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公开(公告)号：CN112731767A
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201910974007.6
申请日：2019-10-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种温度控制装置，安装于激光直写设备上，激光直写设备包括架体、设置在架体内用以进行激光直写的工作区域、位于工作区域上方的密闭区域、位于工作区域下方的温控区域及与工作区域、温度控制装置信号连接的控制器，温度控制装置包括：温度传感器，设置在工作区域内以检测工作区域内的温度；冷水机，与温度传感器信号连接；风道机构，竖向设置在工作区域内且连接温控区域及密闭区域；冷凝翅片，设置在温控区域内且连接冷水机及风道机构；风扇，设置在风道机构上；风机过滤器，设置在密闭区域内且用以将流向至工作区域的气流过滤。本申请的温度控制装置能够集成至激光直写设备上，且控温精度高。
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公开(公告)号：CN108790150B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN111427238A
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910024774.0
申请日：2019-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种激光直写系统，包括服务器及第一终端，所述服务器上部署有数据处理模块，所述第一终端上部署有用户主程序、套刻对准模块、运动控制模块、曝光计量控制模块及图形发生模块，所述服务器与所述第一终端通过局域网络进行通信连接，所述用户主程序分别与所述套刻对准模块、所述运动控制模块、所述曝光计量控制模块、所述图形发生模块及所述数据处理模块通信连接，且将所述服务器中的数据处理模块的存储硬盘通过局域网络映射到所述第一终端上，以作为所述服务器与所述第一终端的共用存储盘。本发明提供的一种激光直写系统，能够降低软件后期维护的复杂性，并降低数据处理程序过于占用资源的影响，提升用户主程序流畅度。
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公开(公告)号：CN111319264A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201811544100.5
申请日：2018-12-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/386 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种应用于3D打印设备的数据处理方法，包括：确定切片的分层数目；确定STL模型中与每个切片相交的所有三角形面片；将每个切片按X轴方向或Y轴方向中其中一个轴方向分成若干列，每一列中至少含有一条与列方向相同的扫描线，确定每条扫描线与切片中三角形面片所相交的交点以及交点的坐标；将每条扫描线上的交点按照坐标的大小进行排序；将所有扫描线上的交点转换成对应的像素坐标，再将每条扫描线上奇数交点和奇数交点下一个相邻的偶数交点之间的所有像素填充连接；将切片中所有扫描线经过处理，得到切片填充的位图图形。本发明不用对STL模型建立拓扑信息，避免了大量计算和排序，提高了数据处理的效率。
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公开(公告)号：CN111844736B
公开(公告)日：2025-05-09
申请号：CN201910340369.X
申请日：2019-04-25
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/135 , B29C64/336 , B29C64/245 , B29C64/194 , B22F3/105 , C12M3/00 , B33Y30/00 , B33Y40/00
Abstract: 本发明提供一种三维打印系统、利用其制作金属微納结构和在薄膜衬底上制作微納结构的方法。所述三维打印系统包括：输送透明薄膜传送带输送的传送机构，上料机构，设置于机台的投影窗口上方的透明支撑板、载物机构和成像机构。所述上料机构包括设置于所述透明薄膜传送带的上方的至少一个上料装置，所述载物机构包括载物板和载物驱动部件，所述载物驱动部件驱动所述载物板靠近或远离所述透明薄膜传送带；所述成像机构位于所述机台的投影窗口下方，用于产生预定投影图案。本发明中的三维打印系统不仅可以实现正常的三维打印，还可以在薄膜衬底上制作微納结构，并且还可以制作金属微納结构。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113495432B
公开(公告)日：2025-04-22
申请号：CN202010269164.X
申请日：2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种光刻设备，包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块，所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置，所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本发明还公开了一种光刻方法，利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块，以使光刻设备能实时检测曝光能量，保证了光刻效果，提高了光刻效率，提升了产品的良品率。
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公开(公告)号：CN118444494A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202310081167.4
申请日：2023-02-03
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明提供一种裸眼3D显示装置，包括光源、背光屏幕和显示屏幕；所述背光屏幕设置在所述光源的出射光路上，所述显示屏幕设置在所述背光屏幕的出射光路上，所述背光屏幕上形成有多组像素阵列，每组所述像素阵列包括多个像素，每个所述像素包括微纳结构，用于将入射光线衍射至对应的视点；所述显示屏幕用于提供多视角图像，以及对来自所述背光屏幕提供的入射光线进行振幅调制，根据所述多视角图像和调制后的入射光线生成3D立体影像进行显示。实现具有光源兼容性高、光源利用效率更高效、制作难度更低、无视觉疲劳、宽色域和大幅面等优点的裸眼3D显示装置。
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公开(公告)号：CN114913559B
公开(公告)日：2024-06-21
申请号：CN202110179852.1
申请日：2021-02-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
IPC: G06V40/13 , G06V10/147 , G02B3/00
Abstract: 本发明涉及一种微透镜阵列成像组件的生产装置及制备方法，该微透镜阵列成像组件的生产装置通过传输系统传输基底，使基底依次通过出胶系统、压印系统、喷涂系统、显影系统和清洁系统，以依次完成在基底上涂覆胶水、在基底上压印出微透镜阵列、在基底正面和背面涂覆黑色光阻材料和挡光材料并在基底背面进行曝光、向基底正面喷涂显影剂以及对基底进行清洁，从而制备得到高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
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公开(公告)号：CN117666292A
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202211462987.X
申请日：2022-11-22
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 南京大学 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种用于偏振干涉光刻的光路结构与偏振干涉光刻系统，所述光路结构包括串接在光路上的光源模块、偏振组件、分光组件、成像组件；所述光源模块用于产生具有相干特性的线偏振光束；所述分光组件用于将射入的光线分出两束光线且射向所述成像组件，两束光线的夹角可变且可绕入射光线光轴旋转，所述成像组件用于将两束光线汇聚在光刻基片表面；所述分光组件配合所述偏振组件用于将线偏振光进行光学调制，使光束到达光刻基片时为两束偏振方向相反的圆偏振光，进而形成偏振干涉光场。本发明建立偏振干涉光刻系统，通过控制分光组件和偏振组件，能调节光场中偏振结构的周期、取向等参量，与偏振感光材料进行光化学作用，形成特定的偏振图形分布，偏振光刻系统根据预定义的偏振图形设计文件，控制上述偏振光场参量与基片的坐标走位，进行光场拼接光刻，在光刻基片上形成预期的偏振图形分布。
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公开(公告)号：CN116750712A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202210051875.9
申请日：2022-01-17
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
Abstract: 一种多层微结构仿生干黏附结构、模具及其制备方法，多层微结构仿生干黏附结构包括多个多层微结构单元，每一所述多层微结构单元包括底层的微米级柱体结构、中间层的微米级蘑菇头结构，以及顶层的纳米阵列结构，其中纳米阵列结构为纳米柱阵列结构或者纳米孔阵列结构。本发明提供的多层微结构仿生干黏附结构、模具及其制备方法，通过设置顶层的纳米阵列结构，使得微结构与物体面之间的接触端由微米量级的蘑菇头“面结构”变成纳米量级的纳米珠阵列或纳米孔阵列的“点结构”，增加了接触面积，进一步提升产品的黏附性能，结构稳定性更强。
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