一种蓝光InP/ZnS量子点及其制备方法和在QLED中的应用

    公开(公告)号:CN112625681B

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202011585748.4

    申请日:2020-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种蓝光InP/ZnS量子点及其制备方法和在QLED器件中的应用,本发明将铟源、磷源、碘化锌、油胺、硬脂酸锌、1‑十二硫醇、1‑十八烯置于50ml烧瓶中,在氮气的环境下,控制不同温度和反应时间分别形成InP核和ZnS外壳,进而得到发出纯蓝光的InP/ZnS量子点。本发明利用一锅法合成InP/ZnS量子点与传统的方法相比,简单更节省时间,且合成的量子点壳与核之间的晶格失配度更低,缺陷更少,具有更高的荧光量子效率,传统的方法合成的蓝色量子点发光峰波长大都为470nm以上,而本发明的量子点发光峰波长为470nm以下为纯蓝光,制备的QLED相对比镉系量子点具有无毒的优势,更有利于商业化。

    一种倒置结构量子点发光二极管及其制备方法

    公开(公告)号:CN112510163A

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN202011427013.9

    申请日:2020-12-09

    Abstract: 本发明涉及一种倒置结构量子点发光二极管及其制备方法。采用平面层状多膜层结构,包括基板、阴极层、电子传输层、LB膜修饰层、量子点发光层、空穴传输层、空穴注入层以及阳极层;其中,所述LB膜修饰层是利用LB拉膜机制备的有机聚合物薄膜,以LB膜修饰层对电子传输层/量子点发光层进行界面修饰。本发明LB膜修饰层是利用LB拉膜机制备的有机聚合物薄膜,其制备方法简单,聚合物分子有序排列,膜厚精准可控等优点,可以通过重复LB拉膜步骤实现对有机聚合物LB膜层数的控制。以这种高质量LB膜作为器件的界面修饰层,不仅可以精准限制电子注入进一步提高电荷平衡,还可以钝化界面处的缺陷提高辐射复合效率,从而有效提高量子点发光二极管的性能。

    一种利用感应加热制备石墨烯的方法

    公开(公告)号:CN103641110A

    公开(公告)日:2014-03-19

    申请号:CN201310712919.9

    申请日:2013-12-23

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种利用感应加热制备石墨烯的方法,包括以下步骤:S01:提供一密闭的反应器,且该反应器的外壁绕有复数个感应器线圈,并将金属衬底放置于该反应器中;S02:在该反应器中通入非氧化性气体一预设时间后,向所述复数个感应器线圈两端口通入交流电;S03:当该金属衬底的温度达到一预设温度时,在所述非氧化性气体中通入含碳化合物气体作为碳源;S04:反应进行一预定时间后,停止通入该含碳化合物气体,同时关闭电流并继续通入所述非氧化性气体制冷至室温;S05:取出所述金属衬底。本发明利用感应加热制备石墨烯,加热及降温速度快,加热位置和面积可控,操作方便可实现石墨烯的大面积快速制备。

    一种基于毛细效应驱动量子点自组装制备高分辨量子点发光二极管的方法

    公开(公告)号:CN118843366A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202410813192.1

    申请日:2024-06-21

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于毛细效应驱动量子点自组装制备高分辨量子点发光二极管的方法,属于发光二极管等发光器件技术领域。按照基板‑空穴注入层‑空穴传输层‑发光层‑电子传输层‑金属电极的顺序制备高分辨率量子点发光二极管,其中发光层的制备方法为:首先通过热纳米压印聚合物形成条形沟槽,将量子点通过溶液法沉积到聚合物沟槽中,在毛细效应驱动下,量子点会向聚合物沟槽内壁移动并堆积成量子点条纹,将沉积有量子点阵列的聚合物衬底转印至基板后,将基板浸入热溶剂中以将聚合物去除,留下发光量子点阵列。本发明方法操作简易,产率高,适用于高分辨率量子点发光二极管的大规模产业化生产。

    一种制备具有阻挡层的高分辨全彩量子点发光二极管的方法

    公开(公告)号:CN118647247A

    公开(公告)日:2024-09-13

    申请号:CN202410773674.9

    申请日:2024-06-17

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明提供一种制备具有阻挡层的高分辨全彩量子点发光二极管的方法,其全彩发光层通过以下方法进行制备:首先通过热纳米压印聚合物形成条形沟槽,将不发光的材料通过溶液法沉积到聚合物沟槽中形成条纹;然后通过溶液法沉积第一量子点至所述条纹之间的空隙中,接着将成型后的量子点纵向转印到基板上,之后将基板浸入热溶剂中将聚合物洗去,以留下被不发光条纹裹夹的第一量子点条纹;再用同样的方法横向转印制备第二量子点条纹;最后将第三量子点通过溶液法沉积到第一、第二量子点的交叉条纹的空白位置中,形成被不发光条纹阻隔的全彩量子点阵列。

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