膜结构
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1485692A

    公开(公告)日:2004-03-31

    申请号:CN03155178.5

    申请日:2003-08-25

    CPC classification number: G03F1/62 Y10T428/161 Y10T428/3154

    Abstract: 用波长为100-200nm的光进行光刻制图方法用的膜结构,它具有由以下含氟聚合物(A)制成的薄膜:含氟聚合物(A):一种基本线型的含氟聚合物,在其主链上有脂环结构。主链由碳原子组成,并符合下列要求(1)和(2):(1)主链上的碳原子包含连有至少一个氢原子的碳原子和不连氢原子的碳原子,(2)在用高分辨率核磁共振波谱进行测量时,基于总氢原子数,在大于2.8ppm的高磁场区出现的信号的氢原子个数至多为6mol%。

    聚碳酸酯的制造方法和聚碳酸酯

    公开(公告)号:CN105121505B

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201480021852.7

    申请日:2014-04-08

    CPC classification number: C08G64/28 C08G64/307

    Abstract: 本发明涉及具有下述工序(a)和工序(b)的聚碳酸酯的制造方法:(a)在缩合催化剂的存在下使特定的含氟碳酸酯(化合物(1)等)与芳香族二羟基化合物反应而得到预聚物的工序;和(b)在低于该预聚物的熔融温度的温度下将上述预聚物加热,在将伴生的含氟醇排出到体系外的同时,使该预聚物固相聚合而得到聚碳酸酯的工序。

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