公开(公告)号：CN104241185A

公开(公告)日：2014-12-24

申请号：CN201410280327.9

申请日：2014-06-20

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 宫崎充 ,  井上拓也

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67046 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68728

Abstract: 一种基板保持装置，具有：对基板(W)的周缘部进行保持的夹头(1)；配置在基板(W)下方的支承部件(5)；以及驱动装置(7)，该驱动装置(7)使夹头(1)移动至与基板(W)的周缘部接触同时使支承部件(5)上升并与基板(W)下表面接触，此外驱动装置(7)使夹头(1)向离开基板(W)周缘部的方向移动同时使支承部件(5)下降并离开基板(W)的下表面。该基板保持装置能够避免与输送用自动装置的机械手接触，并能够减少晶片等的基板的挠曲量。

公开(公告)号：CN303504280S

公开(公告)日：2015-12-16

申请号：CN201530194431.1

申请日：2015-06-12

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  山口都章 ,  丰村直树 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为修整盘。2.本外观设计产品是在半导体制造用化学机械研磨(CMP)装置等中与研磨垫接触来进行修整的修整盘，在底面侧的孔中插入定位销，并且通过磁铁等的吸附力来固定在保持器上使用，俯视图平坦面部分的全部或一部分是粘固有金刚石磨粒等的修整面。3.本外观设计为针对同一产品的2项相似外观设计，其中指定设计1为基本设计。4.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。5.指定设计1立体图为最能表明设计要点的视图。6.由于设计1、设计2各自的后视图、左视图、右视图分别与设计1、设计2各自的主视图相同，故省略设计1、设计2各自的后视图、左视图、右视图。

公开(公告)号：CN306604283S

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN202030675160.2

申请日：2020-11-09

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 藤本友章 ,  宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：基板清洗用辊轴。
2.本外观设计产品的用途：本外观设计产品是用作插入到对施加了研磨处理后的基板（半导体晶片等）表面上附着的研磨屑等进行清洗的基板清洗用辊中的轴。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：主视图。
5.仰视图与俯视图对称，省略仰视图;左视图与右视图对称，省略左视图。

公开(公告)号：CN302902369S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430061100.6

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。

公开(公告)号：CN302902372S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430062318.3

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。

公开(公告)号：CN302902371S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430062317.9

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。

公开(公告)号：CN302902370S

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201430062316.4

申请日：2014-03-21

Applicant: 株式会社荏原制作所

Designer： 宫崎充 ,  井上拓也

Abstract: 1.本外观设计产品的名称为衬底清洗用辊轴。2.本外观设计产品是在衬底清洗中使用的轴，具体而言，是用于插入到对研磨处理后的衬底(半导体晶片等)表面上附着的研磨屑等进行清洗的衬底清洗用辊中的轴。3.本外观设计产品的设计要点在于产品的形状。4.指定主视图为最能表明设计要点的视图。5.由于后视图与主视图对称，故省略后视图，由于仰视图与俯视图相同，故省略仰视图。