公开(公告)号：CN103777474B

公开(公告)日：2016-03-23

申请号：CN201410076822.8

申请日：2014-03-04

Applicant: 苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  胡进 ,  朱鹏飞 ,  魏国军 ,  袁晓峰 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种并行激光直写系统及光刻方法，通过设置两个或多个图形发生器，将不同的图形发生器按不同的角度放置，使得每个角度的斜线都能通过对应图形发生器中的水平或垂直直线像素进行显示，从而消除了原有的斜线上的锯齿现象，并保证了直线和斜线之间的线宽相等，提高了图形的线宽均匀性，使得光刻工艺的精度和品质得到改善。

公开(公告)号：CN103279014B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201310236124.5

申请日：2013-06-14

Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 ,  苏州大学

Inventor： 浦东林 ,  魏国军 ,  袁晓峰 ,  朱鸣 ,  朱鹏飞 ,  胡进 ,  陈林森

IPC: G03F7/20 ,  B82Y40/00

Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。

公开(公告)号：CN102621824B

公开(公告)日：2014-04-30

申请号：CN201210114482.4

申请日：2012-04-18

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括：加工平台，实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动；空间光调制器，产生设计图形；投影光学系统，包括第一透镜组、第二透镜组和滤波器，所述滤波器设于所述第一透镜组和第二透镜组之间且位于所述第一透镜组的频谱面上。申请的光学加工系统和方法实现的灰度等级不依赖于曝光时间和曝光次数，可以在极短曝光时间内和单次曝光的条件下实现准确的灰度等级，因而完全适用于飞行曝光加工方式，加工效率和定位精度高。

公开(公告)号：CN103729673A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201410042013.5

申请日：2014-01-28

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 魏国军 ,  陈林森 ,  浦东林 ,  朱鹏飞 ,  申溯 ,  胡进 ,  叶燕 ,  朱昊苏

IPC: G06K19/06 ,  G06K7/10

Abstract: 一种三维码及其制备方法，该三维码包括多个空间复用的二维编码图形，所述空间复用是指将多个二维编码图形以不同的角度记录在记录材料表面的同一空间处，解码时，利用识读引擎以记录时对应的角度进行识读，从而分别解码出特定角度下记录的二维编码图形字符。与二维码相比，该三维码增加空间利用率、提高了信息容量，通过多视角通道的复用和信息的相互验证，提高了二维码使用和识别的安全性。

公开(公告)号：CN103424996A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310395256.2

申请日：2013-09-03

Applicant: 苏州大学

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291

Abstract: 一种光学加工系统和方法，该系统包括光学系统、载台、驱动系统，以及控制系统，该光学系统包括一空间光调制器作为该光学系统图形发生装置，所述空间光调制器具有若干像素单元，每个像素单元为反射镜，所述空间光调制器在进行图形生成时，参与构建图形的像素单元的反射镜统一翻转相同的角度γ，使得该空间光调制器构成一个以γ为闪耀角的光栅结构，所述光栅结构对入射光进行衍射分光，使光学系统获得至少两束能够形成干涉的相干光，所述光学系统利用上述相干光完成干涉直写复合光刻，从而使普通的激光直写技术的分辨率大大提高。

公开(公告)号：CN103424795A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201310395380.9

申请日：2013-09-03

Applicant: 苏州大学

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G02B5/18 ,  G03F7/20

CPC classification number: G02B5/1861 ,  G03F7/70408

Abstract: 一种反射式分光光栅及干涉光刻系统，该反射式分光光栅包括位于反射面的光栅槽形区和位于该光栅槽形区外围的阻光区，所述光栅槽形区包括周期性分布的光栅结构，该光栅结构具有槽形反射面和非反射区，所述槽形反射面与光栅基面之间形成一斜角。该反射式分光光栅能够实现对±1级光的最大调制，使得反射出去的分束光具有最高的能量利用率，通过该反射式分光光栅的获得的干涉图形，具有良好的边界质量，能够完成进行精密的拼接图形，使得大幅面干涉光刻技术得到显著的提升。

公开(公告)号：CN102418302B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN201110323728.4

申请日：2011-10-21

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 陈林森 ,  温源 ,  周小红 ,  魏国军 ,  浦东林 ,  胡进 ,  朱鹏飞 ,  刘晓宁 ,  杨颖 ,  申溯

IPC: D21H21/48

Abstract: 一种光学隐形水印安全纸。该安全纸利用亚波长光栅作为水印图像的像素点，使水印图像只有在掠射光入射时，才能在特殊的掠射角度下被观察到，既实现了反射性的光学水印、提高了光学水印的制作门槛，使水印图像的仿制难度大大增加，又简化了水印图像的可观察性，不需要使用额外的特殊工具就能在普通光源下看到。因此，本发明提出的具有光学隐形水印的安全纸具有广泛的应用领域。

公开(公告)号：CN102566325B

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201210076272.0

申请日：2012-03-21

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了一种光学加工系统，包括加工平台、光学投影镜头、光学模板、中央控制系统、位置补偿系统和光源。其中，位置补偿系统包括位置检测系统、空间光调制器和位置信号处理模块。本发明的光学加工系统中，加工平台实现第一运动轴的步进运动和第二运动轴的扫描运动，光学模板或光学投影镜头实现第三运动轴的扫描运动，通过空间光调制器对第二运动轴方向上的曝光位置进行动态补偿，实现了第二运动轴和第三运动轴这两个扫描轴的精确高速同步，从而能够以“两轴扫描、一轴步进”的方式实现三维加工，其加工效率和加工精度大幅提升。

公开(公告)号：CN102331687B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201110323729.9

申请日：2011-10-21

Applicant: 苏州大学 ,  苏州苏大维格光电科技股份有限公司

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  魏国军 ,  朱鹏飞 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种步进式光学加工系统和光学加工方法，该系统包括加工平台、光学头、中央控制系统和位置补偿系统，其中位置补偿系统包括空间光调制器、位置检测系统和图形控制器，所述空间光调制器具有位置补偿区，该空间光调制器上显示的加工图形可以在该位置补偿区中偏移，通过加工图形的偏移来补偿由机械运动产生的位置误差，提高了加工的精度和效率。本发明还提供了一种使用上述光学加工系统的光学加工方法。

公开(公告)号：CN102998914A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201210591299.3

申请日：2012-12-31

Applicant: 苏州大学

Inventor： 胡进 ,  浦东林 ,  陈林森

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种直写式光刻加工系统和光刻方法，该光刻加工系统包括能够运用傅立叶展开计算功能的控制系统和由该控制系统控制实现多次光刻的曝光系统。该光刻方法依据傅立叶分析原理，将待刻曲面展开为傅立叶多项式，然后根据多项式中各项余弦函数进行多次光刻，使得多此光刻叠加后实现目标曲面的刻蚀。通过本发明的实施，能够对任意大幅面的三维曲面进行刻蚀，并且具有较高的设计灵活性、刻蚀效率和精确度，以及较低的成本等优点。