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公开(公告)号：CN112469744B
公开(公告)日：2023-11-28
申请号：CN201980043827.1
申请日：2019-07-12
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种不容易生成碳原子数6～14的全氟羧酸及其盐的低分子量聚四氟乙烯的制造方法。本发明涉及一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其是380℃的熔融粘度为1.0×102～7.0×105Pa·s的低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其特征在于，该制造方法包括下述工序：工序四氟乙烯照射放射线，由此将上述高分子量聚四氟乙烯低分子量化；以及工序(2)，在实质上不存在氧的条件下使通过上述照射生成的主链自由基和末端自由基中的至少一部分失活，由此得到上述低分子量聚四氟乙烯。(1)，在实质上不存在氧的条件下对高分子量聚
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公开(公告)号：CN112384656B
公开(公告)日：2022-11-18
申请号：CN201980042607.7
申请日：2019-06-28
Applicant: 国立大学法人大阪大学 , 大金工业株式会社
Abstract: 一种纸的制造方法，其包括：对纸基材和化合物(A)的至少一方照射电离辐射线和等离子体中的至少一种，由此将由化合物(A)形成的层导入上述纸基材的表面的步骤，上述化合物(A)选自具有碳－碳不饱和键并且在分子结构内不含氟原子的化合物、并且通过照射电子束产生自由基并且在分子结构内不含氟原子的化合物。
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公开(公告)号：CN115151521A
公开(公告)日：2022-10-04
申请号：CN202180016618.5
申请日：2021-02-24
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C07C17/269 , C07C21/18 , C07C17/361
Abstract: 本发明涉及一种在目标化合物的合成过程中不需要高温和催化剂，并且目标化合物的选择率高的氢氟烯烃(HFO)或氟烯烃(FO)的制造方法。本发明具体提供一种碳原子数为2、3或4的氢氟烯烃或氟烯烃的制造方法，其特征在于：向选自碳原子数为1或2的氢氟烃和碳原子数为2或3的氢氟烯烃A中的至少一种原料化合物照射电离辐射线和/或波长300nm以下的紫外线，其中，当上述原料化合物为上述氢氟烯烃A时，所得到的上述氢氟烯烃不同于上述氢氟烯烃A。
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公开(公告)号：CN115151521B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202180016618.5
申请日：2021-02-24
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C07C17/269 , C07C21/18 , C07C17/361
Abstract: 本发明涉及一种在目标化合物的合成过程中不需要高温和催化剂，并且目标化合物的选择率高的氢氟烯烃(HFO)或氟烯烃(FO)的制造方法。本发明具体提供一种碳原子数为2、3或4的氢氟烯烃或氟烯烃的制造方法，其特征在于：向选自碳原子数为1或2的氢氟烃和碳原子数为2或3的氢氟烯烃A中的至少一种原料化合物照射电离辐射线和/或波长300nm以下的紫外线，其中，当上述原料化合物为上述氢氟烯烃A时，所得到的上述氢氟烯烃不同于上述氢氟烯烃A。
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公开(公告)号：CN108779258A
公开(公告)日：2018-11-09
申请号：CN201780015105.6
申请日：2017-03-06
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08J3/12 , C08F255/00 , C08J3/28
CPC classification number: C08F255/00 , C08J3/12 , C08J3/28
Abstract: 本发明提供一种由成型用材料制造成型体的方法，其特征在于，成型用材料具有含氟接枝链。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103842857A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280046459.4
申请日：2012-09-28
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: G02B5/02 , C08F210/02 , C08F214/18 , H01L31/054
CPC classification number: H01L31/0524 , G02B5/0215 , G02B5/0231 , G02B5/0278 , G02B6/0053 , H01L31/02366 , H01L31/0547 , H01L51/447 , H02S40/00 , Y02E10/52
Abstract: 本发明的目的在于提供能够高效率地对来自太阳的直射光和/或散射光进行聚光的聚光膜、具备上述聚光膜的太阳能电池组件、以及用于制造上述聚光膜的转印模(铸模)。本发明的聚光膜的特征在于，其在至少一侧表面具有微细凹凸的重复结构，凹凸高度(H)为0.05μm～15μm、凹凸周期(P)为0.05μm～50μm，该聚光膜对来自太阳的直射光和/或散射光进行聚光。
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公开(公告)号：CN101014633A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200580030293.7
申请日：2005-08-25
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: C08F30/04 , C08F299/00 , C08F290/00 , C09D143/04 , C07F7/18
CPC classification number: C08F214/18 , C07F7/1804 , C09D143/04
Abstract: 本发明提供一种具有水解性金属醇盐部位的含氟化合物、由该化合物得到的固化性含氟聚合物和含有该含氟聚合物的固化性含氟树脂组合物。本发明所提供的固化性含氟聚合物是一种作为层压体有用的材料，所述层压体能够维持防眩性，不会出现由于表面散射而导致的“泛白模糊”，粘合性优异，且具有实用的低反射性。本发明所述的具有水解性金属醇盐部位的含氟化合物以下述通式(1)表示，通式(1)中，X1和X2相同或不同，表示H或F；X3表示H、F、CH3或CF3；X4和X5相同或不同，表示H、F或CF3；Rf1表示有机基，所述有机基是碳原子数为1～40的含氟烷基或碳原子数为2～100的具有醚键的含氟烷基，其中的1～3个氢原子被Y1取代，所述Y1是在末端含有至少一个碳原子数为1～10的水解性金属醇盐部位的官能团；a表示0～3的整数；b和c相同或不同，表示0或1。
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公开(公告)号：CN1675303A
公开(公告)日：2005-09-28
申请号：CN03819263.2
申请日：2003-08-07
Applicant: 大金工业株式会社
CPC classification number: G02B1/045 , C08F20/22 , C08K5/0025 , C09D127/12 , G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B2006/12069 , G02B2006/1219 , G03F7/0046 , G03F7/038 , C08L27/12
Abstract: 本发明涉及含有可固化的含氟聚合物(I)并且含有光致产酸剂(II)的光学材料，提供适宜作为光波导和密封部件等光学装置用材料以及防反射膜等显示装置用材料且在近红外区域的透明性、耐吸湿性、耐热性等优越的各种光学材料及固化后的部件。所述可固化的含氟聚合物(I)用下述式(1)表示，含有0.1摩尔％～100摩尔％的结构单元M和0～99.9摩尔％的结构单元A，并且数均分子量为500～1000000，式(1)中，结构单元M为用式(M)表示的来自于含氟烯型单体的结构单元，结构单元A为来自于可与该式(M)表示的含氟烯型单体共聚的单体的结构单元。（ M ）（ A ）(1)。
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公开(公告)号：CN114945604B
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202180009061.2
申请日：2021-01-15
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立大学法人大阪大学
IPC: C08F8/50 , C08F114/26
Abstract: 本发明提供不容易生成全氟辛酸及其盐的低分子量聚四氟乙烯的制造方法等。本发明涉及一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其是在380℃的熔融粘度为1.0×102～7.0×105Pa·s的低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其包括下述工序：工序(1)，在能够生成游离氢原子的物质的存在下对高分子量聚四氟乙烯照射放射线，由此将上述高分子量聚四氟乙烯低分子量化；以及工序(2)，使通过上述照射生成的主链自由基和末端自由基中的至少一部分失活，由此得到上述低分子量聚四氟乙烯。
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公开(公告)号：CN114616456A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202080075499.6
申请日：2020-10-29
Applicant: 大金工业株式会社 , 国立研究开发法人理化学研究所
IPC: G01N21/39 , G01N21/3504
Abstract: 一种气体检测装置(10)，用于对存在于远离的对象空间的二氟甲烷进行检测，包括检测部(22)。检测部(22)利用位于第一波长范围到第六波长范围中的任一波长范围的规定波长的光会被吸收来检测存在于对象空间的二氟甲烷。
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