-
公开(公告)号：CN112355488A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011220524.3
申请日：2020-11-05
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/362 , B23K26/70 , B23K26/073
Abstract: 本发明公开了一种抗激光损伤的软边光阑制备方法，按照以下步骤进行：S1：调试聚焦CO2激光脉冲的功率和脉宽，利用聚焦CO2激光脉冲辐照熔石英表面，形成无裂纹的烧蚀凹坑点；S2：利用光弹法检测烧蚀凹坑点的残余应力是否为0；S3：利用凹坑点排列密度调控光的透射率，使软边光阑边缘CO2激光相爆炸烧蚀凹坑点的密度朝着靠近软边光阑边缘的方向逐渐增加。采用以上技术方案，制备的软边光阑激光损伤阈值高且经济高效，克服了超短激光脉冲制备软边光阑成本高昂的问题，解决了CO2激光制备软边光阑的热应力问题，不仅可以制备传统的圆孔、方孔和矩形孔软边光阑，并且可以灵活方便地制备圆环、方形环以及中心透射率调制的软边光阑等。
-
公开(公告)号：CN107021650B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201710355002.6
申请日：2017-05-19
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明专利公开了一种提高熔石英光学元件抗紫外激光损伤的方法，包括：采用碱性溶液对熔石英元件进行超声清洗；将碱性溶液清洗后的熔石英元件采用高纯水进行超声清洗，烘干；将高纯水清洗后的熔石英元件进行亚玻璃化转变温度热处理；将热处理后的熔石英元件进行动态酸蚀刻，烘干。本发明通过控制亚玻璃化转变温度热处理的温度、时间和动态酸蚀刻兆声场的频率、溶液浓度和刻蚀时间等参数来实现消除熔石英结构缺陷，提高熔石英抗紫外激光损伤的目的，以满足高功率固体激光装置的运行需求。
-
公开(公告)号：CN110161052A
公开(公告)日：2019-08-23
申请号：CN201910514243.X
申请日：2019-06-14
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/95 , G01N21/958
Abstract: 本发明公开了一种原位监测密集排布大口径光学元件损伤的方法，按照以下步骤进行：S1：将各个大口径光学元件分别嵌入各自的安装夹持框中；S2：在各个大口径光学元件上安装遮光条；S3：将各个安装夹持框沿前后方向等距地装入高功率激光装置中；S4：当需要原位监测任一大口径光学元件的损伤情况时，打开该大口径光学元件的线光源，并关闭其余大口径光学元件的线光源；S5：利用图像采集设备采集该大口径光学元件的暗场图像。采用以上方法，具备了排除相邻元件干扰获取无伪损伤的高质量元件损伤图像的能力，能够直观地原位在线监测大口径光学元件的损伤，便捷高效获得损伤的尺寸和分布位置信息。
-
公开(公告)号：CN109277372A
公开(公告)日：2019-01-29
申请号：CN201811337942.3
申请日：2018-11-12
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种道路交通标线的激光清洗方法，该方法包括：对激光清洗机进行预热，调节所述激光清洗机输出激光的平均功率、重复频率和脉冲宽度；调节作用于道路交通标线上的激光光斑直径和激光光斑线长；将吸尘器的吸气嘴倾斜放置于距离激光作用点5cm-10cm处；打开所述激光清洗机光闸，打开所述吸尘器，沿垂直于光斑线长方向同时水平移动所述激光清洗机输出头和所述吸尘器吸气嘴。本发明具有在不损伤路基的前提下有效去除道路交通标线，且清洗后的产物便于收集，对环境污染小的优点。
-
公开(公告)号：CN108693189A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201810284497.2
申请日：2018-04-02
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G01N21/88
CPC classification number: G01N21/8851 , G01N2021/8887
Abstract: 本发明公开了一种大口径熔石英光学元件基准标识的构建方法，按照以下步骤进行：S1：在熔石英元件表面上的非通光区加工有至少一个编号基准标识，该编号基准标识均由多个字符点一组成，每个编号基准标识的字符点一共同构成一个布莱尔盲文数字字符；S2：沿熔石英元件表面的边缘加工有阵列分布的坐标系基准标识，各个坐标系基准标识能够在熔石英元件表面构建直角网格坐标系，该坐标系基准标识均由多个字符点二组成，每个坐标系基准标识的字符点二共同构成一个布莱尔盲文数字字符。采用本发明公开的大口径熔石英光学元件基准标识的构建方法，具有快速识别大口径熔石英光学元件和精确定位大口径熔石英光学元件表面激光损伤的能力。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107052584B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：CN201710363281.0
申请日：2017-05-18
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: B23K26/354 , B23K26/082 , B23K26/062 , B23K26/40 , C03C23/00
Abstract: 本发明公开了一种激光脉冲诱导熔石英表面形成均匀光栅结构的方法，利用二氧化碳激光峰值脉冲辐照熔石英样品改变其表面自组织结构，然后重复扫描，使其表面自组织形成均匀的光栅结构。采用以上方案，简化了制作均匀光栅结构的方法，方法新颖，避免了传统制作飞秒激光的繁琐步骤，降低了制作成本，且形成均匀光栅结构步骤简洁、方便高效，且通过相邻重叠辐照区域可轻松获得大面积的均匀光栅结构，通过本方法制作的均匀光栅结构可适用于分光、结构色等领域应用，具有极大科研意义。
-
公开(公告)号：CN106125166B
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201610585108.0
申请日：2016-07-22
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
Abstract: 本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作流程，避免了一系列复杂的微透镜成形辅助流程，简洁高效的同时实现了微透镜形貌的精确控制，不仅实现了圆形孔径的微透镜阵列的制造，而且实现了精确高效地制造高填充系数的异形孔径微透镜，制造的熔石英微透镜阵列表面光洁，激光损伤阈值高，尤其适用于强光环境下的应用。
-
公开(公告)号：CN107389688A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710600243.2
申请日：2017-07-21
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 , 哈尔滨工业大学
IPC: G01N21/88 , G01N21/95 , G01S11/12 , B23K26/00 , B23K26/354
Abstract: 本发明公开了一种大口径熔石英光学元件表面微缺陷多工位集成修复方法，将紫外激光预处理系统、显微检测系统和二氧化碳激光修复系统集中安装在多自由度熔石英光学元件定位平台上，实现三工位集成。对熔石英光学元件安装定位后，采用紫外激光光斑对光学元件表面进行全口径逐行往复式扫描预处理；然后利用显微检测系统对熔石英光学元件表面微缺陷进行全口径暗场扫描检测；最后选定需要修复的微缺陷兴趣点，通过CO2红外激光系统对光学元件表面微缺陷进行局部单点融熔修复，从而完成熔石英光学元件表面微缺陷的多工位集成修复，该工艺方法实现多工位集成，节约了各个工位的装夹时间至少150分钟，提高了微缺陷修复的效率。
-
公开(公告)号：CN106125166A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201610585108.0
申请日：2016-07-22
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
IPC: G02B3/00
CPC classification number: G02B3/0012
Abstract: 本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作流程，避免了一系列复杂的微透镜成形辅助流程，简洁高效的同时实现了微透镜形貌的精确控制，不仅实现了圆形孔径的微透镜阵列的制造，而且实现了精确高效地制造高填充系数的异形孔径微透镜，制造的熔石英微透镜阵列表面光洁，激光损伤阈值高，尤其适用于强光环境下的应用。
-
公开(公告)号：CN118519269A
公开(公告)日：2024-08-20
申请号：CN202410659903.4
申请日：2024-05-27
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种高功率激光装置任意偏振匀滑元件的设计方法，包括构建熔石英局域热残余应力引入的光程差局域极坐标分布函数、建立光程差局域极坐标分布函数对入射的线偏振光的偏振态调控模型、构建任意偏振匀滑元件、根据总体琼斯矩阵计算得到入射光通过任意偏振匀滑元件后的光场分布、评估任意偏振匀滑元件的能量退偏值、评估光场的偏振态在庞加莱球上的分布特征以及评估光场的偏振度在光束截面二维空间上的分布特征的步骤。极大简化了采用熔石英局域残余应力设计任意偏振匀滑元件的流程，规避了仿真模拟极为复杂的整个大口径任意偏振匀滑元件的三维残余应力分布及其引入的应力光程差分布，简洁高效地实现了任意偏振匀滑元件的精准设计。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
57
records
(took 0.042 seconds)
