半导体器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN1347158A

    公开(公告)日:2002-05-01

    申请号:CN01132885.1

    申请日:2001-09-12

    Abstract: 为折衷关断特性和导通特性,在衬底一面上形成N型缓冲层和低注入发射极构造的P型集电极层10。N型漂移层的厚度确保耐压。在衬底另一面上形成P型基极层、N型发射极层以及P型接触层。N型低电阻层降低了结型场效应晶体管效果。发射极电极与N型发射极层以及P型接触层连接,集电极与P型集电极层连接。栅电极被形成在P型基极层表面部分的沟道区域上的栅绝缘膜上。

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