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公开(公告)号:CN103664721A
公开(公告)日:2014-03-26
申请号:CN201310438773.3
申请日:2013-09-24
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C07C327/26
CPC classification number: C07C327/26
Abstract: 本发明提供一种方法,包括使由式(1)表示并且其中Ar1为任选取代的芳基且X为卤素的卤化硫代羰基化合物与由式(2)Ar2-M表示并且其中Ar2为任选取代的芳基且M是碱金属或一价铜的芳化金属化合物进行反应,该方法可以在相对温和的反应条件下,以高收率制备由式(3)表示并且其中Ar1和Ar2如上定义的芳基硫代羧酸的芳基酯。
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公开(公告)号:CN1171348C
公开(公告)日:2004-10-13
申请号:CN98800794.0
申请日:1998-03-25
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: H01M10/40
CPC classification number: H01M10/0567 , H01M2/20 , H01M4/60 , H01M6/164 , H01M10/052 , H01M10/0566
Abstract: 提供了一种电解液,其中含有至少一种二卤代二羰基化合物,该二卤代二羰基化合物的两个羰基之间亚甲基的氢原子被卤原子取代;还提供了一种包含该电解液、正极活性物质和负极活性物质的电能发生装置。这种电解液具有高极性、高耐氧化性和阻燃性,作为电能发生装置的电解液使用时具有优良性能。
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公开(公告)号:CN1067396C
公开(公告)日:2001-06-20
申请号:CN96191134.4
申请日:1996-08-02
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C07D487/08
CPC classification number: C07D487/08
Abstract: 通式(Ⅰ)的N,N′-二氟二氮双环链烷烃盐的制造方法,包括:在布朗斯台德酸的存在下、或在存在或不存在碱的条件下,使对应的二氮杂双环链烷烃或二氮杂双环链烷烃·布朗斯台德酸盐与氟反应;使对应的N,N′-二氟二氮双环链烷烃盐与酸或盐反应;使对应的二氮杂双环链烷烃与氟反应,接着与酸或盐连续反应;或者使对应的二氮杂双环链烷烃·布朗斯台德酸盐与氟反应接着与酸或盐连续反应。通式(Ⅱ)
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公开(公告)号:CN119403778A
公开(公告)日:2025-02-07
申请号:CN202380051743.9
申请日:2023-07-04
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C07C41/22 , C07C43/12 , C07C43/225 , C07C319/20 , C07C323/12 , C07C67/307 , C07C69/716
Abstract: 本发明提供一种氟化有机化合物的制造方法,其在氟化组合物的存在下对有机化合物进行氟化,该氟化组合物含有IF5、碘和胺,并且相对于1摩尔的上述IF5含有0.12摩尔以下的上述碘,该制造方法能够高效地合成氟化有机化合物。
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公开(公告)号:CN118994210A
公开(公告)日:2024-11-22
申请号:CN202411064048.9
申请日:2020-12-17
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C07F3/06 , C07C17/263 , C07C21/20 , C07C21/19
Abstract: 根据本发明,通过在0价碱金属的存在下,使通式(2)所示的卤代烯烃化合物与通式(3)所示的卤化锌化合物反应,能够以良好的收率得到含氟(环)烯基卤化锌化合物:#imgabs0#通式(2)中,R1、R2和R3与前述相同;X2表示卤素原子;波浪线所示的单键表示:相对于其所键合的双键的立体构型为E构型或Z构型、或它们的任意比例的混合物,ZnX1 (3)通式(3)中,X1与前述相同。
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公开(公告)号:CN112047913A
公开(公告)日:2020-12-08
申请号:CN202010909196.1
申请日:2014-10-02
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C07D307/89
Abstract: 本发明的目的在于,能够合成多种在四氟乙烯结构(‑CF2‑CF2‑)的两末端具有有机基团的含氟化合物。本发明提供一种含氟络合化合物,其含有式(1a):R1‑CF2‑CF2‑M1 (1a)[式中,M1表示选自铜、锌、镍、铁、钴和锡中的金属;且R1表示有机基团。]所示的含氟有机金属化合物以及选自具有吡啶环的化合物和膦中的配体。
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公开(公告)号:CN105936823A
公开(公告)日:2016-09-14
申请号:CN201610124361.6
申请日:2016-03-04
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
Abstract: 本发明的课题在于提供一种能够以低成本、对环境的影响小、通过安全且简便的操作在硅基板等被处理物的表面形成倒金字塔构造的纹理的蚀刻处理用组合物。本发明的解決方法为一种蚀刻处理用组合物,该蚀刻处理用组合物含有含氮芳香族杂环化合物和氟化氢。
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公开(公告)号:CN105683200A
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:CN201480054514.3
申请日:2014-10-02
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C07F1/08 , C07B37/04 , C07C17/263 , C07C22/08 , C07C37/18 , C07C39/367 , C07C41/30 , C07C43/225 , C07C45/45 , C07C47/55 , C07C49/233 , C07C49/235 , C07C49/84 , C07C67/333 , C07C69/65 , C07C69/76 , C07C209/68 , C07C211/52 , C07C253/30 , C07C255/50 , C07C381/00 , C07D213/26 , C07D307/87 , C07D333/12 , C07F5/02 , C07F7/12 , C07F7/18
Abstract: 本发明的目的在于,能够合成多种在四氟乙烯结构(-CF2-CF2-)的两末端具有有机基团的含氟化合物。本发明提供一种含氟络合化合物,其含有式(1a):R1-CF2-CF2-M1(1a)[式中,M1表示选自铜、锌、镍、铁、钴和锡中的金属;且R1表示有机基团。]所示的含氟有机金属化合物以及选自具有吡啶环的化合物和膦中的配体。
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