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公开(公告)号：CN113688963A
公开(公告)日：2021-11-23
申请号：CN202010420461.X
申请日：2020-05-18
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种激光签注系统，包括双卡槽发卡装置、翻转装置和激光打印装置；双卡槽发卡装置包括第一卡片箱、第二卡片箱及卡片传输机构，第一卡片箱用以提供第一卡片，第二卡片箱用以提供第二卡片，卡片传输机构位于第一卡片箱及第二卡片箱下方；翻转装置设置于双卡槽发卡装置的下方，第一卡片或第二卡片经卡片传输机构传输至翻转装置，翻转装置用于对第一卡片或第二卡片进行翻转；激光打印装置设置于翻转装置的一侧，激光打印装置用于在第一卡片或第二卡片的表面打印标识。本发明的激光签注系统能极大的提高了工作效率。
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公开(公告)号：CN113311593A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202010124112.3
申请日：2020-02-27
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本申请涉及一种三维显示装置，所述三维显示装置包括光源及视点生成装置，所述视点生成装置还包括：视角图像信息调制装置，用于将多视角图像信息加载至所述光源发出的光线以进行振幅调制，形成准直光束；位相信息调制装置，用于对各视角图像信息进行位相调制，使得变换至观察区域的各个视角形成若干个可调目标视点。本申请的三维显示装置能够调控视点的位置、形状、数目及大小，使得各个视角的排布方式更加丰富。
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公开(公告)号：CN113296364A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202010113358.0
申请日：2020-02-24
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种光刻控制方法、装置及存储介质，属于微纳加工技术领域，该方法包括：获取光刻任务；对光刻任务中的所有光刻网点进行分层处理得到n层光刻网点；对每层光刻网点进行区域划分，得到区域内的光刻网点数据；按照每层每个区域内的光刻网点数据进行光刻，直至完成光刻任务；判断是否还有下一个光刻任务，若无，则结束；若有则再次执行光刻任务；可以解决拼接平台自身的定位精度误差无法消除，导致光刻后的目标出现周期暗纹、区域不均的现象的问题；由于不同层光刻网点所属的层区域存在交集，因此，对于需要拼接光刻的部分通过不同层的交集部分可以重新进行振镜扫描，实现拼接部分的过渡，减少平台自身定位精度带来的误差影响。
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公开(公告)号：CN111427237B
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201910024456.4
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种大面积纳米光刻系统，包括工件台、位置反馈系统、干涉光学系统和控制系统，工件台上设有待光刻的光刻基片；位置反馈系统用于测量和计算工件台的误差；干涉光学系统用于产生干涉曝光场，对光刻基片进行干涉光刻，干涉光学系统包括衍射光学器件；控制系统分别与该工件台、该位置反馈系统和该干涉光学系统电性连接；该控制系统控制该衍射光学器件的运动，用以补偿该工件台的误差。本发明的大面积纳米光刻系统能达到大面积纳米结构高精度制备。本发明还涉及一种大面积纳米光刻方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112684677B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110270751.5
申请日：2021-03-12
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构及其制备方法。所述制备方法包括：提供三维模型图；将所述三维模型图在高度方向上进行划分，获得至少一个高度区间；将三维模型图在平面上进行投影得到映射关系，映射关系包括三维模型图上每个点对应在平面上的坐标，三维模型图上每个点的高度对应高度区间里的高度值，根据所述映射关系，将映射关系与曝光剂量进行对应，基于所述曝光剂量进行光刻。这样，可以得到任意三维微纳形貌结构。
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公开(公告)号：CN112987501A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911303595.7
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法，其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置；运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描，并用于发出参考点的位置数据；中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据；光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光；投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑，并在运动机构的带动下沿预设路径扫描，在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化，形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻，并提高了光刻精度和光刻效率。
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公开(公告)号：CN112976823A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201911304521.5
申请日：2019-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B41J2/44 , B41J11/00 , B41J29/393 , B41J3/44
Abstract: 本发明提供了一种激光打印系统，其包括控制系统、打印机台、激光打印装置和无遮挡证卡拍照装置。所述无遮挡证卡拍照装置包括：拍照机架；拍照相机；翻转模块，其包括可转动的设置于所述拍照机架上的第一转轴；平移模块，其用于驱动证卡平移以到达或离开预定拍照位置，所述平移模块包括位于传输通道一侧的若干第一平移上传动轮和若干第一平移下传动轮，若干第一平移上传动轮沿第一转轴的轴向依次设置于所述第一转轴上；若干第一平移下传动轮设置于所述照相机架上，若干第一平移下传动轮位于所述若干第一平移上传动轮的下方且垂直于所述证卡方向放置。这样，可以实现对证卡表面的无遮挡拍照、全景拍照，降低对证卡识别、检验的影响。
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公开(公告)号：CN110109204B
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201910404907.7
申请日：2019-05-15
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种基于塔姆结构的彩色辐射降温器，包括基底，基底自下而上依次设置有金属膜层和电介质层A至电介质层G，其中金属膜层与电介质层A至电介质层D组成塔姆结构，电介质层A至电介质层D组成分布式布拉格反射镜，选择性发射器由电介质层E至电介质层G组成。本发明的有益效果是：与传统的辐射降温器相比，显色的辐射降温器不仅具有降温功能，而且带有颜色使其在美学和装饰性等方面具有广泛应用。本发明提供了一种简化的色差计算方法来寻找与三补色最接近的三种颜色，设计颜色纯度较高，使其组合能得到更多的颜色，并且由于器件的降温效果主要与选择性发射器相关，所以颜色的调控对降温效果影响不大，显色和降温不冲突。
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公开(公告)号：CN112835206A
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201911164578.X
申请日：2019-11-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本申请涉及一种三维显示装置，属于显示技术领域，包括指向性背光板，用于将光源发出的光线进行准直；空间光调制器，用于对接收到光线进行振幅调制，并加载多视角视差图像；谐衍射透镜阵列，用于将接收到的具有不同波长的光线会聚至目标视点；可以解决现有的裸眼3D显示装置的衍射效率低、难以消除零级光的影响的问题；由于谐衍射透镜阵列具有更高的衍射效率，因此可以根据空间光调制器上滤光片的中心波长设计谐衍射透镜阵列的谐衍射的相位因子，使得不同波长的出射光聚焦至空间同一点以实现裸眼彩色3D显示，可以消除色散；同时谐衍射透镜阵列为连续形面，理论衍射效率可以达到100％，可以提高衍射效率，从而提高光能利用率。
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