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公开(公告)号：CN109216148B
公开(公告)日：2021-01-19
申请号：CN201810735553.X
申请日：2018-07-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种在对多个被处理基板同时进行等离子体处理时，能够抑制施加于载置被处理基板的电极部的高频电力对于周围部件的影响的等离子体处理装置。等离子体处理装置利用等离子体形成部将供给到处理空间的处理气体等离子体化，被施加高频电力的第一电极部，构成用于载置一个被处理基板的第一基板载置面。另外，被施加高频电力的金属制的第二电极部，设置在与上述第一电极部离开且相邻的位置，构成用于载置另一被处理基板的第二基板载置面。在包围第一基板载置面、第二基板载置面这两者的周围的位置，设置有陶瓷制的环部，在该位置的环部的下表面侧，设置有由介电常数比上述陶瓷低的电介质构成的电介质部件。
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公开(公告)号：CN108203816B
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：CN201810151742.2
申请日：2014-07-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/505 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够抑制由等离子体导致的金属窗的溅射削落并且能够进行等离子体的强度的分布调整的感应耦合型的等离子体处理装置。该对基板(G)进行等离子体处理的等离子体处理装置(100)包括：在等离子体生成区域内产生感应耦合等离子体的高频天线(11)；和配置在等离子体生成区域与高频天线(11)之间，与主体容器绝缘的金属窗(3)。金属窗(3)具有利用绝缘体相互绝缘的多个金属窗(30a～30d)，使这些金属窗(30a～30d)各自通过一个接地点接地。
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公开(公告)号：CN109216148A
公开(公告)日：2019-01-15
申请号：CN201810735553.X
申请日：2018-07-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种在对多个被处理基板同时进行等离子体处理时，能够抑制施加于载置被处理基板的电极部的高频电力对于周围部件的影响的等离子体处理装置。等离子体处理装置利用等离子体形成部将供给到处理空间的处理气体等离子体化，被施加高频电力的第一电极部，构成用于载置一个被处理基板的第一基板载置面。另外，被施加高频电力的金属制的第二电极部，设置在与上述第一电极部离开且相邻的位置，构成用于载置另一被处理基板的第二基板载置面。在包围第一基板载置面、第二基板载置面这两者的周围的位置，设置有陶瓷制的环部，在该位置的环部的下表面侧，设置有由介电常数比上述陶瓷低的电介质构成的电介质部件。
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公开(公告)号：CN103533739B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201310390661.5
申请日：2010-03-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置。在电感耦合等离子处理装置中抑制覆盖窗构件的下表面的罩的破损和微粒的产生，而且能够容易地装卸罩。电感耦合等离子处理装置的电介体罩包括具有下表面以及与该下表面连续的侧端的被支承部。电介体罩固定器具包括：支承部，其与电介体罩的被支承部的下表面抵接，以被支承部夹在其与作为支承电介体壁的支承构件的支承梁和电介体壁中的至少一个之间的方式支承被支承部；被固定部，其与该支承部相连接，其一部分被配置在被支承部的侧端的侧方，以其与支承梁的位置关系不发生变化的方式被固定。
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公开(公告)号：CN104282520A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410319167.4
申请日：2014-07-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , C23C16/505
CPC classification number: H01J37/321 , C23C16/505 , H01J37/32119 , H01J2237/3321 , H01J2237/334
Abstract: 本发明提供一种能够抑制由等离子体导致的金属窗的溅射削落并且能够进行等离子体的强度的分布调整的感应耦合型的等离子体处理装置。该对基板(G)进行等离子体处理的等离子体处理装置(100)包括：在等离子体生成区域内产生感应耦合等离子体的高频天线(11)；和配置在等离子体生成区域与高频天线(11)之间，与主体容器绝缘的金属窗(3)。金属窗(3)具有利用绝缘体相互绝缘的多个金属窗(30a～30d)，使这些金属窗(30a～30d)各自通过一个接地点接地。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103985624A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201410039246.X
申请日：2014-01-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够使用金属窗对大型被处理基板进行均匀的等离子体处理的电感耦合等离子体处理装置。该电感耦合等离子体处理装置对矩形形状的基板进行电感耦合等离子体处理，包括：收纳基板的处理室；用于在处理室生成电感耦合等离子体的高频天线；和金属窗，其配置在生成电感耦合等离子体的等离子体生成区域和高频天线之间，与基板对应地设置，金属窗（2）由狭缝（7）分割为多个区域，具有与长边（2b）对应的长边侧区域（202b）和与短边（2a）对应的短边侧区域（202a），狭缝中外侧狭缝（71）具有与短边侧区域对应的短边侧部分（71a）和与长边侧区域对应的长边侧部分（71b），短边侧部分的宽度大于长边侧部分的宽度。
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公开(公告)号：CN102821534A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201210189576.8
申请日：2012-06-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明提供能够进行矩形基板的外侧区域的等离子分布控制的电感耦合等离子用天线单元。在天线单元（50）中，天线（13）的形成感应电场的部分整体构成与矩形基板（G）对应的矩形平面，并且，天线（13）具有将多条天线电线卷绕成漩涡状而成的第一天线部（13a）和第二天线部（13b），第一天线部（13a）的多条天线电线被设置成，形成矩形平面的四个角部、并且在与矩形平面不同的位置将四个角部结合起来，第二天线部（13b）的多条天线电线被设置成，形成矩形平面的四条边的中央部、并且在与矩形平面不同的位置将四条边的中央部结合起来。
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公开(公告)号：CN101552188B
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：CN200910129592.6
申请日：2009-03-31
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/20 , H05H1/24
Abstract: 本发明提供一种平行平板型等离子体处理装置中能够抑制阴极电极与覆盖排气口的网状部件之间产生异常放电的等离子体处理装置。等离子体处理装置(2)向在处理容器(20)内相对设置的阳极电极(气体喷淋头(40))和阴极电极(载置台(3))之间施加高频电力，使处理气体等离子体化，对被处理体(S)进行等离子体处理，其中，具备开口部的导电性部件(网状部件51)配置在上述阴极电极周边，覆盖排出处理气体的排气口，电介质(52)设置在导电性部件与处理容器(20)的导电性壁部之间。
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公开(公告)号：CN101848596A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010141151.0
申请日：2010-03-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置。在电感耦合等离子处理装置中抑制覆盖窗构件的下表面的罩的破损和微粒的产生，而且能够容易地装卸罩。电感耦合等离子处理装置的电介体罩包括具有下表面以及与该下表面连续的侧端的被支承部。电介体罩固定器具包括：支承部，其与电介体罩的被支承部的下表面抵接，以被支承部夹在其与作为支承电介体壁的支承构件的支承梁和电介体壁中的至少一个之间的方式支承被支承部；被固定部，其与该支承部相连接，其一部分被配置在被支承部的侧端的侧方，以其与支承梁的位置关系不发生变化的方式被固定。
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公开(公告)号：CN101730375A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910207040.2
申请日：2009-10-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H05H1/46 , C23C16/505 , C23F4/02 , H01L21/3065
Abstract: 本发明供给一种功率效率更良好的感应耦合等离子体处理装置。该处理装置具有：处理室，容纳被处理基板并实施等离子体处理；载置台，在处理室内载置被处理基板；处理气体供给系统，向处理室内供给被处理气体；排气系统，对处理室内的气体进行排气；天线电路(13b)，通过电介质部件配置在处理室的外部，供给高频电力，由此在上述处理室内形成感应电场；和并联电路(天线电路(13a))，与天线电路(13b)并联连接，使天线电路(13a)的阻抗和天线电路(13b)的阻抗成为反相位，在处理室内生成感应耦合等离子体。
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