562.3
申请日：2006-01-18
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F293/00 , C08F290/06 , C08L53/00 , C09J153/00 , H01B1/06 , H01M10/40
CPC classification number: C08F290/06 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F2438/01 , C08J5/2268 , C08J2353/00 , C08L53/00 , C08L2666/02 , C09J153/00 , H01M10/052 , H01M10/0565 , H01M2300/0082
Abstract: 本发明提供以B、A、B的配置顺序具有由含有重复单元(I)、(II)的无规共聚物构成的嵌段链A、和具有重复单元(III)的嵌段链B的高分子，由该高分子与交联剂的反应而得到的交联高分子，含有这些高分子和电解质盐的高分子固体电解质用组合物，高分子固体电解质和粘接性组合物。R1～R3、R6、R8、R10～R12表示氢原子或碳原子数1～10的烃基，R4a、R4b表示氢原子或甲基，R5表示氢原子、烃基等，m表示1～100的任一整数，R7表示氢原子、碳原子数1～10的烃基、羟基等，R9表示羟基、羧基、环氧基等，R13表示芳基或杂芳基。
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公开(公告)号：CN101001887A
公开(公告)日：2007-07-18
申请号：CN200580027359.7
申请日：2005-08-11
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F4/40 , C08F12/00 , C08F20/00 , C09J133/14
Abstract: 本发明提供下述式(I)表示的多分支聚合物及该多分支聚合物的制造方法。式中，A表示具有3个以上分支链的有机基团，Xa表示含有周期表第14～16族的任一原子的连接基团，Y表示结构中可具有活性卤素原子的官能团，Q表示具有由聚合性不饱和键衍生的重复单元的臂部，m1表示从1至上述A所具有的分支链的个数中的任一整数，m2表示上述A所具有的分支链的个数，n1表示0或1以上的整数，Ra表示不参与聚合反应的有机基团。
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公开(公告)号：CN1886431A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：CN200480034676.7
申请日：2004-11-25
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08F12/16 , C08F4/06 , C08G83/005
Abstract: 本发明的目的在于提供支链末端容易修饰、支化系数高、而且分散窄的多支链高分子。通过采用具有2个或更多个聚合起始点和聚合性不饱和键的化合物，并采用使用了金属催化剂的活性自由基聚合法，可以制造具有用式(I)表示的重复单元的、分散窄、高支化系数的多支链高分子，所述式(I)为上式。式(I)中，R1～R3各自独立，表示氢原子或烃基，R1和R3可以结合形成环。X表示3价或更高价的连结基团。Y表示在末端上可以具有卤素原子的官能团，a表示2或更大的整数，Y之间可以相同也可以不同。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104822714B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201380062849.5
申请日：2013-12-03
Applicant: 日本曹达株式会社
IPC: C08F20/18
CPC classification number: C08F220/34 , C08F2/38 , C08F2220/346
Abstract: 本发明寻求具有高空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的(甲基)丙烯酸酯系聚合物的新颖的制造方法，尤其是不需要通过保护基保护仲胺的简便的制造方法。具有空间位阻性仲氨基或高空间位阻性卤代氨基的特定的(甲基)丙烯酸酯单体可以在不保护该仲胺的情况下通过活性阴离子聚合法进行聚合，根据本发明的制造方法，能够得到分子量分布窄的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
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公开(公告)号：CN102869693B
公开(公告)日：2015-04-15
申请号：CN201180017591.8
申请日：2011-04-08
IPC: C08F297/00
CPC classification number: C08F283/06 , C08F220/10
Abstract: 本发明提供作为颜料的分散剂等有用的新型共聚物。新型共聚物是以含有嵌段链（A）和嵌段链（B）为特征的共聚物，所述嵌段链（A）由包含选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元的聚合物构成，所述嵌段链（B）由包含具有聚氧烷撑链的重复单元和具有酸性基团的重复单元的共聚物构成。作为选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元，例如是下述式（Ⅱ）表示的重复单元，作为具有聚氧烷撑链的重复单元，例如是下述式（Ⅲ）表示的重复单元。
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公开(公告)号：CN103180354B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201180051128.5
申请日：2011-11-02
IPC: C08F297/02
CPC classification number: C08F265/04 , C08F297/026 , C09D11/326
Abstract: 本发明的课题在于提供一种在彩色液晶显示装置领域等中作为颜料分散剂而有用的新型共聚物。本发明的共聚物含有嵌段链（A）和嵌段链（B），所述嵌段链（A）含有选自具有叔氨基的重复单元和具有季铵盐基的重复单元中的至少1种重复单元，所述嵌段链（B）含有下述式（I）表示的重复单元和下述式（II）表示的重复单元，上述式（II）表示的重复单元的共聚比例在除了上述式（I）表示的重复单元之外的嵌段链（B）中为90重量%以上。式（I）中，R1表示氢原子等，R2和R3各自独立地表示氢原子等，Q表示可具有烷基作为取代基的含氧饱和杂环基团等，n表示0～6中的任一整数。式（II）中，R4表示氢原子等，R5表示饱和脂肪族烃基等。
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公开(公告)号：CN102775535B
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201210236774.5
申请日：2004-11-25
Applicant: 日本曹达株式会社
CPC classification number: C08F12/16 , C08F4/06 , C08G83/005
Abstract: 本发明的目的在于提供支链末端容易修饰、支化系数高、而且分散窄的多支链高分子。通过采用具有2个或更多个聚合起始点和聚合性不饱和键的化合物，并采用使用了金属催化剂的活性自由基聚合法，可以制造具有用式（I）表示的重复单元的、分散窄、高支化系数的多支链高分子，所述式（I）为式（I）中，R1~R3各自独立，表示氢原子或烃基，R1和R3可以结合形成环。X表示3价或更高价的连结基团。Y表示在末端上可以具有卤素原子的官能团，a表示2或更大的整数，Y之间可以相同也可以不同。
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公开(公告)号：CN102206313B
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201110052841.3
申请日：2006-09-07
Applicant: 日本曹达株式会社
Inventor： 新谷武士
IPC: C08F289/00 , C08F4/00 , C08F8/00 , C08G83/00 , C08G64/00
CPC classification number: C08F289/00 , C08F4/00 , C08F265/04 , C08F285/00 , C08F291/00 , C08F293/00 , C08F293/005 , C08F297/00 , C08F297/02 , C08G81/00 , C08G83/003 , C08L53/00 , C08L2666/02
Abstract: 本发明提供星形聚合物及其制造方法，即，提供分子结构得到控制的新型窄分散的树枝形大分子状星形聚合物以及能够简便地制造所述星形聚合物的制造方法。提供一种由核部和臂部构成的星形聚合物，其特征为，所述臂部是由具有聚合性双键的单体衍生且在末端具有两个以上官能团的聚合物链，所述星形聚合物的重均分子量Mw与数均分子量Mn之比，即Mw/Mn在1.001～2.50的范围。该星形聚合物的制造方法是：使成为臂部的聚合物链与成为核部的化合物反应，所述聚合物链具有两个以上的官能团且具有阴离子末端，所述成为核部的化合物具有能够与阴离子反应的官能团。
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