一种低成本低污染的氮化镓纳米线的制备生成方法

    公开(公告)号:CN102936006A

    公开(公告)日:2013-02-20

    申请号:CN201210410794.X

    申请日:2012-10-24

    Abstract: 一种低成本低污染的氮化镓纳米线的制备生成方法,属于无机化合物半导体材料领域。本发明步骤:(1)GaN粉体通过掺胶、研磨,压片,经过煅烧后,烧制成GaN靶;(2)将清洗烘干后的硅片在SBC-12小型离子溅射仪沉积30s-60s,得到表面有厚度为10nm-30nm金膜的衬底;(3)利用等离子体辅助热丝化学气象沉积法:在气压为1500Pa-2500Pa,衬底温度800℃-1000℃,偏压电流100mA-180m,通入氮气流速为10-50厘米3/分钟,通入氢气流速为10-50厘米3/分钟,沉积时间为5min~30min。本发明得到实心、线形氮化镓纳米线,产物形貌平直整齐、排列有序、均匀、成线性,光学、化学、物理性能稳定,制备流程短,产物生长快,直径达40-150nm,单根线平均长度为10-15μm。

    一种提高排水性能的换热器翅片

    公开(公告)号:CN102748987A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN201210240682.4

    申请日:2012-07-11

    Abstract: 一种提高排水性能的换热器翅片,属于换热器翅片技术领域。翅片的表面由两种不同润湿性能的表面按照一定的图案组合而成,构成许多的大接触角表面的间隔,第一种表面是超亲水表面,其接触角的范围是0°到15°;第二种表面则是大接触角的表面,接触角范围是30°到180°,本发明大大降低了翅片下沿的毛细效应,减小了悬挂水桥的附着高度,甚至避免下沿水桥的形成,从而有效降低翅片的存水量。

    一种下转换发光增强复合粉体材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN102719251A

    公开(公告)日:2012-10-10

    申请号:CN201210193653.7

    申请日:2012-06-12

    Abstract: 本发明属于固体发光材料领域,具体涉及一种下转换发光增强复合粉体材料及其制备方法。其化学组成表示式为:(Y1-x-yPrxYby)PO4/zTiO2,其中x的摩尔分数为1~20%,y的摩尔分数为1~30%,z的摩尔分数为0~50%。组成原料为:Y2O3、P2O5、Pr2O3、Yb2O3和TiO2,其中Pr2O3摩尔分数为1~20%,Yb2O3摩尔分数为1~30%,TiO2摩尔分数为0~50%。本发明的下转换发光增强复合粉体材料具有强的近红外光发射,特别是加入TiO2后可以使材料的发光强度进一步增强并使近红外光区800~1100nm处的发射光谱宽化,发射主峰位置与硅的禁带宽度完美相匹配,可有效提高晶体硅太阳能电池的光电转换效率,是潜在的晶体硅太阳能电池用下转换发光增强复合粉体材料。

    多层超薄膜结构增强场发射阴极制备方法

    公开(公告)号:CN100530492C

    公开(公告)日:2009-08-19

    申请号:CN200510084230.1

    申请日:2005-07-18

    Abstract: 本发明涉及一种电子发射阴极结构的制备,适用于平面显示器件或电子源阴极材阴极。本发明步骤:选定金属或n掺杂半导体,作为电子供给层;选择多层膜构成组分,选择原则为:组分材料的电子亲和势应存在差异;设计多层膜,层数至少两层,且相邻膜层为不同组分,除基底外的多层膜总厚度为6~20nm,而每层厚度大于1nm,小于或等于10nm;确定每层膜层厚度:多层膜总厚度不变,每层膜厚度为1~10nm情况下,改变其膜厚度,得到多种不同厚度比例的多层膜结构;计算上述不同的多层膜结构的场发射电流,选取最大的多层膜结构确定每层膜的实际厚度;按确定每层膜实际厚度在基底上沉积一组多层膜结构。本发明无需开发新材料或完善材料本身特性即可提高场发射特性。

    二氧化钛薄膜材料的超亲水驱油表面制备方法

    公开(公告)号:CN100460561C

    公开(公告)日:2009-02-11

    申请号:CN200610114663.1

    申请日:2006-11-21

    Abstract: 二氧化钛薄膜材料的超亲水驱油表面制备方法属于功能材料领域。现有技术用光照二氧化钛薄膜实现了超亲水性,但许多石油化工仪器设备中并不具备光照条件,且需进一步降低表面与油的接触角。本发明步骤:衬底上沉积一层0.1-10微米二氧化钛薄膜;再放入气相化学表面处理室中,抽真空后充入氢气,气压在1~50000Pa;温度在室温到800℃的范围,还原处理10~120分钟。在气压0.5~2000Pa的范围,充入醇类物质使之以气态存在;在基底附近施加射频电磁场使气体发生辉光放电,产生低温等离子体,射频功率为20~500W,基底温度为室温~800℃,羟基化时间10~120分钟。该薄膜与蒸馏水静接触角为4.1°,与高速泵油的静接触角为28.4°,镀于测量原油流速的传感器探头表面,明显改善了表面附着石蜡的情况。

    p型透明氧化物半导体CuCrO2薄膜材料的制备方法

    公开(公告)号:CN101355031A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200810119693.0

    申请日:2008-09-05

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种p型透明氧化物半导体CuCrO2薄膜材料的制备方法。该方法是将纯度均为99.9%的Cu2O粉体和Cr2O3粉体按Cu与Cr的原子比为1∶1配料,然后球磨混合,烘干后在1150℃煅烧12h,生成纯相的CuCrO2粉体,采用热压法将CuCrO2粉体压制成陶瓷靶材;利用磁控溅射方法,以石英片为衬底,衬底温度为400~600℃,以纯度为99.999%的Ar和N2O的混合气体作溅射气体,工作气压为0.8~1.2Pa,N2O分压为0~20%,溅射功率为80~120W,沉积时间为90min;最后将沉积好的薄膜置于管式炉中进行退火,采用纯度为99.999%的N2作保护气氛,退火温度为800~1000℃,退火时间为3~5h,退火后获得纯相CuCrO2薄膜,其厚度为200~400nm。本发明方法可以大面积沉积薄膜,生产成本低,且适用于工业化生产。

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