电子发射器件及其制造方法以及使用该器件的显示装置

    公开(公告)号:CN100373520C

    公开(公告)日:2008-03-05

    申请号:CN02824252.1

    申请日:2002-12-05

    CPC classification number: B82Y10/00 H01J1/312 H01J9/022

    Abstract: 电子发射器件及其制造方法以及使用该器件的显示装置。一种电子发射器件,其包括:由硅、含有硅作为主要成分的混合物以及非晶相的硅化合物中的至少一种制成的电子供应层;形成在所述电子供应层上的绝缘体层;以及形成在所述绝缘体层上的薄膜金属电极。一旦在所述电子供应层和所述薄膜金属电极之间施加电场就发射电子。所述绝缘体层具有构成电子发射部分的至少一个岛区,在该岛区中所述绝缘体层的膜厚逐渐减小。该电子发射器件还包括设置在岛区的顶部、底部和内部中的至少一个上的由碳和碳化合物之一制成的碳区。所述岛区具有在最小厚度部分或其邻近部分中的所述电子供应层内的结晶区,该结晶区由硅、含有硅作为主要成分的混合物以及硅化合物中的至少一种制成。

    量子装置
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1533608A

    公开(公告)日:2004-09-29

    申请号:CN03800686.3

    申请日:2003-03-07

    CPC classification number: B82Y20/00 B82Y10/00 C09K11/59 H01J1/312 H01J9/022

    Abstract: 所公开的是一种电子源10,该电子源包括形成于绝缘基片1一侧表面上的电子源元件10a。电子源元件10a包括下电极2,复合纳米晶体层6和表面电极7。复合纳米晶体层6包括多个多晶硅晶粒51,在每个晶粒51表面上形成的氧化硅薄膜52,存在于相邻晶粒51之间的大量纳米晶体硅63,以及在每个纳米晶体硅63表面形成的氧化硅膜64。氧化硅膜64是厚度小于纳米晶体硅63晶粒大小的绝缘膜。表面电极7是由碳薄膜7a和金属薄膜7b形成,碳薄膜7a层压在复合纳米晶体层6上与其相接触,而金属薄膜7b层压在碳薄膜7a上。

Patent Agency Ranking