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公开(公告)号：CN102990480B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201210553986.6
申请日：2012-12-19
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法，包括以下步骤：以经过单点金刚石车削或磁流变抛光后的光学元件作为加工对象，采用基于低能离子溅射原理的离子束抛光方法对该加工对象的表面进行加工，在加工过程中，控制离子束对光学元件表面进行均匀扫略，加工结束后完成对光学元件表面的清洗。本发明的表面清洗方法简单易行，对设备要求低，可降低光学表面元件表面粗糙度和去除光学元件表面杂质。
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公开(公告)号：CN102744655B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201210266676.6
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种大型光学零件离子束抛光机，包括真空抛光系统、承载装置、用于运输完成测量后的大口径工件、并在运输过程中使大口径工件的待加工面保持向下的翻转装置以及用于承接翻转装置所输送的大口径工件、并将大口径工件送至真空抛光系统的主真空室内的输送装置，所述承载装置包括导轨以及设于主真空室内、并用于承接输送装置所输送的大口径工件的内机架，所述输送装置设于导轨上，并沿所述导轨运动。该大型光学零件离子束抛光机具有结构简单、操控方便、可保证工作环境洁净度、提高加工精度和加工效率、使用寿命长的优点。
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公开(公告)号：CN103786074A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201410029749.9
申请日：2014-01-22
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种可降低转角的离子束加工方法，基于五轴联动加工方法，当加工所需的运动角度太大以至超过机床的极限角度时，利用极限角度进行加工，并对线性位移和驻留时间进行修正。本发明具有原理简单、易实现、适用范围广、尤其是适用于高陡度光学光学零件等优点。
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公开(公告)号：CN102757186A
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：CN201210267218.4
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03C23/00
Abstract: 一种高精度高动态性能的五轴离子束加工装置及其控制方法，该装置包括数控系统、机架组件、X轴直线运动组件、Y轴直线运动组件、Z轴直线运动组件、A轴直驱组件、B轴直驱组件、工件输送组件、离子源，通过五个方向上的驱动实现了离子源的精确运动。该方法为：沿光学镜面法向加工时，在工件坐标系内光学镜面点的位姿经旋转变化转换为机床坐标系内坐标点，并由法向等靶距加工，解算出机床各轴的运动位姿；再采用S型速度加工模式，解算出机床各轴在各个加工点的速度。本发明具有运动平稳、刚性好、精度高、动态性能高等优点。
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公开(公告)号：CN102744654A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210265722.0
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种双真空室离子束抛光系统，包括真空工作室，真空工作室旁设用于装卸工件的辅助真空室，真空工作室与辅助真空室间设用于控制二者通断的插板阀，真空工作室和辅助真空室内设有可在二者之间传送工件的工件传送装置。该系统可提高抛光效率、降低加工成本。一种抛光方法，S1）在真空工作室旁的辅助真空室内将工件安装在工件传送装置上，关闭辅助真空室，将辅助真空室抽气至真空，打开插板阀，通过工件传送装置将工件送到真空工作室并定位装夹，工件传送装置退回辅助真空室，关闭插板阀；S2）离子束抛光加工；S3）打开插板阀，工件传送装置进入真空工作室卸下工件、并带回辅助真空室，关闭插板阀，辅助真空室充气至大气压，打开辅助真空室取出工件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102672550A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210135948.9
申请日：2012-05-04
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，支撑架包括有固定靶材的靶材固定夹具，支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；支撑架底部装设有用于安装至离子束抛光系统的安装法兰。本发明还公开了一种离子束抛光系统，包括真空室以及相互连接的运动系统和离子源系统，离子束抛光系统中设有前述添加装置，正对添加装置的离子束发射方向布置有材料去除工艺用夹具，正对添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。本发明的装置结构简单、制作安装方便，可有效改善光学元件的表面粗糙度、修正光学镜面中高频误差。
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公开(公告)号：CN101900537B
公开(公告)日：2012-06-27
申请号：CN201010245740.3
申请日：2010-08-05
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 一种光学球体零件全球面三维球度误差的检测方法，它是采用波面干涉仪对球体零件进行检测，先根据球体零件的大小以及波面干涉仪的测量镜头的孔径大小将球体零件表面划分成若干子孔径区域，用波面干涉仪对所有子孔径区域逐一进行测量，得到各子孔径区域的面形误差分布情况，再使用子孔径拼接方法将各子孔径区域的面形误差拼接起来，获得球体零件的全局面形误差分布情况。该方法具有低成本、高精度、高效率的优点。一种用于上述光学球体零件全球面三维球度误差的检测方法的检测装置，包括波面干涉仪和与波面干涉仪连接的计算机，波面干涉仪前设有可将球体零件置于波面干涉仪的测量镜头前方、并可对球体零件进行位姿调节的球体位姿调节装置。
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公开(公告)号：CN101274822B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200810030958.X
申请日：2008-03-31
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种离子束抛光路径的规划方法，包括以下步骤：首先确定抛光工艺的去除函数，然后根据提出的螺旋线确定抛光路径以及路径上的加工点，再根据检测得到的待抛光光学镜面的面形误差分布数据和离子束抛光去除函数计算抛光过程中的驻留时间密度分布，根据驻留时间密度的分布计算抛光路径上各点的驻留时间，最后依据抛光路径上各点的坐标和该点的驻留时间，对待抛光光学镜面进行离子束抛光。本发明的优点在于能够使抛光工件的旋转轴速度趋于恒定，弱化了加工中最大转速要求的限制，缩短了加工时间，有利于提高抛光精度。
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公开(公告)号：CN101261511A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200810030957.5
申请日：2008-03-31
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: G05B19/4093 , C03C23/00
Abstract: 本发明公开了一种离子束抛光工艺中面形收敛精度的控制方法，该方法是通过首先获取抛光工艺的去除函数b(x，y)，然后检测待加工光学镜面的面形误差分布z(x，y)，再根据b(x，y)和z(x，y)建立确定性抛光过程的线性模型，根据建立的线性模型和加工精度求解驻留时间向量，再对计算所得的驻留时间进行必要的修正后，以该加工驻留时间进行抛光加工。通过对抛光加工过程中的驻留时间进行控制，可以实现离子束抛光工艺中对面形收敛精度的控制，使得在加工精度要求较低时，能以较高的效率完成加工，节省加工时间，而在加工精度要求较高时，又能满足精度要求，提高工艺的精准性。
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公开(公告)号：CN105328535B
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201510632501.6
申请日：2015-09-29
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种基于非线性建模的纳米精度光学曲面离子束加工方法，步骤包括：获取待加工曲面光学零件的基本去除函数；在基本去除函数的基础上，根据投影畸变、加工参数、待加工曲面光学零件在内的工艺条件进行非线性建模构造待加工曲面光学零件的动态去除函数的非线性模型；根据动态去除函数的非线性模型对离子束抛光加工的驻留时间进行精确求解；根据求解得到的驻留时间进行离子束抛光加工。本发明能够消除上述工艺条件对材料去除模型的影响、提升加工时所需驻留时间的求解精度、实现面形误差的精确去除。
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