公开(公告)号：CN101471242A

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：CN200810189121.X

申请日：2008-12-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 田村明威 ,  林辉幸 ,  藤原馨

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/31144 ,  H01L21/0337 ,  H01L27/1052 ,  H01L27/115 ,  H01L27/11521

Abstract: 本发明提供一种图案形成方法和半导体制造装置，利用等离子体蚀刻在基板上的膜上形成平行的线状的图案，并且能够实现上述图案的细微化。以在第一层上形成的原始图案作为基点，在第二层上形成的掩模图案上形成薄膜，并利用等离子体进行各向异性蚀刻，在以夹着形成于第一层的膜上的掩模图案的掩模部分的宽度方向中央部的位置对应的区域相对的方式形成的两个掩模部分之间，使在这些掩模部分的侧壁上末端扩宽的堆积部分残留下来，并且使第三层的膜的表面从这些堆积部分之间露出，并且使在上述两个掩模图案以外的互相邻接的掩模部分之间连续的堆积部分残留下来之后，除去上述掩模。然后，以上述堆积部分作为掩模利用等离子体对上述下层的膜进行蚀刻。

公开(公告)号：CN101421828A

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200780012931.1

申请日：2007-10-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 川村茂 ,  林辉幸

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/02063 ,  H01J37/32862 ,  H01L21/02071 ,  H01L21/76814 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76828

Abstract: 本发明提供基板处理方法和基板处理装置。该基板处理方法是对在表面上形成有含有氧化硅的无机物与含有碳和氟的有机物的复合生成物的基板进行的基板处理方法，其特征在于，包括：对上述基板的表面照射紫外线，除去上述有机物的一部分的紫外线处理工序；在上述紫外线处理工序之后进行，向上述基板的表面供给氟化氢的蒸气，除去上述无机物的至少一部分的氟化氢处理工序；和在上述紫外线处理工序之后进行，通过对上述基板进行加热，使尚未被除去的上述有机物的一部分收缩的加热处理工序。

公开(公告)号：CN101310041A

公开(公告)日：2008-11-19

申请号：CN200780000117.8

申请日：2007-01-11

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 近藤昌树 ,  林辉幸 ,  齐藤美佐子

IPC: C23C16/44 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/205 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67253 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/54 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67288 ,  Y10S414/139

Abstract: 本发明涉及真空处理装置和真空处理方法。排气机构(24)以一定的排气量或排气速度对真空搬送室(10)内进行真空排气。平常时间排气阀(36)被保持为打开状态，吹扫气体(N2气)由吹扫气体供给源(30)通过MFC(34)和开关阀(36)供给真空搬送室(10)内。主控制部(38)通过对MFC(34)的流量设定值将真空搬送室(10)内的压力控制在规定的范围内，同时通过真空计(40)监控真空搬送室(10)内的压力，压力超过规定的上限值时判断为异常，采取对MFC34的流量设定值的更改、警报的产生、装置运转的停止等处置。

公开(公告)号：CN1819113A

公开(公告)日：2006-08-16

申请号：CN200610007445.8

申请日：2006-02-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 齐藤美佐子 ,  林辉幸 ,  小宫隆行

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  C23C16/44 ,  C23C14/22 ,  C23F4/00

Abstract: 本发明提供一种真空处理系统，包括用于收容被处理体并在真空状态下对其进行处理的处理腔室。所述处理腔室包括排气系统和气体供给系统。在所述处理腔室外并且与所述处理腔室内选择性地连接的空间内，配置有产生负离子的负离子发生器。在所述处理腔室内配置有用于使所述被处理体形成为带负电的状态的负电荷施放器。

公开(公告)号：CN115593113A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210740296.5

申请日：2022-06-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社(JP)

Inventor： 松雪聪 ,  大岛澄美 ,  林辉幸 ,  中込裕

IPC: B41J2/165

Abstract: 本发明提供使维护步骤中的液滴释放头的清洁性能提高的液滴释放装置和液滴释放方法。液滴释放装置向工件释放功能液的液滴来进行描绘，并包括：向上述工件释放液滴的液滴释放头；处理液供给部，其向上述液滴释放头供给作为上述功能液的溶剂的第一清洗液或醇类的第二清洗液；和对上述处理液供给部进行控制的控制部，上述控制部构成为能够执行如下控制：在将填充于上述液滴释放头的上述功能液替换为上述第一清洗液和上述第二清洗液中的任一种清洗液之后，替换为另一种清洗液。

公开(公告)号：CN113808969A

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：CN202110625856.8

申请日：2021-06-04

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 申圣敏 ,  林辉幸 ,  大岛澄美 ,  松本诚

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明要解决的技术问题是，防止因功能液中的溶质凝集并附着在与接收从释放头释放的功能液的液体接收部连接或者对释放头内的功能液进行抽吸的排液管上，而导致功能液的抽吸性能、排出性能受损。本发明提供液体排出装置和液体排出方法。本发明的液体排出装置用于将来自释放头的功能液排出，在所述释放头形成有用于向工件释放功能液的液滴的释放孔，所述液体排出装置的特征在于，具有：排液管，其用于对所述释放头内的功能液进行抽吸或者与接收从所述释放头释放的功能液的液体接收部连接；和供给管，其用于向所述排液管供给使所述排液管内的功能液流出的清洗用流体。

公开(公告)号：CN110620186A

公开(公告)日：2019-12-27

申请号：CN201910514340.9

申请日：2019-06-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天田伸也 ,  今田雄 ,  林辉幸

IPC: H01L51/52 ,  H01L51/56 ,  H01L27/32

Abstract: 本发明提供一种经由电子输送层和电子注入层高效地将电子从辅助电极供给到阴极的技术。一种有机EL面板，其包括：以矩阵状形成有多个有机EL元件，有机EL元件按如下顺序具有阳极、发光层、电子输送层、电子注入层和阴极，电子输送层、电子注入层和阴极以遍及多个有机EL元件的方式连续地形成，有机EL面板包括：辅助电极，其在多个有机EL元件之间，经由电子输送层和电子注入层将电子供给到阴极；和具有第一开口部及第二开口部的绝缘层，其中第一开口部在内部形成有发光层，第二开口部形成有从辅助电极去往阴极的电子的供给路径，辅助电极的与电子输送层相对的表面的功函数比阳极的与发光层相对的表面的功函数小。

公开(公告)号：CN108987310A

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201810552163.9

申请日：2018-05-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 岛村明典 ,  林辉幸

IPC: H01L21/67 ,  H01L51/56

CPC classification number: H01L51/56 ,  H01L21/67034

Abstract: 本发明提供一种用于使涂敷在基片(W)的表面的有机材料膜中的溶剂在减压状态下干燥的减压干燥装置。减压干燥装置(1)包括：收纳基片的腔室(10)；和将腔室(10)内的空间与对腔室(10)内进行排气的排气装置(P)连接的多个排气管(30)，多个排气管(30)分别具有可封堵该排气管(30)的APC阀(31)，多个排气管(30)包括：在APC阀(31)的下游设置有收集从基片W气化了的溶液中的溶剂的溶剂收集部(32)的有溶剂收集部排气通道(30)；和没有设置有溶剂收集部(21)的无溶剂收集部排气通道(30)。由此，能够提供基片的减压干燥结束为止的时间短的减压干燥装置。

公开(公告)号：CN107871694A

公开(公告)日：2018-04-03

申请号：CN201710864656.1

申请日：2017-09-22

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 篠木武虎 ,  林辉幸 ,  大岛澄美

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/77 ,  H01L27/32

CPC classification number: H01L27/3206 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/77

Abstract: 本发明提供一种能够放宽液滴在扫描方向上的着落位置的容许误差的涂敷装置。该涂敷装置具有：包含多个喷头的排出单元，该喷头在第一方向上排列设置有多个喷嘴；保持基板的基板保持部；和在与第一方向交叉的第二方向上使排出单元和基板保持部相对移动的移动机构，排出单元从喷嘴向预先形成在由基板保持部保持的基板上的隔堤的各开口部排出用于形成发光层的液滴，发光层具有由发出不同颜色的光的多个发光区域按规定顺序在第二方向上隔开间隔地排列而成的发光区域组，至少一个开口部跨隔开间隔地在第二方向上相邻且发出相同颜色的光的多个发光区域。

公开(公告)号：CN104228329B

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201410251369.X

申请日：2014-06-06

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 及川纯史 ,  今田雄 ,  户原淳志 ,  大岛澄美 ,  岛村明典 ,  林辉幸

IPC: B41F23/00 ,  B41M7/00

Abstract: 本发明的干燥装置和干燥处理方法在短时间内高效率地去除在对基板上的有机材料膜进行干燥的干燥装置的处理容器内残留的溶剂。干燥装置(100)具备能够进行抽真空的处理容器(1)、在处理容器(1)内支承基板(S)的作为支承构件的载置台(3)、向处理容器(1)的内部照射紫外线的紫外线照射装置(5)以及控制部(6)。紫外线照射装置(5)作为溶剂分解单元而发挥功能，其在从处理容器(1)搬出已完成干燥处理的基板(S)之后，将残留在处理容器(1)内的溶剂中包含的有机化合物分解为低分子量的化合物。