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公开(公告)号：CN111537552A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN202010588332.1
申请日：2020-06-24
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明的一种低膨胀材料线膨胀系数测量装置及方法，属于测量技术领域。本发明采用法布里-珀罗干涉仪测量试样的长度，利于提高测量准确性。本发明采用声光调制器产生附加光频移动，利用由同一套稳频激光器、高速光电接收器和频率计数器组成的频率测量系统能够完成对法布里-珀罗干涉仪两个相邻谐振峰的频率测量，在不显著增加系统成本情况下，实现测量试样长度。本发明能够对不同温度下的试样长度进行绝对测量，突破通常法布里-珀罗干涉仪测量范围小的局限，且不需要干涉测长系统连续工作，操作方便。综上，本发明具有测量准确度高、测量范围大、干涉系统结构简单且不需要长时间连续工作等优点，在低膨胀材料线膨胀系数测量方面有重要应用价值。
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公开(公告)号：CN110849466A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911186953.0
申请日：2019-11-27
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明公开的一种光频调制式激励装置及方法，属于光电测量技术领域。本发明主要由激光测振仪、第一λ/2波片、第二λ/2波片、第三λ/2波片、第一偏振分光镜、第二偏振分光镜、第三偏振分光镜、第一透镜、第二透镜、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第三平面反射镜、第一声光调制器、第二声光调制器、FM信号源、任意波发生器、正弦信号源组成。本发明用光频调制方式产生模拟振动的任意波形激励，并能够作为激光测振仪特性测评的激励源，避免振动台等机械运动的技术参数无法完全覆盖测振仪量程的问题，提高激励源的稳定性，实现标准激光测振仪计量溯源。本发明具有更快的上升时间，更宽的频率范围，更大的振幅范围，更复杂多变的波形特征。
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公开(公告)号：CN110849465A
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201911185878.6
申请日：2019-11-27
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明公开的一种任意波形光频调制及溯源装置，属于光电测量技术领域。本发明主要由激光测振仪、第一λ/2波片、第二λ/2波片、第三λ/2波片、第四λ/2波片、第一偏振分光镜、第二偏振分光镜、第三偏振分光镜、第四偏振分光镜、分光镜、第一透镜、第二透镜、第一平面反射镜、第二平面反射镜、第三平面反射镜、第四平面反射镜、第一声光调制器、第二声光调制器、FM信号源、任意波发生器、正弦信号源、光电探测器、滤波放大器、数字示波器、电子计算机组成。本发明在任意波形光频调制装置技术基础上，实现光频调制装置中已调激光信号波形的精确解调，获得其任意波形的解调结果，并将其通过数字示波器的指标参量实现任意波形的溯源。
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公开(公告)号：CN108007392B
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201711306080.3
申请日：2017-12-11
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种动态光电显微镜瞄准信号光调制校准方法及装置，属于光电测量技术领域。方法为：可调控的钟形波电信号加载于发光电子器件之上产生信号光；信号光分为相同的两路，一路信号光经转换变成电信号并传输给上位机；另一路信号光传输给动态光电显微镜，动态光电显微镜输出电信号传输给上位机；两路电信号进行对比，即实现校准。装置包括控制及信息处理模块，调频控制模块，光学输出模块，光学接收模块，动态光电显微镜(校准对象)。用于解决现有动态光电显微镜的瞄准触发动态校准问题，具有较好的适应性和同步测量瞄准测量的评价能力，可以在稳定位置结构的条件下，完成动态光电显微镜瞄准触发信号的动态特性校准。
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公开(公告)号：CN109945778A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201910297168.6
申请日：2019-04-15
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
Abstract: 本发明公开的光频调制法皮米级分辨力大行程激光测量装置，属于精密测量技术领域。本发明主要由干涉测量模块、光学解调模块、细分控制模块、控制及信息处理模块组成。所述干涉测量模块包括光源准直器、第一偏振分光棱镜、第一1/4波片、调制参考镜、FP干涉腔、第二1/4波片、测量镜、第三1/4波片、第二偏振分光棱镜、第一光电接收器、第二光电接收器。采用光频小数调制的方法克服FP干涉腔无法满足长距离干涉测量问题，能够满足激光干涉测量长距离的同时，使其分辨力在原有干涉分辨能力的基础之上进一步提升到皮米量级，实现长距离并具有皮米量级分辨力的激光测量。本发明结构相对简单，易于高精度实现动态特性测量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104677295B
公开(公告)日：2017-10-17
申请号：CN201510063857.2
申请日：2015-02-06
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明涉及一种激光干涉非线性误差自补偿方法及装置，属于激光干涉精密测量技术领域。本发明装置包括干涉测量模块，光学解调制模块，调频控制模块，控制及信息输出模块。用于解决现有激光干涉系统的非线性误差补偿问题，克服了通常激光干涉非线性误差补偿需要物理位移的调整及步进的精细度要求的问题，结构相对简单，并具有较高适应性和同步测量干涉系统误差的特性，可以在无物理位移的条件下，在测量期间完成任意点干涉相位非线性误差自动补偿，提高了干涉测量系统的准确度。
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公开(公告)号：CN107024285A
公开(公告)日：2017-08-08
申请号：CN201710292302.4
申请日：2017-04-28
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01J9/04
CPC classification number: G01J9/04
Abstract: 本发明公开的一种全光纤激光频率测量装置及方法，属于飞秒激光精密测量领域。装置包括待测激光器、光纤飞秒激光频率梳、微波原子钟、光纤分束器、光纤合束器、光纤环路器、可调谐光纤光栅、光纤输入式雪崩光电探测器、光纤输入式波长计、频率计数器。方法实施步骤为：待测激光与频率梳激光经过光纤传输，在光纤合束器上拍频，调谐光纤光栅，选取出产生拍频的频段，通过光纤环路器进入光纤输入式雪崩光电探测器上获得拍频频率；利用重复频率、载波包络偏移频率、拍频频率和波长计粗测频率，获得待测激光频率精确值。本发明能够避免空间光路调节、提高信噪比、易于集成，无需反复更换元件和调整光路，还具有结构简单、操作方便、测量范围宽等优点。
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公开(公告)号：CN104697427B
公开(公告)日：2017-06-09
申请号：CN201510003647.4
申请日：2015-01-05
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01B7/02
Abstract: 本发明属于精密测量领域，具体涉及一种由多个线圈组成的差动变压器式电感位移传感器。由线圈组(1)、移动磁芯(2)、磁套(3)、非导磁输出杆(4)和位移粗测系统组成。线圈组(1)由多个参数完全一致的漆包线圈组成；位移粗测系统的作用是对移动磁芯(2)的位置进行粗测，作为切换线圈组(1)中相应线圈的依据。位移粗测系统得到移动磁芯(2)所处的大致位置，选择临近的线圈作为主线圈和副线圈，形成一个电感位移传感器。改变主线圈与副线圈的位置，在不同的位置形成差动变压器式电感位移传感器，就可以延长电感位移传感器的测量范围。这种结构即保留电感传感器的高精度优点，也克服了其工作范围较小的缺点。
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公开(公告)号：CN106443066A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610849004.6
申请日：2016-09-23
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
IPC: G01P15/03
Abstract: 本发明涉及一种激光多普勒测振法冲击加速度测量方法，属于冲击计量测试技术领域。本发明包括HOPKINSON冲击机、弹体、垫层、HOPKINSON棒、砧体、被校冲击加速度传感器、计算机、数字示波器、差动激光干涉仪、信号适调仪等，以局域窗口内平均值滤波然后差分实现滤波微分的方式获取冲击加速度波形，从而避免了ISO标准推荐方法的倒果为因问题。另外，在平均滤波窗口范围内，以局域端基直线与各个量值点偏差绝对值的平均值作为平均滤波的误差尺度标识函数，将该标识函数值和上升时间与局域平均窗口宽度比的关系曲线作为寻找最佳平均窗口的判据，从而解决了最优滤波的问题。
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公开(公告)号：CN105480940A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201510900078.3
申请日：2015-12-08
Applicant: 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所
CPC classification number: B82B1/001 , B82B3/0019 , B82B3/0066 , B82Y40/00
Abstract: 本发明涉及一种三维纳米节距样板及其制备方法，属于纳米计量技术领域。其特征在于：所述的节距样板材料选用Si(100)单晶结构基底材料与高纯度成膜Cr材料(＞99％)，采用分子束外延技术实现Cr原子在Si(100)基底上的层状结构生长，利用刻蚀技术获得相应的纳米节距结构，然后再次进行外延生长，实现节距样板的研制。本发明从原子层面解决了当前纳米节距样板制备过程不易控制以及制备方法可复现性差的问题，并且由于成膜原子按照层状结构模式生长，不仅可保留刻蚀后的表面界面结构，还可以保持刻蚀的结构深度，消除刻蚀对侧向节距结构的影响，解决Z向刻蚀的不可控问题，实现研制过程对样板三维节距的纳米级控制，为我国纳米节距标准样板提供一种可行的研制方法。
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