电梯装置
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101035732A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200580033987.6

    申请日:2005-10-05

    CPC classification number: B66B1/3484

    Abstract: 本发明提供一种电梯装置。在该电梯装置中使用用于检测轿厢承负载荷的称重装置。称重装置具有:位移部件,其根据轿厢内的承负载荷的变化进行位移;以及多个位移检测部,其检测位移部件的位移,输出与承负载荷相应的检测信号。即,称重装置根据1个位移部件的机械位移,输出多个检测信号。

    半导体装置的评价装置及使用了该评价装置的半导体装置的评价方法

    公开(公告)号:CN108231618B

    公开(公告)日:2022-01-04

    申请号:CN201711405607.8

    申请日:2017-12-22

    Abstract: 本发明的目的在于,提供一种半导体装置的评价装置,该半导体装置的评价装置在半导体装置的电气特性的评价时,抑制在作为被测定物的半导体装置的一部分区域产生的放电现象,且抑制异物或绝缘物的接触痕迹向该半导体装置的表面转印。本发明涉及的半导体装置的评价装置具有:工作台,其能够在主面对半导体装置进行支撑;多个探针,其设置于工作台的主面的上方;绝缘物,其具有框形状,框形状包围多个探针,且绝缘物设置于工作台的主面的上方;以及评价部,其与多个探针和工作台的主面连接,经由多个探针将电流注入至支撑于工作台主面的半导体装置,对半导体装置的电气特性进行评价。该绝缘物包含与工作台的主面相面对且具有柔性的前端部。另外,该前端部在前端部的一个侧面包含接触面,该接触面能够通过前端部向框形状的内侧或外侧变形而与半导体装置接触。

    评价装置及评价方法
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108254667B

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN201711445768.X

    申请日:2017-12-27

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够抑制局部放电的发生的技术。评价装置具备:探针,其配置于上部件的下表面;侧壁部,其配置于上部件的下表面,将探针的侧方包围;以及第1气体供给部。第1气体供给部在侧壁部与工作台接近的情况下,能够朝向在工作台载置的被测定物供给气体,在侧壁部与工作台接触的情况下,能够对由工作台、侧壁部及上部件包围的空间供给气体。

    半导体评价装置及其评价方法

    公开(公告)号:CN105548852B

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201510690208.5

    申请日:2015-10-22

    CPC classification number: G01R1/0491 G01R1/06722

    Abstract: 本发明的目的在于提供种在纵向型半导体装置的评价中能够确保绝缘的技术。背面电位导出部(18)具有:在由半导体晶片保持部(6)保持的半导体晶片(51)的背面侧配置的端部分、以及在由半导体晶片保持部(6)保持的半导体晶片(51)的表面侧配置的另端部分。半导体晶片(51)以及保持半导体晶片(51)的半导体晶片保持部(6)能够沿半导体晶片(51)的面内方向移动。在半导体晶片(51)以及保持半导体晶片(51)的半导体晶片保持部(6)沿面内方向移动的情况下,在半导体晶片(51)的移动区域以外的附近,对背面电位导出部(18)中的、相对于半导体晶片(51)位于面内方向的部分进行固定。

    半导体装置的评价装置
    37.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104183516B

    公开(公告)日:2017-03-01

    申请号:CN201410174467.8

    申请日:2014-04-28

    Abstract: 一种半导体装置的评价装置,其对形成在半导体衬底(100)上的半导体装置进行电气评价,该半导体装置的评价装置具有:保持部(2),其将半导体衬底(100)保持在表面(2A)上;以及检测部(3),其对保持部(2)的表面(2A)的凹凸进行检测。保持部(2)在表面(2A)上包含多个槽部(20),多个槽部(20)形成为,在将半导体衬底(100)保持在表面(2A)上时,与半导体衬底(100)的外周重合,并且,一部分与半导体衬底(100)的外周相比位于外侧。

    半导体评价装置及半导体评价方法

    公开(公告)号:CN103969565B

    公开(公告)日:2016-12-07

    申请号:CN201410042200.3

    申请日:2014-01-28

    CPC classification number: G01R31/2886

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种半导体评价装置及半导体评价方法,其成本低,且不增加评价工序所花费的时间,能够简单地抑制被测定物上的局部放电的发生。半导体评价装置(1)具有:卡盘台(3),其对作为被测定物的半导体装置(5)进行保持;接触探针(10),其用于与保持在卡盘台3)上的半导体装置(5)接触而评价半导体装置5)的电气特性;以及流体吹出部(7),其向半导体装置(5)吹出流体。

    半导体装置
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106068552A

    公开(公告)日:2016-11-02

    申请号:CN201480076887.0

    申请日:2014-03-06

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种半导体装置,该半导体装置能够抑制电气特性的评价时的局部放电的发生,从被测定物的上方进行故障解析。本发明所涉及的半导体装置(1)具有:至少大于或等于1个电极(17);绝缘性的保护层(20),其具有以电极(17)的一部分露出的方式设置的至少大于或等于1个开口部(21),且该保护层形成为将开口部(21)以外的电极(17)覆盖;以及导电层(26),其将保护层(20)及开口部(21)覆盖,在开口部(21)与电极(17)直接连接。

    检查装置
    40.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103543303B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201310232807.3

    申请日:2013-06-13

    CPC classification number: G01R1/0408 G01R1/06705 G01R1/44 G01R3/00

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够容易地抑制绝缘基板的膨胀、翘曲的检查装置。本申请的发明所涉及的检查装置的特征在于包括:绝缘基板(10);插座(12),由在壁面具有贯通孔(12b)的主体部(12a)和固定于该绝缘基板(10)的连接部(12c)一体地形成;以及接触探针(14),可装卸地固定于该插座(12)。

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