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公开(公告)号：CN105150048B
公开(公告)日：2017-10-13
申请号：CN201510344966.1
申请日：2015-06-19
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B13/00
Abstract: 本发明公开了一种等离子体中和一体化的直流离子束光学抛光装置，包括离子源和等离子体中和器，所述抛光装置还包括固定安装于离子源上的盘状盖板，等离子体中和器安装在盘状盖板内端面上，等离子体中和器的喷口正对离子源的离子束的轴线。本发明具有耦合充分、可获得具有高度稳定性的小束径离子束的优点。
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公开(公告)号：CN105364666A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201510634280.6
申请日：2015-09-29
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种微晶材料光学表面的离子束超光滑加工方法，步骤包括：1)采用离子束抛光技术对微晶材料光学表面进行抛光加工，直至面形精度达到指定的面形精度制造要求；2)利用离子束确定性材料添加方法在微晶材料光学表面生成一层易于平滑加工的材料层，覆盖微晶材料光学表面在抛光加工后形成的颗粒状微结构；3)采用离子束抛光技术对已生成的易于平滑加工的材料层的微晶材料光学表面进行抛光加工，直至面形精度达到超光滑加工的要求。本发明能够避免离子束直接加工微晶材料产生的微结构使得高频粗糙度的恶化、解决微晶材料光学表面超高精度、超光滑表面加工的难题，具有加工面形精度高、加工效率高、易于实现的优点。
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公开(公告)号：CN102744653B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201210265684.9
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径光学零件离子束抛光机的大镜装卸装置，包括承载装置、用于运输完成测量后的工件、并在运输过程中使工件的待加工面保持向下的翻转装置以及用于承接翻转装置所输送的工件、并将工件送至抛光机的离子束抛光真空室内的输送装置，所述承载装置包括导轨以及设于离子束抛光真空室内、并用于承接输送装置所输送的工件的内机架，所述输送装置设于导轨上，并沿所述导轨运动。该装置结构简单、操控方便、可保证离子束抛光机工作环境洁净度、提高离子束抛光机加工精度和加工效率、延长设备使用寿命。本发明还公开了用上述的大镜装卸装置在离子束抛光机上装卸大口径光学零件的方法。
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公开(公告)号：CN102642156B
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201210135908.4
申请日：2012-05-04
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种基于材料添加与去除相结合的光学镜面离子束纳米精度加工方法，包括以下步骤：先获取添加函数，然后测量待加工工件的面形误差，以测量结果取反后的数值作为材料添加量，根据二维卷积公确定出添加驻留时间；根据添加驻留时间使用离子束抛光系统对待加工工件进行确定性添加控制，形成保护性牺牲层；再次测量待加工工件的面形误差，以测量结果作为材料去除量，再根据二维卷积公式确定出去除驻留时间；据此使用离子束抛光系统对工件进行确定性去除控制，直至去除保护性牺牲层，完成待加工工件光学镜面纳米精度的加工。本发明具有工艺步骤简单、设备投入少、加工效率高、可有效改善光学元件的表面粗糙度、修正中高频误差等优点。
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公开(公告)号：CN102019572A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：CN201010528365.3
申请日：2010-11-01
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B29/00
Abstract: 本发明涉及一种采用特殊加工路径的计算机控制抛光工艺，具体公开了一种采用组合螺旋式抛光路径的抛光工艺，包括以下步骤：先确定去除函数，然后以待加工光学镜面的中心作为极坐标原点，靠近原点的中心区域和外围的其他区域分别规划为等面积增长螺旋线形和阿基米德螺旋线形的组合式抛光路径；再根据组合式抛光路径建立组合螺旋线方程；然后获取镜面的面形误差分布数据；根据去除函数和面形误差分布数据得到驻留时间密度分布矩阵T1；再根据T1确定抛光路径上各点的驻留时间ti，根据各点驻留时间ti沿组合式抛光路径对镜面进行抛光即可。本发明的工艺可有效降低待抛光工件中心加工转速和外缘加工转速要求，且能有效提高加工精度和加工效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101481220A
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200910042430.9
申请日：2009-01-06
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明公开了一种离子束加工光学元件的拼接加工方法，包括以下步骤：首先通过实验获取去除函数，然后利用波面干涉仪获取面形误差函数，对元件的加工区域进行区域划分与数据准备，再确定区域边界并修正面形误差，然后建立模型求解驻留时间，根据求解的驻留时间进行第一次修形加工，对第一次修形加工进行误差辨识，最后根据误差辨识结果视情况重复加工步骤直至满足面形精度要求。本发明的加工方法拓展了现有光学加工系统的加工能力，解决了现有较小光学加工系统加工大口径光学元件的技术难题，可大大节约光学加工系统的制造成本和加工成本。
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公开(公告)号：CN101456681A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200910042429.6
申请日：2009-01-06
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明公开了一种能修除光学元件局部误差的离子束极轴加工方法，包括以下步骤：首先通过实验获取去除函数，然后对去除函数进行回转对称处理，再利用波面干涉仪获取元件的面形误差函数，建立成型模型并计算驻留时间的密度分布，在阿基米德路径中求解驻留时间，然后视情况调整螺距，并根据扇形阿基米德螺线离散信息以及各离散扇形区域的合成运动速度生成数控代码，进行第一次数控修形加工，最后视情况重复一次以上的上述加工步骤直至满足工件的精度要求。本发明的加工方法降低了镜面尺寸对加工系统尺寸的要求，节约了加工成本，克服了传统极轴加工方式不能对镜面的非回转对称误差进行误差修正的缺陷，保证了加工效率。
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公开(公告)号：CN105328535A
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201510632501.6
申请日：2015-09-29
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
Abstract: 本发明公开了一种基于非线性建模的纳米精度光学曲面离子束加工方法，步骤包括：获取待加工曲面光学零件的基本去除函数；在基本去除函数的基础上，根据投影畸变、加工参数、待加工曲面光学零件在内的工艺条件进行非线性建模构造待加工曲面光学零件的动态去除函数的非线性模型；根据动态去除函数的非线性模型对离子束抛光加工的驻留时间进行精确求解；根据求解得到的驻留时间进行离子束抛光加工。本发明能够消除上述工艺条件对材料去除模型的影响、提升加工时所需驻留时间的求解精度、实现面形误差的精确去除。
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公开(公告)号：CN105252375A
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201510660694.6
申请日：2015-10-14
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
Abstract: 本发明提供一种离子束弹性域刻蚀提升激光损伤阈值的方法，利用非水基磁流变进行KDP晶体的抛光，对抛光后的晶体表面进行离子束弹性域刻蚀抛光。其能保证清除晶体表面残留的有机醇和铁粉，并能确保在清除铁粉的过程中表面不出现划痕、不破坏表面质量，同时通过弹性域刻蚀去除超精密车削过程中引入的在磁流变抛光没有完全去除的亚表面缺陷，从而有效的提升KDP晶体的抗激光损伤能力。
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公开(公告)号：CN103771729B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201410029914.0
申请日：2014-01-22
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03C19/00
Abstract: 本发明公开了一种可降低行程的离子束加工方法，基于五轴加工设备，当加工所需的X轴和Y轴行程大于机床行程时，摆动A和B两个旋转轴来移动离子束加工点，利用极限行程进行加工，同时对旋转轴和Z轴运动坐标进行修正，并对驻留时间进行修正。本发明具有原理简单、易实现、适用范围广、尤其适应较大尺寸光学零件等优点。
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