一种光栅调控偏振探测器、制备方法及应用

    公开(公告)号:CN118712276A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410879564.0

    申请日:2024-07-02

    Abstract: 本发明涉及一种微电子技术领域,具体涉及一种光栅调控偏振探测器、制备方法及应用,首先选择在透明导电衬底上通过激光直写技术刻蚀形成衬底光栅结构,随后再通过溶液法将活性层与衬底光栅的外表面贴合,由于旋涂厚度均匀,从而使活性层表面形成与衬底光栅结构匹配的目标光栅结构,进而能够在活性层的上端面直接形成需要的光栅结构;通过该方式制备的偏振探测器避免对活性层直接进行加工,保证活性层表面完好,提高偏振探测器的偏振特性、长期稳定性以及光响应特性;而且通过激光在透明导电衬底上加工衬底光栅结构,进一步实现活性层上大面积、短周期微纳光栅结构的形成,满足实际使用需求。

    一种产生球形聚焦光斑的方法及光学系统

    公开(公告)号:CN116594184A

    公开(公告)日:2023-08-15

    申请号:CN202310345922.5

    申请日:2023-04-03

    Abstract: 本发明提出了一种产生球形聚焦光斑的方法及光学系统,属于光学成像技术领域,其方法包括:1)折射掩膜版将入射激光束分割成不同区域,并将不同区域的光基于折射原理进行偏转;2)聚焦镜将偏转后的光成像至焦平面的不同位置,形成球形聚焦光斑。本发明基于折射性掩膜版的折射原理和聚焦镜的成像原理实现焦点强度的调控,在焦平面处呈现出球形对称的单光束焦斑,即球形聚焦光斑,整个方法操作简单,具有通用性和普适性,在激光三维制造技术、显微成像技术和激光测量技术方面具有重要的使用推广意义。

    一种无基底超薄功能薄膜材料及制备方法

    公开(公告)号:CN112960657B

    公开(公告)日:2022-11-08

    申请号:CN202110150339.X

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明属于功能薄膜器件技术领域,公开了一种无基底超薄功能薄膜材料及制备方法,通过化学或物理刻蚀的方式将蒸镀、溅射、沉积在基底材料上的薄膜分离出来,然后在液体环境中将薄膜材料转载到带有中间孔的基片上,进而在基片的中孔区域形成无基底的功能薄膜材料。本发明在制备薄膜材料时具有可重复性,通过重复转载工艺可以实现多层无基底超薄功能薄膜的制备,并且可以调控薄膜之间的旋转角度。解决了功能薄膜材料离开基底难以稳定存在的难题,可广泛应用于分子筛选、离子过滤、强场物理中的固体密度等离子体靶的制备当中;广泛适用于沉积在各种基底上的各种薄膜材料,只需要根据基底材料的不同改变刻蚀液的配比。

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