一种高产率低温合成碳化硼粉体的方法

    公开(公告)号:CN104891495B

    公开(公告)日:2017-05-03

    申请号:CN201510398199.2

    申请日:2015-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种高产率低温合成碳化硼粉体的方法,包括:按(4~7):10的摩尔配比分别称取硼酸和聚乙烯醇,将硼酸与丙三醇混合搅拌至完全溶解,加入碱调节pH至4~6,得到硼酸溶液;将聚乙烯醇与水混合搅拌至完全溶解,得到聚乙烯醇溶液;将所得硼酸溶液和所得聚乙烯醇溶液混合搅拌并在加热下蒸发溶剂至完全形成凝胶;将所得凝胶进行干燥,得到干凝胶;将所得干凝胶在真空或惰性气氛下于500~700℃保温2~4小时进行裂解;将裂解产物在真空或惰性气氛下于1300~1500℃保温3~5小时进行碳热还原,得到碳化硼粉体。本发明同时克服了硼酸‑丙三醇体系凝胶后续处理过程中B2O3挥发损耗严重和硼酸‑聚乙烯醇体系硼酸浓度过低的局限。

    管径均匀的碳纳米管阵列及其生长方法

    公开(公告)号:CN103771389A

    公开(公告)日:2014-05-07

    申请号:CN201310714065.8

    申请日:2013-12-20

    Abstract: 本发明公开了一种生长管径均匀的碳纳米管阵列的方法,主要包括:步骤A)在金属箔片上沉积缓冲层和催化剂层形成复合基底;步骤B)通入还原气体,于3~20kPa低压下对复合基底上的催化剂进行还原处理;步骤C)通入由惰性气体、还原气体和碳源气体组成的混合气体,于15~40kPa低压下,采用化学气相沉积法在复合基底上原位生长碳纳米管阵列。本发明的方法中,催化剂的还原和碳纳米管阵列的生长分别控制在3~20kPa和15~40kPa的低压下进行,不但提高了工艺的安全性,还有效控制了催化剂粒子的粒径和形貌以及阵列的生长,可以获得高质量管径均匀的碳纳米管阵列。本发明的碳纳米管阵列的高度为100~350μm,管径分布均匀,为8~20nm,标准差小于3nm。

    一种制备高纯Ti3SiC2粉体的方法

    公开(公告)号:CN102530945A

    公开(公告)日:2012-07-04

    申请号:CN201110421124.3

    申请日:2011-12-15

    Abstract: 本发明公开了一种制备高纯Ti3SiC2粉体的方法,所述方法包括如下步骤:首先将聚碳硅烷溶于有机溶剂中,然后加入氢化钛粉,超声使混合均匀;边加热边搅拌,直至有机溶剂挥发充分使溶液变成粘稠状,然后进行真空干燥;在惰性气氛保护下,进行低温处理;再在惰性气氛保护下,进行高温处理。利用本发明方法制备的Ti3SiC2粉体具有纯度高、结晶度高及粉体粒度较小等优点,而且本发明方法工艺简单,易于操作,能耗较少,能满足工业化生产Ti3SiC2粉体的规模化和经济上的要求,具有广泛应用价值。

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