公开(公告)号：CN219106112U

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202222466219.3

申请日：2022-09-16

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： C·瓦尔德弗里德 ,  J·莱辛斯基 ,  F·波帕 ,  M·亚尔迪兹利

IPC: H01L21/683

Abstract: 本申请案涉及一种静电吸盘底座。描述用于在处理工件的步骤期间支撑所述工件的静电吸盘及通过增材制造技术制备的静电吸盘底座组件。

公开(公告)号：CN218596504U

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202220620365.4

申请日：2022-03-21

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： N·困达 ,  J·纳拉亚纳莫奥瑞思 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/30

Abstract: 本实用新型涉及具有氟化钇涂层的衬底。描述衬底，其包含：高纵横比表面和非高纵横比表面、至少两个涂层，一个涂层位于高纵横比表面处且第二涂层位于非高纵横比表面处，且具有氟化外表面；制备这些涂层的方法；以及包含所述涂层的衬底、表面、设备和设备组件。