公开(公告)号：CN216791112U

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202120786964.9

申请日：2021-04-17

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  中国计量大学

Inventor： 管钰晴 ,  傅云霞 ,  雷李华 ,  曾燕华 ,  杜黎明 ,  唐冬梅 ,  邹文哲

IPC: G01B11/06

Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆，所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆，所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识，所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求，完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式，使测量结构能被快速、准确地定位和测量，大大提高了测量效率。